连接处理容器、基板处理系统以及基板处理方法与流程

技术特征：
1.一种连接处理容器，其中，该连接处理容器包括：第1处理容器和第2处理容器，其以形成有间隙的方式在横向上并列设置，分别收纳基板，以进行真空处理；以及连接部，其以跨过所述间隙地连接所述第1处理容器和所述第2处理容器的方式设置，能够相对于所述第1处理容器和第2处理容器中的至少一者沿所述横向滑动。2.根据权利要求1所述的连接处理容器，其中，该连接处理容器设有支承部，该支承部分别在所述第1处理容器和第2处理容器的与设有所述间隙的一侧相反的一侧支承所述第1处理容器和第2处理容器。3.根据权利要求2所述的连接处理容器，其中，所述支承部包括支承部主体，该支承部主体自下方连接于所述第1处理容器和第2处理容器各自的与设置所述间隙的一侧相反的一侧并进行支承，不将所述支承部主体设在设有该间隙的一侧。4.根据权利要求3所述的连接处理容器，其中，所述支承部主体包括：支承用连接部，其分别与所述第1处理容器和所述第2处理容器连接；基部，其将所述各支承用连接部支承为能够前后左右滑动。5.根据权利要求4所述的连接处理容器，其中，所述支承用连接部包括第1纵轴，该第1纵轴设有第1凸缘，所述基部包括孔，该孔以供所述第1纵轴插入并且在孔缘部支承所述第1凸缘的方式开口而成，所述孔的直径以所述第1凸缘能够在所述孔缘部滑动的方式大于所述第1纵轴的直径。6.根据权利要求5所述的连接处理容器，其中，所述支承部包括多个支柱，该多个支柱包围包括所述第1处理容器和所述第2处理容器的处理容器组，所述基部自所述多个支柱中的靠近所述第1处理容器的支柱朝向该第1处理容器的下方延伸，所述基部自所述多个支柱中的靠近所述第2处理容器的支柱朝向该第2处理容器的下方延伸。7.根据权利要求1～6中任一项所述的连接处理容器，其中，在所述第1处理容器的侧壁和所述第2处理容器的侧壁分别设有第1凹部，所述连接部嵌入于各第1凹部并且能够相对于该各第1凹部滑动。8.根据权利要求7所述的连接处理容器，其中，所述连接部为沿所述横向延伸的轴构件，所述各第1凹部的周壁由包含固体润滑剂的轴承构成。9.根据权利要求1～8中任一项所述的连接处理容器，其中，所述连接部连接所述第1处理容器的底面和所述第2处理容器的底面，该连接处理容器包含底面滑动部，该底面滑动部能够相对于该第1处理容器的底面和第2处理容器的底面中的至少一个底面滑动。
10.根据权利要求9所述的连接处理容器，其中，所述底面滑动部包括：连接部主体，其分别与所述第1处理容器的底面和所述第2处理容器的底面连接；贯通孔，其以在所述第1处理容器的底面和所述第2处理容器的底面中的一个底面开口的方式设于所述连接部主体；第2纵轴，其以固定于所述一个底面并且插入于所述贯通孔的方式设置，具有小于该贯通孔的孔径的轴径；以及第2凸缘，其设于所述第2纵轴，支承所述贯通孔的孔缘部，所述连接部主体能够分别相对于所述一个底面和所述第2凸缘滑动。11.根据权利要求1～6中任一项所述的连接处理容器，其中，在所述第1处理容器和所述第2处理容器中的一者的侧壁设有第2凹部，所述连接部为凸部，该凸部自所述第1处理容器和所述第2处理容器中的另一者的侧壁突出并嵌入于所述第2凹部并且能够相对于该第2凹部滑动。12.根据权利要求11所述的连接处理容器，其中，在所述第2凹部设有下部侧接触部，该下部侧接触部自下方侧与所述凸部接触，能够调整所述凸部在所述第2凹部内的高度，所述凸部能够相对于所述第2凹部的上表面和所述下部侧接触部滑动。13.根据权利要求12所述的连接处理容器，其中，所述第2凹部的上表面和所述下部侧接触部包含固体润滑剂。14.一种基板处理系统，其中，该基板处理系统包括：连接处理容器，其为权利要求1～13中任一项所述的连接处理容器；真空气氛的真空输送室，在该真空输送室输送所述基板，并连接有所述连接处理容器；以及输送机构，其以向所述第1处理容器和所述第2处理容器成批地输送所述基板的方式设于所述真空输送室。15.一种基板处理方法，其中，该基板处理方法包括以下工序：将基板成批地输送并收纳于以形成有间隙的方式在横向上并列设置的第1处理容器和第2处理容器，对该各基板进行真空处理；以及由于所述第1处理容器和所述第2处理容器各自的热膨胀，使以跨过所述间隙地连接所述第1处理容器和所述第2处理容器的方式设置的连接部相对于该第1处理容器和第2处理容器中的至少一者沿所述横向滑动。

技术总结
本发明提供连接处理容器、基板处理系统以及基板处理方法。对于相连接的处理容器，能够进行稳定的支承并且抑制由热膨胀导致的基板的输送位置的偏移。连接处理容器构成为包括：第1处理容器和第2处理容器，其以形成有间隙的方式在横向上并列设置，分别收纳基板，以进行真空处理；以及连接部，其以跨过所述间隙地连接所述第1处理容器和所述第2处理容器的方式设置，能够相对于所述第1处理容器和第2处理容器中的至少一者沿所述横向滑动。器中的至少一者沿所述横向滑动。器中的至少一者沿所述横向滑动。


技术研发人员：山岸孝幸
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.05.07
技术公布日：2021/11/25