一种优化合成石英玻璃均匀性的热处理方法与流程

技术特征：
1.一种高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于，包括以下步骤，s1、对二氧化硅预烘的同时进行抽真空处理，在第一阶段热处理之前停止抽真空，补充氮气保证炉内气体微正压，后升温实现第一阶段热处理；所述升温分为两次升温，分别为一次升温和二次升温；所述二次升温是以5
‑
7℃/min的速率升温至1100
‑
1180℃，后保温4
‑
12h；s2、在s1步骤所述的第一阶段热处理后进行降温，后升温实现第二阶段热处理；所述升温分为两次升温，分别为一次升温和二次升温；所述降温是以1
‑
2℃/min的速率降温至800
‑
950℃，后保温3
‑
12h；所述二次升温是以0.2
‑
0.5℃/min的速率升温至1100
‑
1180℃，后保温6
‑
24h；s3、在s2步骤所述的第二阶段热处理后，降温、退火处理，冷却得到所述高均匀性石英玻璃。2.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s1步骤中，所述抽真空处理的真空度达到4
×
10
‑4‑7×
10
‑4pa。3.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s1步骤中，所述二氧化硅的线径小于150mm。4.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s1步骤中，所述二氧化硅的纯度为99.999998％以上。5.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s1步骤中，所述预烘是300
‑
400℃预烘0.5
‑
3h；预烘的升温速率为5
‑
20℃/min。6.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s1步骤中，所述一次升温后的温度为750
‑
850℃，一次升温的速率为8
‑
10℃/min。7.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s2步骤中，所述一次升温后的温度为1000
‑
1050℃；一次升温的速率为0.5
‑
0.8℃/min。8.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s3步骤中，所述降温后的温度为500
‑
700℃，降温的速率为0.1
‑
0.2℃/min。9.根据权利要求1所述的高均匀性石英玻璃的热处理方法，其特征在于：在s3步骤中，所述冷却后的温度为20
‑
40℃。10.根据权利要求1
‑
9任一项所述的热处理方法制备的高均匀性石英玻璃的。

技术总结
本发明涉及一种优化合成石英玻璃均匀性的热处理方法，属于石英制备技术领域。本发明所述的热处理方法经过预烘、第一阶段热处理、降温、第二阶段热处理、降温、冷却工艺，制备的石英玻璃内部的应力被完全消除，石英玻璃均匀性扩散，同时还保证了材料不会发生变形。本发明所述的热处理方法，减少杂质污染，降低了能源消耗。源消耗。源消耗。


技术研发人员：张玉 肖华 南晶 刘宝 钟媛
受保护的技术使用者：江苏亨通智能科技有限公司
技术研发日：2021.10.11
技术公布日：2021/12/7