光掩模总成、其形成方法以及包括其的曝光工具与流程

技术特征：
1.一种光掩模总成，包括：光掩模；护膜框架，安装到所述光掩模，包括一个或多个应力释放沟槽；以及护膜，安装到所述护膜框架。2.根据权利要求1所述的光掩模总成，其中所述一个或多个应力释放沟槽形成在所述护膜框架的面对所述护膜的顶表面中。3.根据权利要求1所述的光掩模总成，其中所述一个或多个应力释放沟槽将在所述护膜发生变形期间所述护膜接触所述护膜框架时允许所述护膜框架变形。4.根据权利要求1所述的光掩模总成，其中所述一个或多个应力释放沟槽将在所述护膜发生变形期间减小由所述护膜框架施加在所述护膜上的力的大小。5.根据权利要求1所述的光掩模总成，还包括：缓冲层，位于所述护膜框架的顶表面的第一部分上，其中所述一个或多个应力释放沟槽形成在所述顶表面的第二部分中，且其中所述第一部分与所述第二部分是所述顶表面的不同部分。6.一种光掩模总成的形成方法，包括：在衬底中形成多个应力释放沟槽；在形成所述多个应力释放沟槽之后，在所述衬底上形成缓冲层；在所述缓冲层上形成护膜；对所述衬底进行刻蚀，以形成用于在上面安装所述护膜的护膜框架；以及移除位于所述护膜框架与所述护膜之间的所述缓冲层的一部分。7.根据权利要求6所述的方法，还包括：在所述护膜上形成冷却层。8.根据权利要求6所述的方法，其中形成所述缓冲层包括：在所述衬底周围形成所述缓冲层；其中在所述缓冲层上形成所述护膜包括：在所述缓冲层周围形成所述护膜；且其中所述方法还包括：对所述缓冲层及所述衬底进行刻蚀，以形成所述护膜框架。9.一种曝光工具，包括：辐射源；一个或多个光学组件；以及光掩模总成，包括：光掩模；护膜框架，安装到所述光掩模；以及护膜，安装到所述护膜框架，其中所述护膜框架包括多个应力释放沟槽，以在所述曝光工具的操作期间允许所述护膜框架与所述护膜一起变形。10.根据权利要求9所述的曝光工具，其中所述多个应力释放沟槽将在所述曝光工具被加压时允许所述护膜框架与所述护膜一起变形。

技术总结
一种光掩模总成可被形成为使得在光掩模总成的护膜框架中形成应力释放沟槽。应力释放沟槽可减少或防止原本可因护膜发生变形所导致的护膜的损坏。应力释放沟槽可形成在护膜框架的区域中，以使得护膜框架能够与护膜一起变形，从而减少护膜框架对护膜造成的损坏量。从而减少护膜框架对护膜造成的损坏量。从而减少护膜框架对护膜造成的损坏量。


技术研发人员：李国豪 张佑诚 潘汉宗 翁睿均 钟久华 林生元 陈信宇
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日：2021.09.10
技术公布日：2021/12/3