具有低可见光反射率的平视显示器的涂层的制作方法

具有低可见光反射率的平视显示器的涂层
1.相关申请的交叉引用
2.本技术享有并要求2020年2月14日提交的美国临时申请号62/976,645和2019年3月28日提交的美国临时申请号62/825,326的优先权，其公开内容通过引用并入。
3.发明背景
发明领域
4.本发明总的涉及车辆透明物，例如车辆风挡，并且在一种特定实施方案中，涉及平视显示器。
5.技术考虑
6.常规的汽车平视显示器(hud)使用在仪表板中的电磁辐射源，其将光向上投射至风挡，然后反射至驾驶员的眼睛，从而产生车辆数据的虚拟图像，使得驾驶员获得关于车辆工作的信息而不必把目光从道路移开。对于以通常在常规车辆中发现的角度从风挡反射的电磁辐射和通常非偏振的光源例如发光二极管(led)，反射光主要是s
‑
偏振的，而少得多的光分量是p
‑
偏振的。在极端情况下，如果电磁辐射向风挡的入射角度是空气与玻璃界面的布儒斯特角(大约57
°
)，则p
‑
偏振反射为百分之零。
7.来自辐射源的光(主要是s
‑
偏振的)由于在空气和玻璃之间折射率不匹配将从风挡的最内表面和风挡的最外表面反射。这导致形成两个反射图像，每个表面一个。在hud中形成的多个图像是被称作“重影”的现象，并且消除或最小化“重影”的存在是hud技术的目标。解决重影的常规方法是通过在风挡的内和外玻璃片之间使用楔形乙烯基层来调节两个玻璃片的几何形状从而对齐两个反射图像。这个楔形乙烯基塑料提高风挡的成本,还提高制造风挡的复杂性。
8.还期望施加涂层到至少一个玻璃片从而向风挡提供日光控制、加热和/或天线功能。这个额外的涂层导致风挡内第三个折射率不匹配，其导致第三反射，和在hud系统上的第三反射图像，这难以通过楔形乙烯基层来补偿。
9.因此，本领域中需要减小或消除这些问题中一个或多个的系统和/或部件。例如，将期望提供投射对驾驶员可见的图像的hud系统，其减小或消除重影,同时改进日光性能和降低能量。
10.发明概述
11.本发明涉及涂覆制品。涂覆制品具有基材，所述基材具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，和在基材上方的功能涂层。涂层具有位于至少一部分表面上方的第一介电层。第一金属性层位于至少一部分第一介电层上方。任选地，第一底漆层位于至少一部分第一金属性层上方。第二介电层位于至少一部分第一金属性层或任选的第一底漆层上方。第二金属性层位于至少一部分第一金属性层或任选的第一底漆层上方。任选地，第二底漆层位于至少一部分第二金属性层上方。第三介电层位于至少一部分第二金属性层或任选的第二底漆层上方。第三金属性层位于至少一部分第三介电层上方。任选地，第三底漆层位于至少一部分第三金属性层上方。第四介电层位于至少一部分第三金属性层或任选的第三底
漆层上方。在至少一部分第四介电层上方或在功能涂层上方形成任选的最外保护层。涂覆制品具有的金属性层的总组合厚度为至少10纳米至60纳米。
12.本发明涉及涂覆制品。涂覆制品具有基材，所述基材具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，和在基材上方的功能涂层。涂层具有位于至少一部分表面上方的第一介电层。第一金属性层位于至少一部分第一介电层上方。任选地，第一底漆层位于至少一部分第一金属性层上方。第二介电层位于至少一部分第一金属性层或任选的第一底漆层上方。第二金属性层位于至少一部分第一金属性层或任选的第一底漆层上方。任选地，第二底漆层位于至少一部分第二金属性层上方。第三介电层位于至少一部分第二金属性层或任选的第二底漆层上方。第三金属性层位于至少一部分第三介电层上方。任选地，第三底漆层位于至少一部分第三金属性层上方。第四介电层位于至少一部分第三金属性层或任选的第三底漆层上方。第四金属性层位于至少一部分第四介电层上方。任选的第四底漆层位于至少一部分第四金属性层上方。第五介电层位于至少一部分第四金属性层或任选的第四底漆层上方。在至少一部分第五介电层上方或在功能涂层上方形成任选的最外保护层。涂覆制品具有的金属性层的总组合厚度为至少10纳米至60纳米。
13.本发明涉及制造涂覆制品的方法。提供具有第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材。将功能涂层施加在至少一部分表面上方。在至少一部分表面上方形成第一介电层。在至少一部分第一介电层上方形成第一金属性层。任选地，在至少一部分第一金属性层上方形成第一底漆层。在至少一部分第一金属性层上方形成第二介电层。在至少一部分第二介电层上方形成第二金属性层。任选地，在至少一部分第二金属性层上方形成第二底漆层。在至少一部分第二金属性层上方形成第三介电层。在至少一部分第三介电层上方形成第三金属性层。任选地，在至少一部分第三金属性层上方形成第三底漆层。在至少一部分第三金属性层上方形成第四介电层。在至少一部分第四介电层上方或在功能涂层上方形成任选的最外保护层。涂覆制品具有的金属性层的总组合厚度为至少10纳米至60纳米。
14.附图简要描述
15.将参考以下附图描述本发明，其中相同的附图标记始终表示相同的部分。
16.图1是非限制性风挡的示意图(未按比例)。
17.图2a
‑
2b是当使用平视显示器时风挡显示产生的重影效果的说明。
18.图3是具有涂层的风挡的说明，定位该涂层从而当使用平视显示器时减小重影。
19.图4是根据本发明的非限制性三金属涂层的横截面图(未按比例)。
20.图5是根据本发明的非限制性四金属涂层的横截面图(未按比例)。
21.图6是根据本发明的非限制性三金属涂层的横截面图(未按比例)。
22.图7是根据本发明的非限制性四金属涂层的横截面图(未按比例)。
23.图8是根据本发明的非限制性三金属涂层的横截面图(未按比例)。
24.图9是根据本发明的非限制性四金属涂层的横截面图(未按比例)。
25.发明描述
26.如本文使用的，空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上(方)”、“下(方)”等涉及如附图所示的本发明。然而，应理解本发明可采取各种供选择的取向，因此这样的术语不被视为限制性的。此外，如本文使用的，在说明书和权利要求书中使用的所有表示尺寸、物理特性、加工参数、成分的量、反应条件等的数值应理解为在所有情况下都由术语
“
约”修饰。因此，除非指出相反情况，否则以下说明书和权利要求书中列出的数值可取决于由本发明寻求获得的所需性质而改变。至少，且不作为限制等同原则应用于权利要求范围的尝试，每个数值至少应该根据所报告的有效数字的数值和通过应用普通四舍五入技术来解释。此外，本文公开的所有范围理解为包括开始和结束范围值和其中包含的任何及所有子范围。例如，“1至10”的所述范围应被认为包括在最小值为1和最大值为10之间的任何及所有子范围(并包括最小值为1和最大值为10)；即以最小值为1或更大开始并以最大值为10或更小结束的所有子范围，例如1至3.3、4.7至7.5、5.5至10等。此外，如本文使用的，术语“在...上方形成的”、“在...上方沉积的”或“在...上方提供的”意指在表面上但不必与表面接触形成的、沉积的或提供的。例如，“在基材上方形成的”涂层不排除位于形成的涂层和基材之间的具有相同或不同组成的一个或多个其它涂层或膜的存在。如本文使用的，术语“聚合物”或“聚合物的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物，例如由两种或更多种类型的单体或聚合物形成的聚合物。术语“可见区域”或“可见光”是指波长在380纳米(nm)至800nm范围内的电磁辐射。术语“红外区域”或“红外辐射”是指波长在大于800nm至100,000nm范围内的电磁辐射。术语“紫外区域”或“紫外辐射”意指波长在300nm至小于380nm范围内的电磁能量。本文的可见(光)透射率(lta)值(y,x,y)是可使用c.i.e.(1976)标准光源“a”用2度观察角(与美国联邦标准一致)在380nm至770nm的波长范围内使用可从perkin
‑
elmer商购得到的λ9分光光度计或可从byk
‑
gardner商购得到的tcs分光光度计确定的那些。使用光源“d65”用10
°
观察角(如在汽车领域中常规的)来测定反射颜色值l*、a*、b*(不论r1或r2)。
27.如本文使用的，术语“膜”是指具有期望或选择的涂层组成的涂层区域。“层”可包含一个或多个“膜”，并且“涂层”或“涂层堆叠”可包含一个或多个“层”。术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和氧化硅，以及传统上认可的金属和金属氧化物，即使硅常规上可能不被认为是金属。除非有相反指示，否则厚度值是几何厚度值。另外，本文提到的所有文献，例如但不限于授权专利和专利申请，被认为是“通过引用并入”其全部内容。
28.本发明的讨论可将一些特征描述为在一些限制内“特别地”或“优选地”(例如，在一些限制内“优选地”、“更优选地”或“最优选地”)。应理解本发明不限于这些特定或优选的限制，而是包括公开内容的整个范围。
29.在图1中说明了包括本发明特征的非限制性透明物10(例如汽车风挡)。透明物10可具有任何期望的可见光、红外辐射或紫外辐射透射和反射性质。例如，透明物10可具有任何期望量例如大于0％至100％、大于70％的可见光透射率。对于在美国的风挡和前侧窗区域而言，可见光透射率典型地大于或等于70％。对于隐私区域例如后座侧窗和后窗而言，可见光透射率可小于风挡的可见光透射率，例如小于70％。
30.如在图1中看出，透明物10包括具有面对车辆外部的第一主表面即外主表面14(1号表面)和相对的第二或内主表面16(2号表面)的第一片或第一基材12。透明物10还包括具有外(第一)主表面22(4号表面)和内(第二)主表面20(3号表面)的第二片或第二基材18。片表面的这种编号与汽车领域中的常规实践一致。可以任何合适的方式例如通过常规的中间层24来将第一和第二片12、18结合在一起。虽然没有要求，但是可在以任何期望方式层叠期间和/或之后将常规的边缘密封剂施加至层叠透明物10的周边。可在片12、18中至少一个的表面上，例如围绕第一片12的内主表面16的周边提供装饰带例如不透明、半透明或有色的
遮蔽带26例如陶瓷带。在片12、18之一的至少一部分上方，例如在2号表面16或3号表面20上方形成涂层30。
31.在图1中说明的非限制性实施方案中，汇流条组件包括第一或底部汇流条96和在外片12的内表面16上形成并通过汇流条与汇流条距离d分开的第二或顶部汇流条98。汇流条96、98与涂层30电接触。在本发明的一个非限制性实施方案中，汇流条96、98可至少部分位于装饰带26上或完全位于装饰带26上，如图1中显示。
32.在本发明的广泛实践中，透明物10的片12、18可具有相同或不同的材料。片12、18可包括具有任何期望特性的任何期望的材料。例如，片12、18中一个或多个可对可见光透明或半透明。“透明的”意指具有大于0％至100％的可见光透射率。或者，一个或多个片12、18可为半透明的。“半透明的”意指允许电磁能量(例如可见光)通过，但是发散这种能量使得与观察者相对侧上的物体不是清晰可见的。合适材料的实例但不限于塑料基材(例如丙烯酸类聚合物，例如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物，或它们的任何混合物)；陶瓷基材；玻璃基材；或以上任何的混合物或组合。例如，片12、18中一个或多个可包括常规的钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。玻璃可为透明玻璃。“透明玻璃”意指未着色或无色玻璃。或者，玻璃可为着色的或以其它方式有色的玻璃。玻璃可为退火或热处理的玻璃。如本文使用的，术语“热处理的”意指回火的或至少部分回火的。玻璃可具有任何类型(例如常规浮法玻璃)，并且可为具有任何光学性质(例如任何值的可见透射率、紫外透射率、红外透射率和/或总太阳能透射率)的任何组成。“浮法玻璃”意指通过常规浮法工艺形成的玻璃，其中将熔融玻璃沉积在熔融金属浴上并受控地冷却以形成浮法玻璃带。然后根据期望来切割和/或成型和/或热处理所述带。在美国专利号4,466,562和4,671,155中公开了浮法玻璃工艺的实例。第一和第二片12、18可为例如透明浮法玻璃或者可为着色或有色玻璃，或者一片12、18可为透明玻璃而另一片12、18为有色玻璃。虽然不限制本发明，但是适合于第一片12和/或第二片18的玻璃的实例描述于美国专利号4,746,347；4,792,536；5,030,593；5,030,594；5,240,886；5,385,872和5,393,593中。第一和第二片12、18可具有任何期望的尺寸(例如长度、宽度、形状或厚度)。在一种示例性汽车透明物10中，第一和第二片12、18每个可为1mm至10mm厚，例如1mm至5mm厚，或1.5mm至2.5mm，或1.8mm至2.3mm。在一种非限制性实施方案中，第一片12和/或第二片18可具有在550nm的参考波长下大于90％、例如大于91％的可见光透射率。第一片12和/或第二片18的玻璃组成可具有大于0重量百分比(重量％)至0.2重量％范围内的总铁含量和/或在0.3至0.6范围内的氧化还原比。
33.在一种非限制性实施方案中，片12、18中一个或两个可具有在550nm的参考波长下的高可见光透射率。“高可见光透射率”意指在对于2mm
‑
25mm片厚度的玻璃而言5.5mm当量厚度下，在550nm下可见光透射率大于或等于85％，例如大于或等于87％，例如大于或等于90％，例如大于或等于91％，例如大于或等于92％。对于实践本发明特别可用的玻璃公开在美国专利号5,030,593和5,030,594中。
34.层叠风挡还可包括中间层24。中间层24可具有任何期望的材料并可包括一个或多个层或片。中间层24可位于2号表面16和/或3号表面20上方。中间层24可为聚合物材料或塑
料材料，例如聚乙烯醇缩丁醛(pvb)、增塑聚氯乙烯、或多层热塑性材料，包括聚对苯二甲酸乙二醇酯等。合适的中间层材料例如但不认为是限制性公开在美国专利号4,287,107和3,762,988中。中间层24还可为如例如在美国专利号5,796,055中描述的声音吸收或衰减材料。中间层24可具有在其上提供或在其中并入的日光控制涂层，或可包括有色材料以减小太阳能透射率。中间层24可具有任何合适厚度以将片12、18结合在一起。在一种非限制性实施方案中，中间层24是0.76毫米(mm)厚的pvb层。
35.涂层30沉积在玻璃片12、18之一的主表面的至少一部分上方例如在外侧玻璃片12的内表面16或内玻璃片18的外表面22上(图1，图3)。涂层30可包括位于顺序施加在玻璃片12、18之一的至少一部分上方的介电层之间的三个或四个金属性膜。涂层30可为热和/或辐射反射涂层或日光控制涂层并可具有一个或多个具有相同或不同组成和/或功能的涂覆层或膜。涂层30可为包括三个或四个金属性层的多层涂层。在美国专利号5,653,903和5,028,759中公开了用于制备可加热窗的导电涂层的实例。在美国专利号4,898,789、5,821,001、4,716,086、4,610,771、4,902,580、4,716,086、4,806,220、4,898,790、4,834,857、4,948,677、5,059,295和5,028,759及美国专利申请序列号09/058440中找到了可在本发明的实践中使用的日光控制涂层的实例。
36.合适的涂层的非限制性实例通常包括一个或多个抗反射涂覆膜，其包含对可见光透明的介电或抗反射材料，例如金属氧化物或金属合金的氧化物。涂层30还可包括三至四个金属性层，包含反射金属例如贵金属例如银或金、或它们的合金的组合，并且涂层30还可包含底漆层或阻隔膜，例如钛或钛铝合金，位于金属反射层上方和/或任选地在金属反射层下。涂层30可具有三个或四个金属性层；或可具有至少三个金属性层；或可具有不多于四个金属性层。例如，涂层30由三个金属性层组成，即三金属涂层32。在另一非限制性实施方案中，涂层30包含四个金属性层，即四金属涂层34。在一种非限制性实施方案中，金属性层中一个或多个可包含银。在另一非限制性实施方案中，金属性层中一个或多个可为连续的层。“连续的层”意指涂层形成材料的连续膜而不是分离的涂层区域。
37.对于底漆层而言合适材料的非限制性实例包括锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合或它们的任何合金。底漆层还可采用任何以上列表材料的金属、氧化物、低氧化物、氮化物和/或低氮化物的形式。至少一部分的底漆层是氧化物或氮化物。在一些实施方案中，在100％氩环境中沉积底漆层。在一些实施方案中，一部分的底漆层是通过在氮(n2)气氛(其具有特定流量以形成80％n2与余量为氩的气氛)中溅射金属或金属合金而形成的氮化物。流量是气氛中氮(n2)的量的近似值，但是本领域普通技术人员将认识到额外的n2可泄漏至涂覆腔中，因为涂覆腔没有与外部环境气密密封。在一些实施方案中，一部分的底漆层是通过在氧(o2)气氛(其具有特定流量以形成3％至7％o2与余量为氩的气氛)中溅射金属或金属合金而形成的低氧化物。流量是气氛中氧(o2)的量的近似值，但是本领域普通技术人员将认识到额外的o2可泄漏至涂覆腔中，因为涂覆腔没有与外部环境气密密封。底漆材料的化学结构由元素x的重量百分比(重量％)表示。对于一些组成，组成中材料之一的下限可为“大于0”。当下限“大于零”时，材料的重量百分比不等于零但可为大于0且直至上限的重量％的任何重量％。由于与大气物质反应，在加热层之前或之后组成可改变。这些反应可改变在组成的材料之间分布的重
量％。可在表1中发现底漆层的非限制性实例的组成，其中在加热之前是bh和在加热之后是ah。一些材料可仅具有唯一的bh或ah测量结果，这归因于该测量对于最终组成更重要。
38.表1用作底漆层的金属合金的金属组成
[0039][0040]
[0041]
对于在美国的视线板(例如风挡)而言，透明物还应具有大于或等于70％例如大于或等于71％的可见光透射率。如本领域技术人员将领会的，需要平衡几个不同的竞争因素以提供具有足够的导电率、透射率和颜色的涂层。例如，随着汇流条96、98之间的距离d提高(即从上至下透明物变宽)，汇流条96至汇流条98的电阻提高。随着汇流条96至汇流条98的电阻提高，功率密度降低。为了维持功率密度，随着提高汇流条96至汇流条98距离d，涂层30的电阻率必须降低。降低电阻率的一种方式是通过提高涂层30中金属性层中一个或多个的厚度和/或通过提高涂层30中金属性层数。
[0042]
可通过任何常规的方法例如但不限于常规的化学气相沉积(cvd)和/或物理气相沉积(pvd)方法沉积涂层30。cvd工艺的实例包括喷雾热解。pvd工艺的实例包括电子束蒸发和真空溅射(例如磁控溅射气相沉积(msvd))。也可使用其它涂覆方法，例如但不限于溶胶
‑
凝胶沉积。在一种非限制性实施方案中，可通过msvd沉积涂层30。msvd涂覆装置和方法的实例将被本领域普通技术人员很好地理解并且描述于例如美国专利号4,379,040；4,861,669；4,898,789；4,898,790；4,900,633；4,920,006；4,938,857；5,328,768和5,492,750中。在msvd方法中，可通过在含氧气氛中溅射含金属或金属合金的阴极来沉积金属或金属合金的氧化物从而在基材的表面上沉积金属氧化物或金属合金氧化物膜。在一种实施方案中，涂层30沉积在全部或基本上全部表面上方，即没有沉积形成离散的涂覆区域。至少一个涂层30可沉积在平的基材上方并且然后可以任何常规方式例如通过加热将基材弯曲成型。或者，至少一个涂层30可沉积在弯曲的表面上方，即已经弯曲或成型的基材。
[0043]
在示例性实施方案中，本发明是风挡中对hud有用的涂层，如图1、图2a、图2b和图3中显示，其中风挡包含第一片12和第二片18和中间层24。涂层30可位于2号表面16或3号表面20上，优选在2号表面16上。
[0044]
参考图2a，指向透明物10的辐射36偏离透明物10，使得辐射36的至少一部分被透明物10反射并被引导到驾驶员的眼睛38中。辐射36的未从透明物10反射的部分可被折射、吸收或以另外方式透射通过透明物10。因为pvb中间层24具有与玻璃片12、18的折射率类似的折射率，所以当风挡内的玻璃片12、18和pvb中间层24彼此平行时来自1号表面14(来自辐射)和4号表面22的反射产生进入驾驶员眼睛38的重影图像。
[0045]
参考图2b，第一片12可与第二片18不平行。优选地，为了在暴露于辐射36时消除重影图像，中间层24具有楔形形状，其中中间层24的一侧比另一侧厚。可构造中间层24的楔形形状使得来自1号表面14和4号表面22的两个反射图像在驾驶员眼睛38处重叠从而消除重影。
[0046]
可将银涂层施加至2号表面16或3号表面22，优选如以上描述的2号表面16，因为银涂层降低能量并提高日光性能。然而，在2号表面16上施加的银涂层将产生来自辐射36的强光反射并在驾驶员的眼睛38中增强三重重影图像。参考图3，为了消除来自表面的反射，必须设计包括金属性层的特定涂层30使得进入眼睛38的全内反射足够低或者与图2b的透明物10相同。特定涂层30还必须是可见光谱范围(400nm
‑
700nm)中的中性色，这可使用各种介电层来调节。当使用特定涂层30时，中间层24可为在透明物10的其它布置中具有均匀厚度的层，因为中间层24可不必是楔形形状以避免重影问题，因为设计的其它方面抵消了重影。
[0047]
涂层30可为三金属涂层33，例如三个金属性层，或四金属涂层34(例如四个金属性层)。图4、6和8中显示了适合于三金属涂层33的示例性非限制性涂层。图5、7和9中显示了适
合于四涂层34的示例性非限制性涂层。
[0048]
示例性涂层30包括位于介电层之间的三个金属性层(即三金属涂层33)，如图4中显示。三金属涂层33包括位于至少一部分的基材主表面(例如第一片12的2号表面16或第二片18的3号表面20)上方或与至少一部分的基材主表面直接接触的基底(base)层或第一介电层40。第一金属性层52位于至少一部分第一介电层40上方或与至少一部分第一介电层40直接接触。任选的第一底漆层54可位于至少一部分第一金属性层52上方或与至少一部分第一金属性层52直接接触。第二介电层60位于任选的第一底漆层54或第一金属性层52上方或与任选的第一底漆层54或第一金属性层52直接接触。第二金属性层72位于至少一部分第二介电层60上方或与至少一部分第二介电层60直接接触。任选的第二底漆层74可位于第二金属性层72上方或与第二金属性层72直接接触。第三介电层80位于任选的第二底漆层74或第二金属性层72上方或与任选的第二底漆层74或第二金属性层72直接接触。第三金属性层92可位于至少一部分第三介电层80上方。任选的第三底漆层94可位于至少一部分第三金属性层92上方。第四介电层100位于至少一部分第三金属性层92或任选的第三底漆层94上方。任选的最外保护层200可位于第四介电层100上方或与第四介电层100直接接触。
[0049]
示例性涂层30包括位于介电层之间的四个金属性层(即四金属涂层34)，如图5中显示。四金属涂层34包括位于至少一部分的基材主表面(例如第一片12的2号表面16或第二片18的3号表面20)上方或与至少一部分的基材主表面(例如第一片12的2号表面16或第二片18的3号表面20)直接接触的基底层或第一介电层40。第一金属性层52位于至少一部分第一介电层40上方或与至少一部分第一介电层40直接接触。任选的第一底漆层54可位于至少一部分第一金属性层52上方或与至少一部分第一金属性层52直接接触。第二介电层60位于任选的第一底漆层54或第一金属性层52上方或与任选的第一底漆层54或第一金属性层52直接接触。第二金属性层72位于至少一部分第二介电层60上方或与至少一部分第二介电层60直接接触。任选的第二底漆层74可位于第二金属性层72上方或与第二金属性层72直接接触。第三介电层80位于任选的第二底漆层74或第二金属性层72上方或与任选的第二底漆层74或第二金属性层72直接接触。第三金属性层92可位于至少一部分第三介电层80上方。任选的第三底漆层94可位于至少一部分第三金属性层92上方。第四介电层100位于至少一部分第三金属性层92或任选的第三底漆层94上方。第四金属性层112位于至少一部分第四介电层100上方。在至少一部分第四金属性层112上方形成任选的底漆层114。在至少一部分第四金属性层112或任选的第四底漆层114上方形成第五介电层120。任选的最外保护层200可位于第五介电层120上方或与第五介电层120直接接触。
[0050]
介电层可包含抗反射材料和/或介电材料(例如但不限于金属氧化物、金属合金的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物)的一个或多个膜。第一介电层可对可见光透明。对于第一介电层而言合适金属氧化物的实例包括钛、铌、锌、铟、锡、镁、镓、钒、铝、硅、它们的合金、它们的混合物和它们的组合的氧化物。这些金属氧化物可具有少量的其它材料例如在氧化铋中的锰、在氧化铟中的锡等。或者，可使用氧化物或金属合金或金属混合物，例如含锌和锡的氧化物(例如锡酸锌)；铟
‑
锡合金的氧化物；硅氮化物；硅铝氮化物；或铝氮化物。此外，可使用金属掺杂的金属氧化物，例如铝掺杂的氧化锌、锑掺杂的氧化锡、镍或硼掺杂的氧化硅、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锡或它们的混合物。在一种非限制性实施方案中，第一介电层的第一膜42可为在
至少一部分基材(例如第一片12的2号表面16或第二片18的3号表面20)上方形成的锌/锡合金氧化物。可通过msvd从锌和锡的阴极获得锌/锡合金氧化物，该阴极可以10重量％至90重量％锌和90重量％至10重量％锡的比例包含锌和锡。可在第一介电层的第一膜42中存在的一种合适的金属合金氧化物是锡酸锌。“锡酸锌”意指zn
x
sn1‑
x
o2‑
x
(式1)的组成，其中“x”在大于0至小于1的范围内变化。例如，“x”可大于0并且可为在大于0至小于1之间的任何分数或小数。例如，x＝2/3时，式1是zn
2/3
sn
1/3
o
4/3
，其更常见被描述为zn2sno4。含锡酸锌的膜具有在膜中占主要量的式1的一种或多种形式。
[0051]
第一介电层的第二膜44在第一介电层的至少一部分第一膜42上方形成并可包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种非限制性实施方案中，第一介电层的第二膜44可为含锌膜，例如氧化锌。可由包括其它材料以改进阴极溅射特性的锌阴极来沉积氧化锌膜。例如，锌阴极可包括少量(例如小于10重量％，例如大于0至5重量％)的锡以改进溅射。在该情况下，所得的氧化锌膜将包括小百分比的氧化锡，例如0至小于10重量％氧化锡，例如0至5重量％氧化锡。从具有95重量％锌和5重量％锡、或优选90重量％锌和10重量％锡的锌/锡阴极溅射的氧化物层被称作氧化锌膜。阴极中少量的锡(例如小于10重量％)据信在第一介电层的主要含氧化锌的第二膜44中形成少量的氧化锡。一种非限制性实施方案是其中第一介电层的第一膜42是锡酸锌和第一介电层的第二膜44是氧化锌并在第一介电层的至少一部分第一膜42上方。
[0052]
在示例性非限制性实施方案中，第二膜44是由以下至少一种组成的膜：铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。从包括其它材料以改进阴极溅射特性的锌阴极沉积铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡膜。例如，铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡膜可包括少量(例如小于10重量％、例如大于0至5重量％)的锡以改进溅射。在该情况下，所得的铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡膜将包括小百分比的氧化锡，例如0重量％至小于10重量％氧化锡，例如0重量％至5重量％氧化锡。
[0053]
一种非限制性实施方案是其中第一介电层的第一膜42是锡酸锌，和第一介电层的第二膜44包含在第一介电层的至少一部分第一膜42上方的氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
[0054]
三金属涂层33的第一介电层40具有的总厚度可在10nm至50nm、优选12nm至45nm、更优选15nm至42nm、最优选18nm至40nm的范围内。四金属涂层34的第一介电层40具有的总厚度可在20nm至55nm、优选25nm至50nm、更优选30nm至45nm、最优选35nm至40nm的范围内。
[0055]
在一种非限制性实施方案中，第一介电层40包含与第一金属性层52直接接触的籽晶(seed)膜，其未在图中示出。籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。在一种实施方案中，籽晶膜可包含铝锌、钒锌、锌、银锌、它们的金属、它们的合金、它们的氧
化物、或它们的低氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜可包含镓锌、铟锌、铟锡、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。可在表2中找到籽晶膜的非限制性实例的组成。在一些实施方案中，一部分的籽晶膜是在o2气氛中形成的，该气氛具有特定流量以形成1％至70％o2与余量为氩的气氛。流量是气氛中o2的量的近似值，但是本领域普通技术人员将认识到额外的o2可泄漏至涂覆腔中，因为涂覆腔没有与外部环境气密密封。在一种非限制性实施方案中，第一介电层的第二膜44是籽晶膜。在另一实施方案中，籽晶膜包含v
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含ga
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含in
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含sn
x
in1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含在氧/氩气环境中沉积的ag。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
x
ag1‑
x
。籽晶膜具有的总厚度可在0.5nm至10nm、优选0.75nm至8nm、更优选0.9nm至6nm的范围内。在一些实施方案中，第一介电层40包含第一膜42、第二膜44和籽晶膜。
[0056]
表2用作籽晶膜的金属合金的金属组成
[0057][0058][0059]
第一金属性层52可沉积在至少一部分第一介电层40上方。第一金属性层52可包括反射金属例如但不限于金属性金、银、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第一金属性层52是连续的层。在一种实施方案中，三金属涂层33的第一金属性层52包含金属性银。三金属涂层33的第一金属性层52具有的总厚度可在5nm至20nm、优选5nm至17.5nm、更优选7nm至15nm、最优选8nm至10.5nm的范围内。
[0060]
在一种实施方案中，四金属涂层34的第一金属性层52包含金属性银。在另一实施方案中，四金属涂层34的第一金属性层52是连续的层。四金属涂层34的第一金属性层52具有的总厚度可在2nm至20nm、优选6nm至18nm、更优选9nm至12nm、最优选9.5nm至10nm的范围内。
[0061]
任选的第一底漆层54可沉积在至少一部分第一金属性层52上方。第一底漆层54可为氧捕获材料，例如钛，其可在沉积工艺过程中牺牲以在溅射工艺或随后的加热工艺过程中防止第一金属性层的降解或氧化。可选择氧捕获材料以在第一金属性层52的材料之前氧化。第一底漆层54的组成选自以下：锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合或它们的任何合金，其中以金属沉积底漆并随后氧化。至少一部分底漆层是氮化物或氧化物。如果银锌、锌、银锌氧化物、钛、铝锌氧化物、铟锌氧化物、镓锌氧化物或钒锌氧化物用作第一底漆层54，它将优选在下面的金属性层的氧
化之前氧化。在一种实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54是钛。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含银锌。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含锌。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54是ag
x
zn1‑
x
。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54是ag
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含al
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含in
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含ga
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含v
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含al
x
ti1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含al
x
nb1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含al
x
nb1‑
x
氮化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含w
x
nb1‑
x
氮化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含w
x
ti1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含ti
x
ta1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含ti
x
nb1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含ti
x
nb1‑
x
氮化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含nb
x
zr1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含ta
x
w1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含w
x
nb1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54包含zn
x
ti1‑
x
氧化物。三金属涂层33和四金属涂层34的第一底漆层54具有的总厚度在0.5nm至5nm、优选1.0nm至2.5nm、更优选1.5nm至2.5nm的范围内。
[0062]
第二介电层60可沉积在至少一部分第一金属性层52或任选的第一底漆层54上方。第二介电层60还可包括以上关于第一介电层40讨论的一种或多种材料。第二介电层60可包括沉积在第一金属性层52或任选的第一底漆层54上方的第二介电层的第一膜62。第二介电层的第一膜62包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第二介电层的第一膜62可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第二介电层的第一膜62包含氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含钒掺杂的氧化锌。
[0063]
第二介电层的第二膜64可沉积在第二介电层的至少一部分第一膜62上方。第二介电层的第二膜64包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种非限制性实施方案中，第二介电层的第二膜64是锡酸锌。
[0064]
第二介电层的任选的第三膜66可沉积在第二介电层的至少一部分第二膜64上方。第二介电层的任选的第三膜66可包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此
的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第二介电层的任选的第三膜66可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第二介电层的任选的第三膜66包含氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含钒掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第一介电层40或第二介电层60包含氮化硅膜。
[0065]
一种非限制性实施方案是其中第二介电层的第一膜62包含氧化锌，第二介电层的第二膜64包含锡酸锌，和第二介电层的第三膜66包含在第二介电层的至少一部分第二膜64上方的氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
[0066]
三金属涂层33的第二介电层60具有的总厚度可在40nm至110nm、优选50nm至100nm、更优选55nm至80nm、最优选67nm至76nm的范围内。四金属涂层34的第二介电层60具有的总厚度可在60nm至100nm、优选65nm至95nm、更优选70nm至90nm、最优选74nm至80nm的范围内。
[0067]
在一种非限制性实施方案中，第二介电层60包含位于与第二金属性层72直接接触的籽晶膜，其未在图中示出。籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。在一种实施方案中，籽晶膜可包含铝锌、钒锌、锌、银锌、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜可包含镓锌、铟锌、铟锡、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。可在表2中找到籽晶膜的非限制性实例的组成。在另一实施方案中，籽晶膜包含v
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含ga
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含in
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含sn
x
in1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含在氧/氩气环境中沉积的ag。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
x
ag1‑
x
。籽晶膜具有的总厚度可在0.5nm至10nm、优选0.75nm至8nm、更优选0.9nm至6nm的范围内。在一些实施方案中，第二介电层60具有第一膜62、第二膜64和籽晶膜。在一些实施方案中，第二介电层60具有第一膜62、第二膜64、第三膜66和籽晶膜。
[0068]
第二金属性层72可沉积在至少一部分第二介电层60上方。第二金属性层72是连续的层。第二金属性层72可包括以上关于第一金属性层52描述的反射材料的任一种或多种。在一种非限制性实施方案中，第二金属性层72包含金属性银。三金属涂层33的第二金属性层72具有的总厚度可在5nm至20nm、优选5nm至15nm、更优选7.5nm至12.5nm、最优选8.5nm至11.5nm的范围内。
[0069]
在一种实施方案中，四金属涂层34的第二金属性层72包含金属性银。在另一实施方案中，四金属涂层34的第二金属性层72是连续的层。四涂层34的第二金属性层72具有的总厚度可在2nm至20nm、优选6nm至18nm、更优选8nm至15nm、最优选9nm至12nm的范围内。
[0070]
任选的第二底漆层74可沉积在至少一部分第二金属性层72上方。第二底漆层74可
为以上关于第一底漆层54描述的任何材料。在一种非限制性实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含钛。在另一实施方案中，任选的第二底漆层74包含银锌。在另一实施方案中，第二底漆层74包含锌。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的任选的第二底漆层74包含ag
x
zn1‑
x
。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的任选的第二底漆层74包含ag
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的任选的第二底漆层74包含al
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，任选的第二底漆层74包含in
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的任选的第二底漆层74包含ga
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的任选的第二底漆层74包含v
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含al
x
ti1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含al
x
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x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含al
x
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x
氮化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含w
x
nb1‑
x
氮化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含w
x
ti1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含ti
x
ta1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含ti
x
nb1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含ti
x
nb1‑
x
氮化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含nb
x
zr1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含ta
x
w1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含w
x
nb1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第二底漆层74包含zn
x
ti1‑
x
氧化物。任选的第二底漆层74具有的总厚度在0.5nm至5nm、优选1.0nm至2.5nm、更优选1.5nm至2.5nm的范围内。
[0071]
第三介电层80可沉积在至少一部分第二金属性层72或任选的第二底漆层74上方。第三介电层80还可包括以上关于第一和第二介电层讨论的一种或多种材料。在一种非限制性实施方案中，第三介电层80包含第三介电层的第一膜82。第三介电层的第一膜82包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第三介电层的第一膜82可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第三介电层的第一膜82包含氧化锌或锡酸锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含钒掺杂的氧化锌。
[0072]
第三介电层的第二膜84可沉积在第三介电层的至少一部分第一膜82上方。第三介电层的第二膜84包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种实施方案中，第三介电层的第二膜84包含锡酸锌。在另一实施方案中，第三介电层的第二膜84包含氧化锌。
[0073]
第三介电层的任选的第三膜86可沉积在第三介电层的至少一部分第二膜84上方。
第三介电层的任选的第三膜86可包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第三介电层的任选的第三膜86可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第三介电层的任选的第三膜86包含氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜86包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜86包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜86包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜86包含锡掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜86包含钒掺杂的氧化锌。
[0074]
一种非限制性实施方案是其中第三介电层的第一膜82包含氧化锌或锡酸锌，和第三介电层的第二膜84包含氧化锌或锡酸锌，和第三介电层的第三膜86包含在第三介电层的至少一部分第二膜84上方的氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
[0075]
三金属涂层33的第三介电层80具有的总厚度可在40nm至110nm、优选50nm至100nm、更优选65nm至80nm、最优选71nm至75nm的范围内。四金属涂层34的第三介电层80具有的总厚度可在55nm至90nm、优选60nm至85nm、更优选68nm至80nm、最优选70nm至75nm的范围内。
[0076]
在一种非限制性实施方案中，第三介电层86包含位于与第三金属性层92直接接触的籽晶膜，其未在图中示出。籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。在一种实施方案中，籽晶膜可包含铝锌、钒锌、锌、银锌、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜可包含镓锌、铟锌、铟锡、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。可在表2中找到籽晶膜的非限制性实例的组成。在另一实施方案中，籽晶膜包含v
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含ga
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含in
x
zn1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含sn
x
in1‑
x
氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含在氧/氩气环境中沉积的ag。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
x
ag1‑
x
。籽晶膜具有的总厚度可在0.5nm至10nm、优选0.75nm至8nm、更优选0.9nm至6nm的范围内。在一些实施方案中，第三介电层80具有第一膜82、第二膜84和籽晶膜。在一些实施方案中，第三介电层80具有第一膜82、第二膜84、第三膜86和籽晶膜。在一些实施方案中，第三介电层80具有第一膜82、第二膜84和第三膜86。
[0077]
第三金属性层92可沉积在至少一部分第三介电层80上方。第三金属性层92是连续的层。第三金属性层92可包括以上关于第一金属性层52描述的反射材料的任一种或多种。在一种非限制性实施方案中，第三金属性层92包含金属性银。三金属涂层33的第三金属性层92具有的总厚度可在1nm至20nm、优选5nm至20nm、更优选7.5nm至15nm、最优选7.5nm至10.5nm的范围内。
[0078]
在一种实施方案中，四金属涂层34的第三金属性层92包含金属性银。在另一实施方案中，四金属涂层34的第三金属性层92是连续的层。四金属涂层34的第三金属性层92具
有的总厚度可在2nm至20nm、优选6nm至18nm、更优选8nm至15nm、最优选9nm至12nm的范围内。
[0079]
在一种非限制性实施方案中，涂层30仅包含第一、第二、和第三金属性层(图4、6和8)。在涂层30中没有额外的金属性层。每个金属性层具有厚度。在一种非限制性实施方案中，三金属涂层33的金属性层的总厚度在10nm至60nm、优选15nm至50nm、更优选20nm至40nm、最优选25nm至31nm的范围内。在底漆层包含铝和锌的情况下，三金属涂层33的金属性层的总厚度在10nm至65nm、优选15nm至55nm、更优选20nm至45nm、最优选25nm至36nm的范围内。
[0080]
任选的第三底漆层94可沉积在至少一部分第三金属性层92上方。第三底漆层94可为以上关于第一底漆层54描述的任何材料。在一种非限制性实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94包含钛。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94包含银锌。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94包含锌。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94包含ag
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。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94包含ag
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氧化物。在另一实施方案中，三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94包含al
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氧化物。
[0081]
三金属涂层33和四金属涂层34的第三底漆层94具有的总厚度在0.5nm至5nm、优选1.0nm至2.5nm、更优选1.5nm至2.5nm的范围内。
[0082]
第四介电层100可沉积在至少一部分第三金属性层92或任选的第三底漆层94上方。第四介电层100还可包括以上关于第一、第二和第三介电层40、60、80讨论的一种或多种材料。在一种非限制性实施方案中，第四介电层100包含第四介电层的第一膜102。第四介电层的第一膜102包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第四介电层的第一膜102可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第四介电层的第一膜
102包含氧化锌或锡酸锌。在另一实施方案中，第四介电层的第一膜102包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的第一膜102包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的第一膜102包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的第一膜102包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第四介电层的第一膜102包含钒掺杂的氧化锌。
[0083]
第四介电层的第二膜104可沉积在第四介电层的至少一部分第一膜102上方。第四介电层的第二膜104包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种实施方案中，第四介电层的第二膜104包含锡酸锌或氧化锌。在一些实施方案中，第一膜102和第二膜104是第四介电层100仅有的膜。
[0084]
第四介电层的任选的第三膜106可沉积在第四介电层的至少一部分第二膜104上方。第四介电层的任选的第三膜106可包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第四介电层的任选的第三膜106可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含氮化硅或氮氧化硅。在另一实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第四介电层的任选的第三膜106包含钒掺杂的氧化锌。
[0085]
一种非限制性实施方案是其中第四介电层的第一膜102包含氧化锌或锡酸锌，和第四介电层的第二膜104包含氧化锌或锡酸锌，和第四介电层的第三膜106包含在第三介电层的至少一部分第二膜104上方的氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
[0086]
三金属涂层33的第四介电层100具有的总厚度可在10nm至50nm、优选15nm至40nm、更优选20nm至35nm、最优选27nm至31nm的范围内。四金属涂层34的第四介电层100具有的总厚度可在45nm至80nm、优选50nm至75nm、更优选55nm至70nm、最优选60nm至65nm的范围内。
[0087]
图5、7和9的四金属涂层34包括额外的层。在一种非限制性实施方案中，四金属涂层34的第四介电层100包含位于与第四金属性层112直接接触的籽晶膜，其未在图中示出。籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。籽晶膜可包含铝锌、钒锌、锌、银锌、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。在另一实例中，籽晶膜可包含镓锌、铟锌、铟锡、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。可在表2中找到籽晶膜的非限制性实例的组成。在另一实施方案中，籽晶膜包含v
x
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氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含al
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氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含在氧/氩气环境中沉积的ag。在另一实施方
案中，籽晶膜包含al
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。在一种非限制性实施方案中，四金属涂层34的第四介电层的第三膜106是籽晶膜。籽晶膜具有的总厚度可在0.5nm至10nm、优选0.75nm至8nm、更优选0.9nm至6nm的范围内。在一些实施方案中，第四介电层100具有第一膜102、第二膜104和籽晶膜。在一些实施方案中，第四介电层100包含第一膜102、第二膜104、第三膜106和籽晶膜。
[0088]
四金属涂层34的第四金属性层112可沉积在至少一部分第四介电层100上方。第四金属性层112是连续的层。第四金属性层112可包括以上关于第一金属性层52描述的反射材料的任一种或多种。在一种非限制性实施方案中，四金属涂层34的第四金属性层112包含金属性银。四金属涂层34的第四金属性层112具有的总厚度可在2nm至20nm、优选4nm至15nm、更优选6nm至11nm、最优选7nm至10nm的范围内。
[0089]
任选的第四底漆层114可沉积在四金属涂层34的至少一部分第四金属性层112上方。第四底漆层114可为以上关于第一底漆层54描述的任何材料。在一种非限制性实施方案中，第四底漆层114包含钛。在另一实施方案中，第四底漆层114包含银锌。在另一实施方案中，第四底漆层114包含锌。在另一实施方案中，第四底漆层114包含ag
x
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氧化物。
[0090]
第四底漆层114具有的总厚度在0.5nm至5nm、优选1.0nm至2.5nm、更优选1.5nm至2.5nm的范围内。
[0091]
第五介电层120可沉积在至少一部分第四金属性层112或任选的第四底漆层114上方。第五介电层120还可包括以上关于第一、第二、第三和第四介电层讨论的一种或多种材料。在一种非限制性实施方案中，第五介电层120包含第五介电层的第一膜122。第五介电层的第一膜122包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种实施方案中，第五介电层的第一膜122包含氧化锌或锡酸锌。
[0092]
第五介电层的第二膜124可沉积在第五介电层的至少一部分第一膜122上方。第五介电层的第二膜124包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第五介电层的第二膜124可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第五介电层的第二膜124
包含锡酸锌或氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的第二膜124包含氮化硅或氮氧化硅。在另一实施方案中，第五介电层的第二膜124包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的第二膜124包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的第二膜124包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的第二膜124包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第五介电层的第一膜124包含钒掺杂的氧化锌。
[0093]
第五介电层的任选的第三膜可沉积在第五介电层的至少一部分第二膜124上方。第五介电层的任选的第三膜可包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或因此的混合物：钛、铌、锌、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第五介电层的任选的第三膜可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种非限制性实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含氮化硅或氮氧化硅。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含氧化钛。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第五介电层的任选的第三膜包含钒掺杂的氧化锌。
[0094]
四金属涂层34的一种非限制性实施方案是其中第五介电层的第一膜122包含氧化锌或锡酸锌和第五介电层的第二膜124包含在第五介电层的至少一部分第二膜124上方的氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
[0095]
四金属涂层34的第五介电层120具有的总厚度可在10nm至45nm、优选15nm至40nm、更优选20nm至35nm、最优选23nm至28nm的范围内。
[0096]
在一种非限制性实施方案中，涂层30包含第一、第二、第三和第四金属性层。金属性层是连续的金属性层。金属性层可包括仅银或仅银和金。每个金属性层具有厚度。在一种非限制性实施方案中，四金属涂层34的金属性层的总组合厚度在10nm至60nm、优选20nm至50nm、更优选30nm至45nm、最优选35nm至40nm的范围内。在底漆层包含铝和锌的情况下，四金属涂层34的金属性层的总厚度在10nm至65nm、优选20nm至60nm、更优选40nm至55nm、最优选35nm至45nm的范围内。
[0097]
三和四金属涂层33、34可包括最外保护层200，其例如在图4
‑
7中显示的非限制性实施方案中沉积在至少一部分第四或第五介电层100、120上方从而帮助保护下面的层例如金属性层免于加工期间的机械和化学侵蚀。最外保护层200可为氧阻隔涂层以防止或减小环境氧穿过至涂层的下面的层中(例如在加热或共混过程中)。最外保护层200可具有任何期望的材料或材料的混合物并可包含一个或多个保护膜。在一种示例性实施方案中，最外保护层200可包括单层，其包含一种或多种金属氧化物材料，例如但不限于铝、硅或它们的混合物的氧化物。例如，最外保护涂层可为单个涂覆层，包含范围：0重量％至100重量％氧化铝和/或100重量％至0重量％氧化硅、例如5重量％至95重量％氧化铝和95重量％至5重量％氧化硅、例如10重量％至90重量％氧化铝和90重量％至10重量％氧化硅、例如15重量％至90重量％氧化铝和85重量％至10重量％氧化硅、例如50重量％至75重量％氧化铝和50重量％至25重量％氧化硅、例如50重量％至70重量％氧化铝和50重量％至30重量％氧化
硅、例如35重量％至100重量％氧化铝和65重量％至0重量％氧化硅、例如70重量％至90重量％氧化铝和30重量％至10重量％氧化硅、例如75重量％至85重量％氧化铝和25重量％至15重量％氧化硅、例如88重量％氧化铝和12重量％氧化硅、例如65重量％至75重量％氧化铝和35重量％至25重量％氧化硅、例如70重量％氧化铝和30重量％氧化硅、例如60重量％至小于75重量％氧化铝和大于25重量％至40重量％氧化硅。还可存在其它材料例如铝、铬、铪、钇、镍、硼、磷、钛、锆和/或它们的氧化物从而调节最外保护层200的折射率。在一种非限制性实施方案中，最外保护层200的折射率可在1至3、例如1至2、例如1.4至2、例如1.4至1.8的范围内。
[0098]
在一种非限制性实施方案中，最外保护层200是组合氧化硅和氧化铝涂层。可从两个阴极(例如一个硅和一个铝)或从含有硅和铝的单个阴极溅射最外保护层200。这种硅铝氧化物最外保护层200可写作si
x
al1‑
x
o
(1.5 x)/2
，其中x可从大于0至小于1变化。在一种示例性实施方案中，最外保护层200包含15重量％氧化铝和85重量％氧化硅。在另一实施方案中，最外保护层200包含sio2、al2o3、sialo、它们的合金和它们的混合物。
[0099]
在一种非限制性实施方案中，最外保护层200可由氮化硅(si3n4)、氧氮化硅(sion)、氮化硅铝(sialn)、氧氮化硅铝(sialon)、它们的混合物和/或它们的合金组成，并且其可向涂覆制品提供提高的耐久性。最外保护层200可由与具有优异电学传导性以改进硅的溅射的其它材料一起沉积的氮化硅形成。例如，在沉积期间，硅阴极可包括少量(例如至多20重量％，至多15重量％，至多10重量％，或至多5重量％)的铝以改进溅射。在该情况下，所得的氮化硅层将包括小百分比的铝，例如至多15重量％铝，例如至多10重量％铝，例如至多5重量％铝。由具有至多10重量％铝(添加以增强阴极的传导率)的硅阴极沉积的涂覆层在本文被称作“氮化硅”层，即使可存在少量的铝。阴极中少量的铝(例如小于或等于15重量％，例如小于或等于10重量％，例如小于或等于5重量％)据信在主要是氮化硅的最外保护层200中形成氮化铝。最外保护层200可在氮气氛中形成；然而，应理解在最外保护层200的沉积期间在气氛中可存在其它气体例如氧。
[0100]
在另一非限制性实施方案中，最外保护层200可为包含第一保护膜202和在至少一部分第一保护膜202上方形成的第二保护膜204的多层涂层。第一保护膜202可包含氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化锡、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。在一种具体的非限制性实施方案中，第一保护膜202可包含氧化铝或包含氧化铝和氧化硅的合金。例如，第一保护膜202可包含氧化硅/氧化铝混合物，其具有大于5重量％氧化铝，例如大于10重量％氧化铝，例如大于15重量％氧化铝，例如50重量％至70重量％氧化铝，例如在60重量％至100重量％氧化铝和40重量％至0重量％氧化硅的范围内，例如60重量％氧化铝和40重量％氧化硅。在另一实例中，第一保护膜202可包含锡酸锌。在另一实例中，第一保护膜202可包含氧化锆。
[0101]
第二保护膜204可包含例如金属氧化物或金属氮化物。第二保护膜204可为氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化锡、它们的混合物、或它们的合金。例如，第二保护膜204可包含具有40重量％至60重量％氧化铝和60重量％至40重量％氧化钛；45重量％至55重量％氧化铝和55重量％至45重量％氧化钛；48重量％至52重量％氧化铝和52重量％至48重量％氧化钛；49重量％至51重量％氧化铝和51重量％至49重量％氧化钛；或50重量％氧化铝和50重量％氧化钛的氧化钛/氧化铝混合物。第二保护膜204的实例可包括钛铝氧化物
(tialo)。第二保护膜204的另一示例是氧化硅/氧化铝混合物，其具有大于40重量％氧化硅，例如大于50重量％氧化硅，例如大于60重量％氧化硅，例如大于70重量％氧化硅，例如大于80重量％氧化硅，例如在80重量％至90重量％氧化硅和10重量％至20重量％氧化铝的范围内，例如85重量％氧化硅和15重量％氧化铝。
[0102]
在非限制性实例中，最外保护层200可包括在至少一部分第二保护膜204上方形成的额外的第三保护膜。第三保护膜可为用于形成第一和第二保护膜202、204的任何材料。第三保护膜例如可包含氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化锡、或它们的混合物。例如，第三保护膜可包含氧化硅和氧化铝的混合物。在另一实例中，第三保护膜包含氧化铝和氧化钛。在另一实例中，第三保护膜包含氧化锆。
[0103]
最外保护层200是涂层的最外层。此外，最外保护层200可具有不均匀的厚度。“不均匀的厚度”意指最外保护层200的厚度可在给定的单位面积上变化，例如最外保护层可具有高和低的点或区域。最外保护层200具有的总厚度可在20nm至120nm、优选25nm至110nm、更优选30nm至100nm、最优选35nm至90nm的范围内。合适的保护层的非限制性实例描述在美国专利申请号10/007,382；10/133,805；10/397,001；10/422,095和10/422,096中。
[0104]
在一些非限制性实施方案中，涂覆制品30还包含光吸收体。光吸收体选自以下：着色玻璃、pvb、吸收层或它们的组合。
[0105]
在以上描述的非限制性实施方案中，额外的任选吸收层140可位于三金属涂层33的至少一部分第四介电层100上方(图8)或四金属涂层34的第五介电层120上方(图9)，使得吸收层140将位于第四介电层100和任选的最外保护层200之间或位于第五介电层120和任选的最外保护层200之间，或将是最外涂层。吸收层140选自以下：ge、geo
x
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x
、nbn
x
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a
al
b
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al
b
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c
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cr
b
、si
a
cr
b
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x
n
y
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x
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a
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b
n
x
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nb
b
o
x
、ti
a
nb
b
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x
n
y
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x
n
y
、wo
x
、wo2、zno:co、zno:fe、zno:mn、zno:ni、zno:v、zno:cr、zn
a
sn
b
、zn
a
sn
b
o
x
、或它们的任何组合。在一种非限制性实施方案中，吸收层140包含硅钴氧化物。吸收层140具有的总厚度可在1nm至40nm、优选5nm至30nm、更优选10nm至25nm、最优选15nm至20nm的范围内。
[0106]
或者，吸收层140可包含亚临界金属膜。术语“亚临界厚度”意指小于临界厚度的厚度使得涂层材料形成涂层材料的岛状的不连接区域。术语“岛状的”意指涂层材料不是连续的层，而是相反，沉积材料从而形成分离的区域或岛。亚临界金属膜中的金属可包含银、金、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。在一种非限制性实施方案中，亚临界金属膜包含银。亚临界金属膜可具有总亚临界厚度在0.5nm至20nm、优选1nm至10nm、更优选1.5nm至3.5nm的范围内。
[0107]
在另一非限制性实施方案中，在至少一部分亚临界金属膜上方形成任选的额外介电层160，使得额外介电层160将位于亚临界金属膜和任选的最外保护层200之间。任选的介电层160可为多层，如以上描述，其包含一个或多个介电膜。额外介电层160可包括以上关于第一、第二、第三、第四和第五介电层40、60、80、100、120讨论的一种或多种材料。任选的额外介电层160包含总厚度在25nm至33nm、优选26nm至32nm、更优选27nm至31nm、最优选28nm至30nm的范围内。
[0108]
在一些非限制性实施方案中，可使用着色玻璃覆盖板或透明玻璃覆盖板12、18和/或着色pvb或未着色pvb中间层24从而尝试匹配三个要求，即rf的中性色、大约8％的低rf和
rg、和不小于70％的lta值用于车辆的前视区域。
[0109]
在本发明的一种非限制性实践中，构造银层的厚度和/或数量以对涂层产生在0.6至1.5欧姆/平方(ω/
□
)、优选0.6至1.0ω/
□
、更优选0.6至0.9ω/
□
的范围内的总电阻率(方块电阻)。然而，本领域技术人员还将领会，随着银金属性层的数量或厚度提高，可见光透射率降低。不应将金属性层的厚度和/或数量提高到视线区域的可见光透射率下降小于约70％的程度。另外，如果总银厚度过厚，玻璃的颜色将显现不期望的红色。
[0110]
在本发明的一种非限制性实践中，涂层提供不大于25％的可见光反射率。例如，不大于20％，例如不大于10％，例如不大于8％。
[0111]
在本发明的一种非限制性实践中，涂层30提供在1至
‑
2的范围内的8度角度(
°
)下外部(ext)反射a*(rg8a*)。例如，在1至
‑
1的范围内，优选
‑
0.5至0.5，更优选
‑
0.5至0，最优选0。
[0112]
在本发明的一种非限制性实践中，涂层30提供在1至
‑
2的范围内的8
°
下外部反射b*(rg8b*)。例如，在1至
‑
1的范围内，优选
‑
0.5至0.5，更优选
‑
0.5至0，最优选0。
[0113]
在以下编号的条款中进一步描述本发明：
[0114]
条款1：涂覆制品，包含基材，所述基材包含第一表面和与第一表面相对的第二表面；在表面上方施加的功能涂层，该功能涂层包含在至少一部分表面上方的第一介电层；在至少一部分第一介电层上方的第一金属性层；在至少一部分第一金属性层上方的第二介电层；在至少一部分第二介电层上方的第二金属性层；在至少一部分第二金属性层上方的第三介电层；在至少一部分第三介电层上方的第三金属性层；和在至少一部分第三金属性层上方的第四介电层，其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于60纳米。
[0115]
条款2：条款1的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度为至少20nm且不大于40纳米。
[0116]
条款3：条款1的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度为至少25nm且不大于31纳米。
[0117]
条款4：任何前述条款的涂覆制品，其中涂覆制品具有不大于8％的可见光反射率。
[0118]
条款5：任何前述条款的涂覆制品，其中涂覆制品具有至少70％的可见光透射率。
[0119]
条款6：任何前述条款的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含银、金、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合中至少一种。
[0120]
条款7：条款6的涂覆制品，其中至少一个金属性层是银。
[0121]
条款8：任何前述条款的涂覆制品，其中至少一个金属性层是连续的层。
[0122]
条款9：任何前述条款的涂覆制品，其中第一金属性层具有5nm至20nm、优选5nm至17.5nm、更优选7nm至15nm、或最优选8nm至10.5nm的总厚度。
[0123]
条款10：任何前述条款的涂覆制品，其中第二金属性层具有5nm至20nm、优选5nm至15nm、更优选7.5nm至12.5nm、或最优选8.5nm至11.5nm的总厚度。
[0124]
条款11：任何前述条款的涂覆制品，其中第三金属性层具有1nm至20nm、优选5nm至20nm、更优选7.5nm至15nm、或最优选7.5nm至10.5nm的总厚度。
[0125]
条款12：任何前述条款的涂覆制品，还包含在至少一个金属性层上方形成的至少一个底漆层。
[0126]
条款13：条款12的涂覆制品，其中至少一个底漆层选自以下：锌、铝、钒、钨、钽、铌、
锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合或它们的任何合金，并且其中以金属沉积底漆并随后氧化。
[0127]
条款14：条款12或13的涂覆制品，其中当至少一个底漆层包含铝和锌时，金属性层的总厚度在10nm至65nm、优选15nm至55nm、更优选20nm至45nm、或最优选25nm至36nm的范围内。
[0128]
条款15：条款12或13的涂覆制品，其中至少一个底漆层具有0.5nm至5nm、优选1nm至2.5nm、或更优选1.5nm至2.5nm的总厚度。
[0129]
条款16：任何前述条款的涂覆制品，其中至少一个介电层包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡。
[0130]
条款17：任何前述条款的涂覆制品，其中第一介电层包含在至少一部分基材上方的包含锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的混合物或它们的组合的第二膜。
[0131]
条款18：条款17的涂覆制品，其中第二膜包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡、它们的混合物、或它们的组合。
[0132]
条款19：条款17至18的涂覆制品，其中第一介电层包含10nm至50nm、优选12nm至45nm、更优选15nm至42nm、或最优选18nm至40nm的总厚度。
[0133]
条款20：任何前述条款的涂覆制品，其中第一介电层包含与第一金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
[0134]
条款21：任何前述条款的涂覆制品，其中第二介电层包含在至少一部分第一底漆层上方的包含氧化锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含锡酸锌的第二膜，和在至少一部分第二膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的混合物或它们的组合的第三膜。
[0135]
条款22：条款21的涂覆制品，其中第二介电层具有40nm至110nm、优选50nm至100nm、更优选55nm至80nm、或最优选67nm至76nm的总厚度。
[0136]
条款23：任何前述条款的涂覆制品，其中第二介电层包含与第二金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
[0137]
条款24：任何前述条款的涂覆制品，其中第三介电层包含在至少一部分第二底漆层上方的包含氧化锌或锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含锡酸锌或氧化锌的第二膜，和在至少一部分第二膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的
混合物或它们的组合的第三膜。
[0138]
条款25：条款24的涂覆制品，其中第三介电层包含40nm至110nm、优选50nm至100nm、更优选65nm至80nm、或最优选71nm至75nm的总厚度。
[0139]
条款26：任何前述条款的涂覆制品，其中第三介电包含与第三金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
[0140]
条款27：任何前述条款的涂覆制品，其中第四介电层包含在至少一部分第三底漆层上方的包含氧化锌或锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含锡酸锌或氧化锌的第二膜，和在至少一部分第二膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的组合的第三膜。
[0141]
条款28：条款27的涂覆制品，其中第四介电层具有10nm至50nm、优选15nm至40nm、更优选20nm至35nm、或最优选27nm至31nm的总厚度。
[0142]
条款29：任何前述条款的涂覆制品，还包含最外保护涂层，所述最外保护涂层包含保护层，其中保护层包含以下至少一种：si3n4、sialn、sialon、氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
[0143]
条款30：条款29的涂覆制品，其中最外保护层具有15nm至120nm、优选25m至110nm、更优选30nm至100nm、或最优选20nm至90nm的总厚度。
[0144]
条款31：任一条款29至30的涂覆制品，其中最外保护层包含第一保护膜和在第一保护膜上方形成的第二保护膜。
[0145]
条款32：条款29至31的涂覆制品，其中最外保护层包含硅铝氧化物、钛铝氧化物、它们的混合物或它们的组合。
[0146]
条款33：任何前述条款的涂覆制品，还包含选自以下的光吸收体：着色玻璃、聚乙烯醇缩丁醛(“pvb”)、吸收层或它们的组合。
[0147]
条款34：条款33的涂覆制品，其中在至少一部分第四介电层上方形成吸收层。
[0148]
条款35：条款34的涂覆制品，其中吸收层选自以下：ge、geo
x
、nbn
x
、nbn
x
o
y
、si
a
al
b
、si
a
al
b
o
x
、si
a
co
b
、si
a
co
b
o
x
、si
a
co
b
cu
c
、si
a
co
b
cu
c
o
x
、si
a
cr
b
、si
a
cr
b
o
x
、si
a
ni
b
、sinio
x
、sio
x
、snn
x
、sno
x
、sno
x
n
y
、tin
x
、ti
a
nb
b
n
x
、ti
a
nb
b
o
x
、ti
a
nb
b
o
x
n
y
、tio
x
n
y
、wo
x
、wo2、zno:co、zno:fe、zno:mn、zno:ni、zno:v、zno:cr、zn
a
sn
b
、zn
a
sn
b
o
x
、或它们的任何组合。
[0149]
条款36：条款35的涂覆制品，其中吸收层包含硅钴氧化物。
[0150]
条款37：任一条款35至36的涂覆制品，其中吸收层具有1nm至40nm、优选5nm至30nm、更优选10nm至25nm、或最优选15nm至20nm的总厚度。
[0151]
条款38：条款34的涂覆制品，其中吸收层是亚临界金属膜。
[0152]
条款39：条款38的涂覆制品，其中亚临界金属膜包含银、金、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
[0153]
条款40：任一条款38至39的涂覆制品，其中亚临界金属膜包含银。
[0154]
条款41：任一条款38至40的涂覆制品，其中亚临界金属膜具有0.5nm至20nm、优选1nm至10nm、或更优选1.5nm至3.5nm的总厚度。
[0155]
条款42：条款38的涂覆制品，其中在至少一部分亚临界金属膜上方形成额外介电层。
[0156]
条款43：条款42的涂覆制品，其中在至少一部分亚临界金属膜上方形成的额外介电层包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡。
[0157]
条款44：任一条款42至43的涂覆制品，其中在至少一部分亚临界金属膜上方形成的额外介电层具有的总厚度在25nm至33nm、优选26nm至32nm、更优选27nm至31nm、最优选28nm至30nm的范围内。
[0158]
条款45：涂覆制品，包含基材，所述基材包含第一表面和与第一表面相对的第二表面；在表面上方施加的功能涂层，该功能涂层包含在至少一部分表面上方的第一介电层；在至少一部分第一介电层上方的第一金属性层；在至少一部分第一金属性层上方的第二介电层；在至少一部分第二介电层上方的第二金属性层；在至少一部分第二金属性层上方的第三介电层；在至少一部分第三介电层上方的第三金属性层；在至少一部分第三金属性层上方的第四介电层；在至少一部分第四介电层上方的第四金属性层；和在至少一部分第四金属性层上方的第五介电层，其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于60纳米。
[0159]
条款46：条款45的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度为至少30nm且不大于45纳米。
[0160]
条款47：任一条款45的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度为至少35nm且不大于40纳米。
[0161]
条款48：任一条款45至47的涂覆制品，其中涂覆制品具有不大于8％的可见光反射率。
[0162]
条款49：任一条款45至48的涂覆制品，其中涂覆制品具有至少70％的可见光透射率。
[0163]
条款50：任一条款45至49的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含银、金、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合中至少一种。
[0164]
条款51：任一条款45至50的涂覆制品，其中至少一个金属性层是银。
[0165]
条款52：任一条款45至51的涂覆制品，其中至少一个金属性层是连续的层。
[0166]
条款53：任一条款45至52的涂覆制品，其中第一金属性层具有2nm至20nm、优选6nm至18nm、更优选9nm至12nm、或最优选9.5nm至10nm的总厚度。
[0167]
条款54：任一条款45至53的涂覆制品，其中第二金属性层具有2nm至20nm、优选6nm至18nm、更优选8nm至15nm、或最优选9nm至12nm的总厚度。
[0168]
条款55：任一条款45至54的涂覆制品，其中第三金属性层具有2nm至20nm、优选6nm至18nm、更优选8nm至15nm、或最优选9nm至12nm的总厚度。
[0169]
条款56：任一条款45至47的涂覆制品，其中第四金属性层具有2nm至20nm、优选4nm至15nm、更优选6nm至11nm、或最优选7nm至10nm的总厚度。
[0170]
条款57：任何条款45至56的涂覆制品，还包含在至少一个金属性层上方形成的至少一个底漆层。
[0171]
条款58：条款57的涂覆制品，其中至少一个底漆层之一选自以下：锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨
铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合、或它们的任何合金、或它们的合金，并且其中以金属沉积底漆并随后氧化。
[0172]
条款59：条款57或58的涂覆制品，其中当至少一个底漆层包含铝和锌时，金属性层的总厚度在10nm至65nm、优选20nm至60nm、最优选40nm至55nm、最优选35nm至45nm的范围内。
[0173]
条款60：任一条款45至59的涂覆制品，其中至少一个介电层包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡。
[0174]
条款61：任一条款45至60的涂覆制品，其中第一介电层具有20nm至55nm、优选25nm至50nm、更优选30nm至45nm、或最优选35nm至40nm的总厚度。
[0175]
条款62：任一条款45至61的涂覆制品，其中第二介电层具有60nm至100nm、优选65nm至95nm、更优选70nm至90nm、或更优选74nm至80nm的总厚度。
[0176]
条款63：任一条款45至62的涂覆制品，其中第三介电层具有55nm至90nm、优选60nm至85nm、更优选68nm至80nm、或最优选70nm至75nm的总厚度。
[0177]
条款64：任一条款45至63的涂覆制品，其中第四介电层包含与第四金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
[0178]
条款65：条款64的涂覆制品，其中第四介电层具有45nm至80nm、优选50nm至75nm、更优选55nm至70nm、或最优选60nm至65nm的总厚度。
[0179]
条款66：任一条款45至65的涂覆制品，其中第五介电包含在至少一部分第四底漆层上方形成的包含氧化锌或锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、锡酸锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的混合物或它们的组合的第二膜。
[0180]
条款67：条款66的涂覆制品，其中第五介电层具有10nm至45nm、优选15nm至40nm、更优选20nm至35nm、或最优选23nm至28nm的总厚度。
[0181]
条款68：任一条款45至67的涂覆制品，还包含最外保护涂层，所述最外保护涂层包含保护层，其中保护层包含以下至少一种：si3n4、sialn、sialon、氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、它们的合金、或它们的混合物。
[0182]
条款69：条款68的涂覆制品，其中最外保护层包含第一保护膜和在第一保护膜上方形成的第二保护膜。
[0183]
条款70：任一条款68至69的涂覆制品，其中最外保护层包含硅铝氧化物或钛铝氧化物的保护膜。
[0184]
条款71：任何条款45至70的涂覆制品，还包含选自以下的光吸收体：着色玻璃、pvb、吸收层或它们的组合。
[0185]
条款72：条款71的涂覆制品，还包含在至少一部分第五介电层上方形成的吸收层。
[0186]
条款73：条款72的涂覆制品，其中吸收层选自以下：ge、geo
x
、nbn
x
、nbn
x
o
y
、si
a
al
b
、si
a
al
b
o
x
、si
a
co
b
、si
a
co
b
o
x
、si
a
co
b
cu
c
、si
a
co
b
cu
c
o
x
、si
a
cr
b
、si
a
cr
b
o
x
、si
a
ni
b
、sinio
x
、sio
x
、snn
x
、sno
x
、sno
x
n
y
、tin
x
、ti
a
nb
b
n
x
、ti
a
nb
b
o
x
、ti
a
nb
b
o
x
n
y
、tio
x
n
y
、wo
x
、wo2、zno:co、zno:fe、
zno:mn、zno:ni、zno:v、zno:cr、zn
a
sn
b
、zn
a
sn
b
o
x
、或它们的任何组合
[0187]
条款74：条款73的涂覆制品，其中吸收层包含硅钴氧化物。
[0188]
条款75：条款72的涂覆制品，其中吸收层是亚临界金属膜。
[0189]
条款76：条款75的涂覆制品，其中亚临界金属膜包含银、金、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
[0190]
条款77：任一条款75至76的涂覆制品，其中亚临界金属膜包含银。
[0191]
条款78：任一条款75至77的涂覆制品，其中在至少一部分亚临界金属膜上方形成额外介电层。
[0192]
条款80：制备涂覆制品的方法，包括：提供基材，所述基材包含第一表面和与第一表面相对的第二表面；和在至少一部分表面上方施加功能涂层，施加功能涂层步骤包括：在至少一部分表面上方形成第一介电层；在至少一部分第一介电层上方形成第一金属性层；在至少一部分第一金属性层上方形成第二介电层；在至少一部分第二介电层上方形成第二金属性层；在至少一部分第二金属性层上方形成第三介电层；在至少一部分第三介电层上方形成第三金属性层；和在至少一部分第三金属性层上方形成第四介电层，其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于60纳米。
[0193]
条款81：条款80的方法，其中施加功能涂层步骤还包括在至少一部分第四介电层上方形成第四金属性层，和在至少一部分第四金属性层上方形成第五介电层，其中外覆层在至少一部分第五介电层上方。
[0194]
条款82：条款80
‑
81的方法，还施加最外保护涂层，施加最外保护涂层步骤包括形成包含保护层的最外保护层，其中所述保护层包含以下至少一种：si3n4、sialn、sialon、氧化钛、氧化铝、氧化硅、或氧化锆。
实施例
[0195]
以下实施例说明本发明的各种实施方案。然而，应理解本发明不限于这些具体的实施方案。
[0196]
实施例1
[0197]
表3显示本发明三金属涂层的示例性涂层组成和厚度。报道的厚度是以纳米(nm)计的几何厚度，除非另外指出。基材是具有2.1mm厚度的透明玻璃基材和位于基材上方的1.6mm的透明覆盖物。使用0.7mm的pvb中间层。基底层是第一介电层，基底中心层是第二介电层，顶中心层是第三介电层，且顶层是第四介电层。
[0198]
表3
[0199][0200][0201]
表4和5分别显示对于表3的样品而言所得的颜色和光学性质。
[0202]
表4
[0203][0204]
表5
[0205][0206]
实施例2
[0207]
日光辐射的日光系数(tt)或总透射能量高于实施例1的三金属涂层所期望的(49
‑
50％)。高的tt值表明大约50％的日光辐射能量透射通过基材，导致不期望的产热。表6显示本发明的三金属涂层的示例性涂层组成和厚度(nm)，其中使用着色的覆盖物以尝试减小透射的日光辐射，同时匹配三个性质要求(中性rf颜色、低rf和rg(8％)和不小于70％的lta)。
solex、atlantica sgn
‑
c4、caribia、azuria和tintes
‑
p
‑
l比透明玻璃更绿并因此更有吸收性。
[0208]
表6
[0209][0210][0211]
表7和8分别显示对于表6的样品而言所得的颜色和光学性质。
[0212]
表7
[0213][0214][0215]
表8
[0216][0217]
实施例3
[0218]
表9显示本发明的三金属涂层的示例性涂层组成和厚度(nm)，其中向涂层添加硅钴氧化物(sicoo
x
)或亚临界金属膜吸收层。样品7的sicoo
x
吸收层位于第四介电层和最外保护层的第一保护膜之间。样品8的包含银的亚临界金属膜位于第四介电层和之前描述的额外介电层之间。连同着色玻璃覆盖物使用吸收层以尝试进一步减小透射的日光辐射，同时匹配三个性质要求(中性rf颜色、低rf和rg(8％)和不小于70％的lta)。
[0219]
表9
[0220][0221][0222]
表10和11分别显示对于表9的样品而言所得的颜色和光学性质。
[0223]
表10
[0224][0225]
表11
[0226][0227]
实施例4
[0228]
表12显示三金属涂层的示例性层叠组成，其中使用透明的或着色的pvb中间层连同着色的或透明的玻璃覆盖物和玻璃基材。以上在表3实施例1中描述使用的三金属涂层。
[0229]
表12
[0230][0231]
表13显示在具有着色的或未着色的pvb和着色的或未着色的玻璃覆盖物的透明玻璃基材上的三金属涂层的颜色和光学性质。
[0232]
表13
[0233][0234]
实施例5
[0235]
表14显示本发明四金属涂层的示例性涂层组成和厚度(nm)。这里，基底层是第一介电层，基底中心层是第二介电层，中心层是第三介电层，顶中心层是第四介电层，和顶层是第五介电层。使用四金属涂层以尝试进一步减小透射的日光辐射，同时匹配三个性质要求(中性rf颜色、低rf和rg(8％)和不小于70％的lta)。
[0236]
表14
[0237]
样品14
基材玻璃2.1mm覆盖物透明的1.6mm中间层透明的pvb 0.7mm基底层37.4第1金属性层9.86基底中心层76.7第2金属性层10.8中心层72.2第3金属性层9.68顶中心层62.4第4金属性层7.91顶层25.5第1保护膜16.0第2保护膜22.0总金属性38.3
[0238]
表15和16分别显示对于表14的样品而言所得的颜色和光学性质。
[0239]
表15
[0240][0241]
表16
[0242][0243]
玻璃基材上的四金属涂层比任一个三金属涂层实施例1
‑
4(1.3
–
1.4ω/
□
方块电阻)更有传导性(0.86ω/
□
方块电阻)。因此，四金属涂层的日光性能和低能量性质大于三金属涂层。当形成四金属涂层时不需要着色玻璃。
[0244]
本领域技术人员将容易领会，可在不脱离前述描述中公开的构思的情况下对本发明进行修改。因此，本文详细描述的特定实施方案仅是说明性的，并不限制本发明的范围，本发明的范围由所附权利要求书以及它的任何和所有等同物的全部范围给出。