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一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法与流程

2021-12-04 13:33:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,它包括彩陶生产的常规的制备坯胎方法即练泥拉坯,其特征在于,还包括如下步骤:(1)调节坯胎含水率达到20~30%,根据浅浮雕纹饰需要,制作冷压转移电化铝箔印版,冷压转移电化铝箔印版与坯胎一致,在胚胎表面按照浅浮雕图案刷涂无机胶凝剂,将冷压转移电化铝箔印版背面刮成毛糙状,冷压转移电化铝箔在坯胎表面的浅浮雕部位上,贴紧,除去无图案的边角铝箔;(2)在电化铝箔图案上再描涂一层0.2~0.4g/cm2的无机胶凝剂;(3)在胎体表面上施酱红色化妆土和一层白色化妆土后进行剔划,再入窑素烧,取出后再罩上一层透明釉,之后第二次入窑烧造,即得浅浮雕彩陶。2.根据权利要求1所述的一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,其特征在于,所述步骤(3)第二次入窑烧造工艺为用13.5m多孔推板窑进行烧造,烧成温度为1020~1060℃,烧成周期为14~16h。3.根据权利要求1所述的一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,其特征在于,所述步骤(1)冷压转移电化铝箔工艺为坯胎冷烫无机胶凝剂转印,即预设的浅浮雕区域涂刷无机胶凝剂0.2~0.4g/cm2,将无机胶凝剂与冷压转移电化铝箔印版进行覆合,无机胶凝剂在辊筒压力1.4~2.2mpa作用下,将浅浮雕需要的部分转印到坯胎表面,形成浅浮雕图案,冷压转移电化铝箔印版不与无机胶凝剂接触的部位通过剥离除去。4.根据权利要求1所述的一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,其特征在于,采用压力式喷釉机对进行施透明釉,压力为147~196kpa,施釉厚度控制在0.2~0.3mm。5.根据权利要求1所述的一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,其特征在于,所述步骤(1)无机胶凝剂为含质量比5~10%氧化铁粉的模数2.6~2.8的钾水玻璃。6.根据权利要求1所述的一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,其特征在于,所述步骤(3)素烧工艺为25℃至350℃升温时间为1h,300~1000℃升温速度为3℃/min,950~1140℃升温速度为5℃/min,1140℃保温处理25~30min后,随炉冷却至25℃。

技术总结
本发明公开了一种浅浮雕彩陶的生产工艺方法,属于彩陶加工技术领域,本发明主要利用釉下冷压转印工艺得到釉下浅浮雕图案砖,生产工艺简便,成本较低,效益显著,釉面热稳定性好,机械强度高,耐蚀性强,经久耐用,产品的图案纹饰可以获得浅浮雕效果,丰富素雅,美观大方,既可大面积装饰,也可局部点缀,利用铝热反应浮雕印花釉料与面釉不同成分、不同性质在高温下具有不同粘度熔融情况,釉熔体内部流体各自相对移动所受内摩擦阻力不同,因而熔融流动状态不一而形成釉面凹凸来达到浅雕装饰效果,本产品其工艺简便、成本低、效率高、质量好,是实用、经济、美观的浅浮雕彩陶工艺方法。美观的浅浮雕彩陶工艺方法。


技术研发人员:卢群海 卢皆彬
受保护的技术使用者:界首市东城群海彩陶工作室
技术研发日:2021.09.06
技术公布日:2021/12/3
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