制造显示设备的方法与流程

制造显示设备的方法
1.本技术要求于2020年5月18日提交的第10
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2020
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0059329号韩国专利申请的优先权和由其产生的所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
技术领域
2.一个或更多个实施例涉及一种制造显示设备的方法，更具体地，涉及一种由此可以改善量子点层的效率的制造显示设备的方法。


背景技术：

3.显示设备使数据可视地显示。通常，显示设备可以用作诸如移动电话的小型产品的显示器或诸如电视的大型产品的显示器。
4.显示设备包括接收电信号并且发光以向外部显示图像的多个像素。每个像素包括发光器件，例如，有机发光显示设备包括有机发光二极管(“oled”)作为发光器件。通常，有机发光显示设备包括位于基底上的薄膜晶体管和oled，并且oled通过自身发光来操作。
5.随着显示设备已经被广泛使用，已经尝试了各种设计来改善显示设备的质量。具体地，随着显示设备变得高分辨率，已经积极地进行研究以改善显示设备的每个像素的颜色再现性。


技术实现要素：

6.在根据现有技术的制造显示设备的方法中，为了增大包括在量子点层中的量子点的量，需要高的分隔壁，由于分隔壁高，导致量子点层的效率劣化和缺陷发生。
7.为了解决包括上述问题的各种问题，一个或更多个实施例包括一种制造显示设备的方法，由此可以改善量子点层的效率。然而，这样的技术问题是示例，并且公开不限于此。
8.另外的方面将在下面的描述中被部分地阐述，并且部分地将通过描述而明显，或者可以通过公开的所呈现的实施例的实践来获知。
9.根据一个或更多个实施例，制造显示设备的方法包括：在下基底上方形成显示元件层，其中，显示元件层包括第一显示元件至第三显示元件；在显示元件层上形成封装层；在封装层上形成第一分隔壁，以限定第一颜色区域至第三颜色区域，其中，第一颜色区域至第三颜色区域在与下基底垂直的方向上的视图中分别与第一显示元件至第三显示元件叠置；在第一分隔壁上形成第二分隔壁；形成量子点层，包括在第二颜色区域中形成第二颜色量子点层并且在第三颜色区域中形成第三颜色量子点层；以及去除第二分隔壁。
10.形成量子点层的步骤可以包括：将第二颜色量子点层材料注入到第二颜色区域中，并且将第三颜色量子点层材料注入到第三颜色区域中；使包括在第二颜色量子点层材料中的材料的一部分和包括在第三颜色量子点层材料中的材料的一部分挥发；以及使第二颜色量子点层材料和第三颜色量子点层材料固化。
11.包括在第二颜色量子点层材料中的材料的所述一部分可以是第二颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分，并且包括在第三颜色量子点层材料中的材料的所
述一部分可以是第三颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分。
12.挥发的步骤可以包括使包括在第二颜色量子点层材料中的材料的所述一部分和包括在第三颜色量子点层材料中的材料的所述一部分挥发，使得从封装层的上表面到第二颜色量子点层材料的上表面的距离和从封装层的上表面到第三颜色量子点层材料的上表面的距离可以均等于或小于在下基底的厚度方向上的预设距离。
13.预设距离可以是在厚度方向上从封装层的上表面到第一分隔壁的上表面的距离。
14.挥发的步骤可以包括向第二颜色量子点层材料和第三颜色量子点层材料提供热能。
15.第二分隔壁的上表面可以是疏水的。
16.所述方法还可以包括形成覆盖封装层的上表面和第一分隔壁的反射板，其中，形成第二分隔壁的步骤可以包括在反射板的覆盖第一分隔壁的部分上形成第二分隔壁。
17.所述方法还可以包括去除反射板的未覆盖第一分隔壁的部分。
18.第一显示元件至第三显示元件可以包括被构造为发射第一波段中的波长的光的第一颜色发射层。
19.第二颜色量子点层可以被构造为将第一波段中的波长的光转换为第二波段中的波长的光，并且第三颜色量子点层可以被构造为将第一波段中的波长的光转换为第三波段中的波长的光。
20.第一显示元件至第三显示元件可以分别包括第一像素电极至第三像素电极以及与第一像素电极至第三像素电极对应的对电极，其中，第一颜色发射层可以位于对电极与第一像素电极至第三像素电极中的每个之间。
21.根据一个或更多个实施例，制造显示设备的方法包括：在上基底的第一表面上形成滤色器层；在滤色器层上形成保护层；在保护层上形成第一分隔壁，其中，第一分隔壁限定第一颜色区域至第三颜色区域；在第一分隔壁上形成第二分隔壁；形成量子点层，包括在第二颜色区域中形成第二颜色量子点层并且在第三颜色区域中形成第三颜色量子点层；以及去除第二分隔壁。
22.形成量子点层的步骤可以包括：将第二颜色量子点层材料注入到第二颜色区域中，并且将第三颜色量子点层材料注入到第三颜色区域中；使包括在第二颜色量子点层材料中的材料的一部分和包括在第三颜色量子点层材料中的材料的一部分挥发；以及使第二颜色量子点层材料和第三颜色量子点层材料固化。
23.包括在第二颜色量子点层材料中的材料的所述一部分可以是第二颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分，并且包括在第三颜色量子点层材料中的材料的所述一部分可以是第三颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分。
24.挥发的步骤可以包括使包括在第二颜色量子点层材料中的材料的所述一部分和包括在第三颜色量子点层材料中的材料的所述一部分挥发，使得从保护层的上表面到第二颜色量子点层材料的上表面的距离和从保护层的上表面到第三颜色量子点层材料的上表面的距离可以均等于或小于在上基底的厚度方向上的预设距离。
25.预设距离可以是在厚度方向上从保护层的上表面到第一分隔壁的上表面的距离。
26.第二分隔壁的上表面可以是疏水的。
27.所述方法还可以包括形成覆盖保护层的上表面和第一分隔壁的反射板，其中，形
成第二分隔壁的步骤可以包括在反射板的覆盖第一分隔壁的部分上形成第二分隔壁。
28.所述方法还可以包括在下基底上方形成显示元件层，其中，显示元件层可以包括第一显示元件至第三显示元件，其中，第一显示元件至第三显示元件可以包括被构造为发射第一波段中的光的第一颜色发射层，其中，第二颜色量子点层可以被构造为将第一波段中的光转换为第二波段中的光，并且第三颜色量子点层可以被构造为将第一波段中的光转换为第三波段中的光。
附图说明
29.通过下面结合附图进行的描述，公开的某些实施例的以上和其他方面、特征及优点将更加明显，在附图中：
30.图1是根据实施例的显示设备的一部分的示意性剖视图；
31.图2至图10是制造图1的显示设备的一部分的工艺的示意性剖视图；
32.图11是图1的显示设备的修改示例的一部分的示意性剖视图；
33.图12至图14是制造图11的显示设备的一部分的工艺的一部分的示意性剖视图；
34.图15是根据另一实施例的显示设备的一部分的示意性剖视图；
35.图16至图21是制造图15的显示设备的一部分的工艺的示意性剖视图；并且
36.图22是图15的显示设备的修改示例的一部分的示意性剖视图。
具体实施方式
37.现在将详细参照实施例，实施例的示例示出在附图中，其中，同样的附图标记始终表示同样的元件。在这方面，呈现的实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于在此阐述的描述。因此，下面仅通过参照附图来描述实施例，以解释本说明书的各方面。如在此所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个(种/者)”表示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c的全部或其变型。
38.由于本说明书允许各种改变和许多实施例，因此将在附图中示出并且在书面描述中描述某些实施例。通过下面结合附图进行的一个或更多个实施例的详细描述，一个或更多个实施例的效果和特征以及实现其的方法将变得明显。然而，呈现的实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于在此阐述的描述。
39.在下文中，将参照附图描述实施例，其中，同样的附图标记始终表示同样的元件，并且省略其重复描述。
40.虽然可以使用诸如“第一”和“第二”的术语来描述各种组件，但是这样的组件不必限于以上术语。以上术语用于将一个组件与另一个组件区分开。
41.如在此所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一”、“一个(种/者)”和“所述(该)”也旨在包括复数形式。
42.将理解的是，如在此所使用的，术语“包括”、“包含”和/或其变型说明存在所陈述的特征或组件，但不排除添加一个或更多个其他特征或组件。
43.还将理解的是，当层、区域或组件被称为“在”另一层、区域或组件“上”时，该层、区域或组件可以直接或间接在所述另一层、区域或组件上。即，例如，可以存在中间层、区域或
组件。
44.为了便于解释，可以夸大或缩小附图中的元件的尺寸。例如，由于为了便于解释而任意地示出了附图中的元件的尺寸和厚度，因此公开不限于此。
45.当可以不同地实现实施例时，可以与所描述的顺序不同地执行某些工艺顺序。例如，可以基本上同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。
46.还将理解的是，当层、区域或组件被称为彼此连接时，它们可以彼此直接连接，或者彼此间接连接且中间层、区域或组件位于它们之间。例如，当层、区域或组件被称为彼此电连接时，它们可以彼此直接电连接，或者彼此间接电连接且中间层、区域或组件位于它们之间。
47.x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，而是可以以更广泛的意义来解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。
48.如在此所使用的，术语“像素”指发射不同颜色的光的每个子像素。例如，每个像素可以是红色(r)子像素、绿色(g)子像素和蓝色(b)子像素中的一个。
49.尽管有机发光显示设备在下面被描述为根据实施例的显示设备的示例，但是显示设备不限于此。根据一些实施例，显示设备可以是诸如无机发光显示设备或量子点发光显示设备的显示设备。例如，包括在显示设备中的显示元件的发射层可以包括有机材料，可以包括无机材料，可以包括量子点，可以包括有机材料和量子点，可以包括无机材料和量子点，或者可以包括有机材料和无机材料及量子点。
50.在下文中，将参照附图描述实施例及其修改。
51.根据一个或更多个实施例的显示设备包括发光的显示区域和不发光的非显示区域。这可以被理解为意味着下基底100包括显示区域和非显示区域。
52.如图1至图22中所示，根据一个或更多个实施例的显示设备包括在显示区域中的多个像素。根据实施例，显示设备包括第一像素px1至第三像素px3。然而，这是示例，并且在另一实施例中，显示设备可以包括更多或更少的像素。第一像素px1至第三像素px3分别包括第一显示元件至第三显示元件，并且存在分别与第一显示元件至第三显示元件对应的第一颜色区域至第三颜色区域。第一颜色区域至第三颜色区域分别与第一显示元件至第三显示元件对应的描述意味着：在垂直于下基底100或上基底400的方向(即，z轴方向)上的视图中或在平面图中，第一颜色区域至第三颜色区域分别与第一显示元件至第三显示元件叠置。具体地，在垂直于下基底100或上基底400的方向(即，z轴方向)上的视图中或在平面图中，第一颜色区域可以与第一显示元件的第一像素电极叠置，第二颜色区域可以与第二显示元件的第二像素电极叠置，并且第三颜色区域可以与第三显示元件的第三像素电极叠置。如在此所使用的，z轴方向对应于下基底100或上基底400的厚度方向。
53.尽管图1至图22示出了彼此相邻的第一像素px1至第三像素px3，但是根据发明的公开不限于此。即，诸如其他布线的组件可以位于第一像素px1至第三像素px3之间。因此，例如，第一像素px1和第二像素px2可以不是相邻的像素。图1至图22中的第一像素px1至第三像素px3的剖面可以不是同一方向上的剖面。
54.根据实施例的显示设备包括下基底100。下基底100可以包括玻璃材料、金属材料、陶瓷材料或者柔性或可弯曲材料。当下基底100是柔性的或可弯曲的时，下基底100可以包括例如聚合物树脂，诸如聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二
甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯或乙酸丙酸纤维素。下基底100可以具有包括以上材料的单层或多层结构。在多层结构的情况下，下基底100可以被各种修改，例如，被修改为具有包括包含聚合物树脂的两个层和位于所述两个层之间的包含无机材料(诸如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等)的阻挡层的多层结构。
55.缓冲层101可以位于下基底100上。缓冲层101可以包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料，并且可以具有单层或多层结构。缓冲层101可以增加下基底100的上表面的平滑度，或者可以防止或减少杂质或湿气从下基底100的外部渗透到薄膜晶体管120的半导体层121中。
56.像素电路可以位于缓冲层101上，并且包括电连接到像素电路的显示元件200的显示元件层可以位于像素电路上方。像素电路可以包括薄膜晶体管120和电容器cst。显示元件200电连接到像素电路的描述可以意味着显示元件200的像素电极210电连接到薄膜晶体管120。显示元件层可以包括第一显示元件200至第三显示元件200，第一显示元件200至第三显示元件200分别包括第一像素电极210至第三像素电极210。
57.薄膜晶体管120可以包括半导体层121、栅电极123、源电极125和漏电极127，半导体层121包括非晶硅、多晶硅或有机半导体材料。
58.半导体层121可以位于缓冲层101上，并且可以包括非晶硅或多晶硅。例如，半导体层121可以包括从包含铟(in)、镓(ga)、锡(sn)、锆(zr)、钒(v)、铪(hf)、镉(cd)、锗(ge)、铬(cr)、钛(ti)、铝(al)、铯(cs)、铈(ce)和锌(zn)的组中选择的至少一种材料的氧化物。例如，半导体层121可以是zn氧化物类材料，并且可以包括zn氧化物、in
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zn氧化物、ga
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in
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zn氧化物等。半导体层121可以是除了zno之外还包含诸如铟(in)、镓(ga)和锡(sn)的金属的in
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ga
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zn
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o(“igzo”)半导体、in
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sn
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zn
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o(“itzo”)半导体或in
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ga
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sn
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zn
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o(“igtzo”)半导体。半导体层121可以包括沟道区以及位于沟道区的两侧上的源区和漏区。
59.栅电极123在半导体层121上方布置为与半导体层121的至少一部分叠置。栅电极123可以包括包含钼(mo)、铝(al)、铜(cu)和/或钛(ti)的各种导电材料，并且可以具有各种层叠结构。例如，栅电极123可以包括mo层和al层，或者可以具有mo/al/mo的多层结构。
60.源电极125和漏电极127也可以包括包含钼(mo)、铝(al)、铜(cu)或钛(ti)的各种导电材料，并且具有各种层叠结构。例如，源电极125和漏电极127均可以包括ti层和al层，或者可以具有ti/al/ti的多层结构。源电极125和漏电极127可以通过接触孔分别连接到半导体层121的源区或漏区。
61.栅极绝缘层103可以布置在半导体层121与栅电极123之间，以确保半导体层121与栅电极123之间的绝缘。栅极绝缘层103可以包括无机材料，诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅。第一层间绝缘层105可以作为具有预定介电常数的层布置在栅电极123上，并且第一层间绝缘层105可以是包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的绝缘层。源电极125和漏电极127可以位于第一层间绝缘层105上。可以通过化学气相沉积(“cvd”)或原子层沉积(“ald”)形成以上包括无机材料的绝缘层(膜)。这也可以应用于稍后描述的实施例及其修改。
62.电容器cst可以包括第一电极ce1和第二电极ce2。第一电极ce1和第二电极ce2彼此叠置并且第一层间绝缘层105位于它们之间，从而形成电容。在这种情况下，第一层间绝缘层105用作电容器cst的介电层。
63.第一电极ce1可以与栅电极123位于同一层中。第一电极ce1可以包括与栅电极123相同的材料，例如，可以包括包含钼(mo)、铝(al)、铜(cu)和/或钛(ti)的各种导电材料，并且可以具有各种层叠结构(例如，mo/al/mo的多层结构)。第二电极ce2可以与源电极125和漏电极127位于同一层上。第二电极ce2可以包括与源电极125和漏电极127相同的材料，例如，可以包括包含钼(mo)、铝(al)、铜(cu)和/或钛(ti)的各种导电材料，并且可以具有各种层叠结构(例如，ti/al/ti的多层结构)。
64.平坦化层109可以位于薄膜晶体管120上方。当作为显示元件200的示例的有机发光器件布置在薄膜晶体管120上方时，平坦化层109可以使覆盖薄膜晶体管120的第二层间绝缘层107的上部基本上平坦化。平坦化层109可以包括例如通用商业聚合物(诸如苯并环丁烯(“bcb”)、聚酰亚胺、六甲基二硅氧烷(“hmdso”)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(“pmma”)或聚苯乙烯(“ps”))、具有酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物及其共混物。尽管图1示出了具有单层结构的平坦化层109，但是平坦化层109在另一实施例中可以具有多层结构，并且可以进行各种修改。
65.显示元件200可以位于平坦化层109上。显示元件200可以是包括像素电极210、对电极230和中间层220的有机发光器件。中间层220可以设置在像素电极210与对电极230之间，并且包括发射层。
66.显示元件200的像素电极210通过形成在平坦化层109等中的开口部分(接触孔)接触源电极125和漏电极127中的一个，因此电连接到薄膜晶体管120。像素电极210可以是(半)透光电极或反射电极。在一些实施例中，像素电极210可以包括反射膜以及反射膜上的透明或半透明电极层，反射膜包括银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)或其混合物。透明或半透明电极层可以包括从包含氧化铟锡(“ito”)、氧化铟锌(“izo”)、氧化锌(zno)、氧化铟(in2o3)、氧化铟镓(“igo”)和氧化铝锌(“azo”)的组中选择的至少一种。像素电极210可以具有ito/ag/ito堆叠结构。
67.像素限定层110可以位于平坦化层109上。像素限定层110可以限定对应于每个子像素的开口，因此可以限定像素(或发射区域)。在这方面，开口形成为使像素电极210的中心部分的至少一部分暴露。像素限定层110可以通过增大像素电极210的边缘与布置在像素电极210上方的对电极230之间的距离来防止在像素电极210的边缘处发生电弧等。像素限定层110可以包括从包含聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、bcb和酚醛树脂的组中选择的一种或更多种有机绝缘材料，并且可以通过诸如旋涂的方法形成。
68.显示元件200的中间层220可以包括低分子量材料或聚合物材料。当中间层220包括低分子量材料时，中间层220可以具有其中空穴注入层(“hil”)、空穴传输层(“htl”)、发射层(“eml”)、电子传输层(“etl”)、电子注入层(“eil”)等以单种结构或复合结构堆叠的结构，并且可以通过真空沉积形成。当中间层220包括聚合物材料时，中间层220可以具有包括htl和eml的结构。在这方面，htl可以包括聚(3,4
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乙撑二氧噻吩)(“pedot”)，并且eml可以包括聚合物材料，诸如聚苯撑乙烯撑类(“ppv”)材料、聚芴类材料等。中间层220可以通过丝网印刷、喷墨印刷、沉积或激光诱导热成像(“liti”)形成。然而，根据发明的中间层220不限于此，并且可以具有各种结构。
69.如上所述，在另一实施例中，中间层220可以包括遍及第一显示元件200的第一像
素电极210至第三显示元件200的第三像素电极210的单片层。然而，中间层220可以包括被图案化为与第一像素电极210至第三像素电极210中的每个对应的层。在任何情况下，中间层220都包括第一颜色发射层。第一颜色发射层可以是遍及第一像素电极210至第三像素电极210的单片，或者可以被图案化为与第一像素电极210至第三像素电极210中的每个对应。第一颜色发射层可以发射具有第一波段中的波长的光，例如，可以发射具有约450纳米(nm)至约495nm的波长的光。
70.显示元件200的对电极230遍及显示区域布置。作为示例，对电极230可以包括覆盖显示区域的整个表面的单片层，并且可以遍及显示区域布置。即，对电极230可以一体地形成在多个显示元件200中以对应于多个像素电极210。在这方面，对电极230可以覆盖显示区域并且延伸到显示区域外部的非显示区域的一部分。作为另一示例，对电极230可以被图案化为与多个像素电极210中的每个对应。
71.对电极230可以是透光电极或反射电极。在一些实施例中，对电极230可以是透明或半透明电极，并且可以包括包含锂(li)、钙(ca)、氟化锂/钙(lif/ca)、氟化锂/铝(lif/al)、铝(al)、银(ag)、镁(mg)或其混合物的具有小的逸出功的金属薄膜。除了金属薄膜之外，还可以包括透明导电氧化物(“tco”)膜，诸如ito、izo、zno或in2o3。
72.这样的有机发光器件会容易被外部湿气或氧损坏，因此可以被封装层130覆盖并且被保护。封装层130包括至少一个有机封装层和至少一个无机封装层。例如，封装层130可以包括第一无机封装层131、有机封装层133和第二无机封装层135。
73.第一无机封装层131可以覆盖对电极230，并且可以包括氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅。诸如盖层的其他层(未示出)可以位于第一无机封装层131与对电极230之间。因为第一无机封装层131沿着对电极230的结构形成，所以第一无机封装层131的上表面不平坦，因此有机封装层133覆盖第一无机封装层131，以提供平坦的上表面。有机封装层133可以包括从包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯和hmdso的组中选择的一种或更多种材料。第二无机封装层135可以覆盖有机封装层133，并且可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等。
74.即使当在封装层130内部发生裂纹时，封装层130也可以通过上述多层结构来防止裂纹在第一无机封装层131与有机封装层133之间或在有机封装层133与第二无机封装层135之间传播。因此，可以防止或减少外部湿气或氧可能通过其渗透的路径的形成。
75.滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)可以位于显示元件层上方。具体地，显示元件层可以包括第一显示元件200至第三显示元件200，并且在垂直于下基底100或上基底400的方向(即，z轴方向)上的视图(即，平面图)中，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330可以分别与第一显示元件200的第一像素电极210(或发射层)至第三显示元件200的第三像素电极210(或发射层)叠置。因此，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330可以分别过滤从第一显示元件200至第三显示元件200发射的光。
76.根据一个或更多个实施例的显示设备的第一显示元件200至第三显示元件200可以分别包括第一像素电极210至第三像素电极210以及与第一像素电极210至第三像素电极210对应的对电极230。中间层220可以位于第一像素电极210至第三像素电极210中的每个与对电极230之间，并且可以包括发射具有第一波段中的波长的光的第一颜色发射层。在这种情况下，在第一像素px1中，在中间层220中产生的第一波段中的波长的光在没有波长转
换的情况下被发射到外部。因此，第一像素px1中的第一滤色器部分310不具有量子点层。如上所述，因为第一像素px1不需要量子点层，所以可以在第一滤色器部分310的第一颜色区域中布置包括透光树脂的透光层313来代替量子点层。透光层313可以包括亚克力、bcb或hmdso。
77.具体地，第一滤色器部分310包括第一滤色器层311，第二滤色器部分320包括第二滤色器层321和第二颜色量子点层323，并且第三滤色器部分330包括第三滤色器层331和第三颜色量子点层333。
78.第一滤色器层311可以仅使具有约450nm至约495nm的波长的光通过，第二滤色器层321可以仅使具有约495nm至约570nm的波长的光通过，并且第三滤色器层331可以仅使具有约630nm至约780nm的波长的光通过。第一滤色器层311至第三滤色器层331可以在显示设备中减少外部光反射。
79.例如，当外部光到达第一滤色器层311时，仅具有如上所述的预定波长的光穿过第一滤色器层311，并且其他波长的光被第一滤色器层311吸收。因此，在入射在显示设备上的外部光之中仅具有如上所述的预定波长的光穿过第一滤色器层311，并且穿过第一滤色器层311的光的一部分被下方的第一显示元件200的对电极230或第一像素电极210反射并被发射回到外部。结果，仅入射在定位有第一像素px1之处的外部光的一部分被反射到外部，因此可以减少外部光反射。该描述也可以以类似的方式应用于第二滤色器层321和第三滤色器层331。
80.第二颜色量子点层323可以将在第二显示元件200的中间层220中产生的第一波段中的波长的光转换为第二波段中的波长的光。例如，当在第二显示元件200的中间层220中产生具有约450nm至约495nm的波长的光时，第二颜色量子点层323可以将所述光转换成具有约495nm至约570nm的波长的光。因此，在第二像素px2中，具有约495nm至约570nm的波长的光被发射到外部。
81.第三颜色量子点层333可以将在第三显示元件200的中间层220中产生的第一波段中的波长的光转换为第三波段中的波长的光。例如，当在第三显示元件200的中间层220中产生具有约450nm至约495nm的波长的光时，第三颜色量子点层333可以将所述光转换为具有约630nm至约780nm的波长的光。因此，在第三像素px3中，具有约630nm至约780nm的波长的光被发射到外部。
82.第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333中的每个可以包括分散在树脂中的量子点。
83.量子点的尺寸可以为几纳米，并且转换后的光的波长根据量子点的粒径而改变。即，量子点可以根据量子点的粒径来调节将要发射的光的颜色，因此，量子点可以具有各种发射颜色，诸如蓝色、红色和绿色。量子点的粒径可以具有等于或小于约45nm或更小、具体地等于或小于约40nm或更小、更具体地等于或小于约30nm或更小的发射波长光谱的半峰全宽(“fwhm”)。在该范围内可以改善色纯度或颜色再现性。因为通过这种量子点发射的光沿所有方向发射，所以可以改善光相对于包括量子点的显示设备的视角。量子点的形状不具体限于本领域中通常使用的形状，而是更具体地可以以球形、金字塔形、多臂或立方体的纳米颗粒、纳米管、纳米线、纳米纤维、纳米板颗粒形状为特征。量子点可以包括半导体材料，诸如硫化镉(cds)、碲化镉(cdte)、硫化锌(zns)或磷化铟(inp)。
84.包括在第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333中的树脂可以是透光材料。例如，可以使用诸如亚克力、bcb或hmdso的聚合物树脂来形成第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333。
85.在根据本实施例的显示设备中，在第一像素px1中向外发射第一波段中的光，在第二像素px2中向外发射第二波段中的光，并且在第三像素px3中向外发射第三波段中的光。因此，根据本实施例的显示设备可以显示全色图像。
86.在下文中，作为形成滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)的方法，将顺序地描述在显示元件层上直接布置滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)而不制造单独的滤色器单元的方法(在下文中，第一实施例)以及制造包括滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)的单独的滤色器单元并将该滤色器单元结合到显示元件层的上部的方法(在下文中，第二实施例)。
87.根据第一实施例(参照图1至图14)，可以通过在显示元件层上直接布置滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)而不制造单独的滤色器单元来形成显示设备。在这方面，描述“在显示元件层上直接布置
……”
意味着在不制造单独的滤色器单元的情况下，在显示元件层上直接布置滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)以形成一体结构。
88.在这种情况下，可以在布置于显示元件层上的封装层130上直接布置滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)。可以在滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)与封装层130之间布置诸如有机层、无机层、导电层或它们的复合膜的层。可以在滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)的顶部上或者在滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)的滤色器层与量子点层之间布置绝缘层il1或il2。
89.根据第二实施例(参照图15至图22)，可以通过单独制造包括显示元件层的显示单元和包括滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)的滤色器单元，然后通过将滤色器单元结合到显示单元的上部来制造显示设备。即，显示设备可以包括显示单元和与显示单元相对布置的滤色器单元。
90.显示单元可以包括布置在下基底100之上的第一像素px1至第三像素px3。第一像素px1至第三像素px3可以分别包括第一显示元件200至第三显示元件200。布置在第一像素px1至第三像素px3中的第一显示元件200至第三显示元件200均可以包括产生第一颜色(例如，蓝色)光的发射层。
91.可以通过准备上基底400并且在上基底400的第一表面(即，当显示单元和滤色器单元结合在一起时面对显示单元的表面)上形成滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)来制造滤色器单元。下面将参照图15至图22给出制造滤色器单元的工艺的详细描述。
92.在下文中，将参照图1至图14描述根据第一实施例的制造显示设备的工艺及其修改，并且将参照图15至图22描述根据第二实施例的制造显示设备的工艺及其修改。然而，省略重复的描述。
93.虽然为了方便起见，对布置在特定像素中的显示元件、滤光器部分、滤色器层、透光层或量子点层进行了描述，但是同样的描述也可以应用于布置在另一像素中的显示元
件、滤光器部分、滤色器层、透光层或量子点层。例如，第一滤色器层的描述也可以应用于第二滤色器层和第三滤色器层，并且第二颜色量子点层的描述也可以应用于第三颜色量子点层。
94.图1是根据实施例(第一实施例)的显示设备的一部分的示意性剖视图。图2至图10是制造图1的显示设备的一部分的工艺的示意性剖视图。具体地，图2至图10是在下基底100上方形成包括第一显示元件200至第三显示元件200的显示元件层，然后在显示元件层上制造封装层130、透光层313和量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)以及滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)的工艺的示意性剖视图。
95.如图2和图3中所示，在下基底100上方形成包括第一显示元件200至第三显示元件200的显示元件层，并且在显示元件层上形成封装层130。
96.封装层130可以包括第一无机封装层131、有机封装层133和第二无机封装层135。当有机封装层133布置在第一无机封装层131与第二无机封装层135之间时，封装层130的上表面(即，第二无机封装层135的上表面)可以是平坦的。
97.接下来，如图4中所示，在封装层130上形成第一分隔壁b1。第一分隔壁b1可以在封装层130上彼此分离，并且在垂直于下基底100的方向(即，z轴方向)上的视图(即，平面图)中可以限定分别与第一显示元件200至第三显示元件200叠置的第一颜色区域至第三颜色区域。即，第一分隔壁b1限定位于相邻的第一分隔壁b1之间的区域(在下文中，“分离区域”)中的第一颜色区域至第三颜色区域，并且第一颜色区域至第三颜色区域在垂直于下基底100的方向上分别对应于第一显示元件200至第三显示元件200。具体地，第一颜色区域至第三颜色区域分别对应于第一像素px1至第三像素px3的发射区域。
98.可以在第一颜色区域至第三颜色区域中分别布置透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333(见图6)。在这方面，可以根据透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333最终形成在第一颜色区域至第三颜色区域中的高度来确定第一分隔壁b1的高度(即，在z轴方向上的长度)。例如，可以将第一分隔壁b1形成为使得在z轴方向上从封装层130的上表面到第一分隔壁b1的上表面的距离等于或大于从封装层130的上表面到最终形成的第二颜色量子点层323的上表面的距离和从封装层130的上表面到最终形成的第三颜色量子点层333的上表面的距离中的每个。
99.第一分隔壁b1可以被图案化成非发射区域以用作阻光层。即，光可以仅通过第一颜色区域至第三颜色区域发射到外部，第一颜色区域至第三颜色区域是显示元件层上方的其中未定位有第一分隔壁b1的分离区域。
100.第一分隔壁b1可以包括在被光照射时引起化学变化的材料(例如，光致抗蚀剂)。例如，第一分隔壁b1可以包括芳香族双叠氮化物、甲基丙烯酸酯、肉桂酸酯等作为负性光致抗蚀剂，并且/或者可以包括pmma、萘醌二叠氮化物、聚丁烯
‑1‑
砜等作为正性光致抗蚀剂。然而，发明不限于上述示例。在可选的实施例中，第一分隔壁b1可以包括黑矩阵、黑色颜料、金属材料等以用作阻光层，并且可以包括诸如al、ag等的反射材料以提高光效率。
101.接下来，如图5中所示，在第一分隔壁b1上形成第二分隔壁b2。第二分隔壁b2防止注入到作为第一分隔壁b1的分离区域(即，使第一分隔壁b1分离的区域)的第一颜色区域至第三颜色区域中的材料在注入时溢出到相邻区域或者与注入到相邻区域中的材料混合。可以根据注入到第一颜色区域至第三颜色区域中的材料在注入时注入的材料的最大高度来
确定第二分隔壁b2在z轴方向上的高度。例如，可以将第二分隔壁b2形成为使得在z轴方向上从封装层130的上表面到第二分隔壁b2的上表面的距离等于或大于从封装层130的上表面到透光层材料、第二颜色量子点层材料(即，填充在第二颜色区域中的材料)或第三颜色量子点层材料(即，填充在第三颜色区域中的材料)的上表面的最大距离。
102.第二分隔壁b2可以包括与第一分隔壁b1相同的材料。例如，第二分隔壁b2可以包括芳香族双叠氮化物、甲基丙烯酸酯、肉桂酸酯等作为负性光致抗蚀剂，并且/或者可以包括pmma、萘醌二叠氮化物、聚丁烯
‑1‑
砜等作为正性光致抗蚀剂。
103.在另一实施例中，第二分隔壁b2可以包括与第一分隔壁b1不同的材料。例如，第二分隔壁b2的上表面可以是疏水的。即，可以对第二分隔壁b2的上表面进行疏水表面处理。疏水表面处理可以包括各种方法，诸如赋予材料疏水性的方法和使用疏水涂层的方法。各种方法的示例包括使用具有低表面能的材料(例如，氟)的化学方法、通过经由纳米复合结构在表面上形成粗糙度来减少液体与材料之间的接触表面的结构方法以及使用涂覆材料(例如，氧化锰聚苯乙烯(mno2/ps)纳米复合材料、氧化锌聚苯乙烯(zno/ps)纳米复合材料、沉淀碳酸钙、碳纳米管结构、二氧化硅纳米涂料等)的涂覆方法。然而，发明不限于上述示例。
104.如上所述，由于第二分隔壁b2的上表面被疏水处理，所以第二分隔壁b2的上表面和第二分隔壁b2的内表面可以具有不同程度的疏水性，因此，注入到第一颜色区域至第三颜色区域中的材料可以朝向第二分隔壁b2的上表面凸起。因此，可以防止其中分别注入到第一颜色区域至第三颜色区域中的材料因侵入相邻区域而混合的现象。
105.在另一个实施例中，代替仅对第二分隔壁b2的上表面进行疏水处理，可以对第二分隔壁b2的上表面和内表面进行不同程度的疏水表面处理。例如，第二分隔壁b2的上表面的疏水性可以高于第二分隔壁b2的内表面的疏水性。作为执行不同程度的疏水表面处理的方法，可以使用改变提供在第二分隔壁b2的上表面和内表面上的每单位面积的氟原子数的方法，但是根据发明的公开不限于上述示例。
106.接下来，如图6至图8中所示，在第二颜色区域和第三颜色区域中形成量子点层。具体地，在第二颜色区域中形成第二颜色量子点层323，并且在第三颜色区域中形成第三颜色量子点层333。在形成这种量子点层的操作中，可以在第一颜色区域中形成透光层313而不是量子点层。形成量子点层的方法可以使用喷墨印刷工艺，但不限于此。
107.形成量子点层的操作可以包括：将第二颜色量子点层材料注入到第二颜色区域中并且将第三颜色量子点层材料注入到第三颜色区域中的操作、使包括在第二颜色量子点层材料中的材料的一部分和包括在第三颜色量子点层材料中的材料的一部分挥发的操作、以及使第二颜色量子点层材料和第三颜色量子点层材料固化的操作。即，在根据本实施例的制造显示设备的方法中，通过将量子点层材料注入到超过量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)的预设最终形成高度(在z轴方向上的预设高度)的高度，并且使注入的量子点层材料挥发然后固化，直到注入的量子点层材料的高度减小到预设高度，可以以预设高度形成量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)。
108.具体地，使包括在第二颜色量子点层材料中的材料的一部分和包括在第三颜色量子点层材料中的材料的一部分挥发，使得从封装层130的上表面到第二颜色量子点层材料的上表面的距离和从封装层130的上表面到第三颜色量子点层材料的上表面的距离均等于或小于在z轴方向上的预设距离。即，可以通过控制用于使量子点层材料挥发的条件(例如，
时间、温度、湿度等)将最终量子点层的顶部的高度调节至预设高度。
109.在这方面，预设距离可以是在z轴方向上从封装层130的上表面到第一分隔壁b1的上表面的距离。在这种情况下，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333在z轴方向上的高度均等于或小于第一分隔壁b1在z轴方向上的高度。
110.量子点层材料的挥发意味着量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分的挥发。具体地，在挥发操作期间，使第二颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分和第三颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分挥发。在这方面，“除量子点之外的材料”可以包括量子点层材料中所包括的单体。未挥发的残余单体可以在固化操作之后以聚合物的形式存在于量子点层中。例如，量子点层材料中的除量子点之外的材料可以包括构成作为透光材料的聚合物树脂(诸如亚克力、bcb或hmdso)的单体。
111.如上所述，通过使第二颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分和第三颜色量子点层材料中的除量子点之外的材料的一部分挥发，可以减小量子点层323和333的高度，并且可以显著增大包括在量子点层材料中的量子点的浓度。
112.图8是注入到第二颜色区域(或第三颜色区域)中的第二颜色量子点层材料(或第三颜色量子点层材料)中包括的材料的一部分挥发之前和之后的示意性剖视图。如图8中所示，量子点层材料(第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)可以包括量子点323
‑
2和除量子点之外的材料323
‑
1。在使包括在量子点层材料(即，第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)中的材料的一部分挥发的操作期间，除量子点之外的材料323
‑
1挥发，而量子点323
‑
2不挥发，从而保持量子点323
‑
2的量。因此，随着除量子点之外的材料323
‑
1挥发，量子点层最终形成的高度减小，而包括在量子点层材料(即，第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)中的量子点323
‑
2的浓度增大。
113.在现有技术中，在通过喷墨工艺形成量子点层时，为了将粘度保持在预定水平或更低，在不增大包括在量子点层材料中的量子点的浓度的情况下，不得不增大将要注入的量子点层材料的量。由于这一点，量子点层和分隔壁形成得过高，因此，从量子点层发射的光之中的相对于z轴方向以大角度发射的光被分隔壁吸收，从而降低效率或导致分隔壁容易受到物理损坏(例如，分隔壁的破裂)的影响。相比之下，根据发明的一个或更多个实施例，可以在注入时注入相对低浓度的量子点层材料，并且由于注入的量子点层材料挥发，量子点的浓度与注入时相比可以增大到更高的浓度，同时量子点层的最终形成高度减小。因此，容易使量子点层材料在注入时满足预定的粘度水平，并且通过减小最终形成的量子点层和分隔壁的高度，可以增大量子点层的发射效率，并且可以减少由于对分隔壁的物理损坏而导致的缺陷。
114.可以通过热能使包括在量子点层材料(即，第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)中的材料的一部分挥发。即，可以通过向量子点层材料(即，第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)提供热能而使包括在量子点层材料(即，第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)中的材料的一部分挥发。作为提供热能的方法的示例，可以使用真空干燥(“vcd”)工艺、烘焙工艺等，但是根据发明的公开不限于此。为了防止其他层(例如，包括在显示元件层中的有机发射层等)被热能损坏，可以在保持满足预定温度或更低的条件的同时提供热能。
115.接下来，如图9中所示，去除第二分隔壁b2。第二分隔壁b2用于防止量子点层材料
(第二颜色量子点层材料或第三颜色量子点层材料)在注入时流到相邻区域，因此在通过挥发和固化操作最终形成量子点层时被去除。因此，可以减小最终的量子点层的高度。第二分隔壁b2可以包括例如光致抗蚀剂材料，因此可以通过去除光致抗蚀剂材料的剥离工艺来去除第二分隔壁b2。然而，根据发明的公开不限于此，并且在另一实施例中，可以通过诸如蚀刻的各种方法来去除包括各种材料的第二分隔壁b2。
116.接下来，如图10中所示，在去除第二分隔壁b2之后，在透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333上方形成滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)。
117.可以在透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333上设置第一绝缘层il1。第一绝缘层il1可以包括透光无机绝缘材料。例如，第一绝缘层il1可以包括诸如氧化硅、氮化硅或氮氧化硅的材料。
118.期望防止第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333在制造工艺期间或在制造之后的使用期间被损坏。例如，有必要防止在第二滤色器层321中产生的释气损坏第二颜色量子点层323中的量子点并导致量子点不能将第一波段中的光转换成第二波段中的光。同样地，期望防止在第三滤色器层331中产生的释气损坏第三颜色量子点层333中的量子点并导致量子点不能将第一波段中的光转换成第三波段中的光。为此，可以在第二滤色器层321与第二颜色量子点层323之间布置第一绝缘层il1，并且也可以在第三滤色器层331与第三颜色量子点层333之间布置第一绝缘层il1。第一绝缘层il1可以包括诸如氧化硅、氮化硅或氮氧化硅的无机材料层，以防止气体通道。第一绝缘层il1可以包括有机材料层，有机材料层包括从包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯和hmdso的组中选择的一种或更多种材料。可以一体地形成第一绝缘层il1以覆盖透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333的全部。
119.可以在第一绝缘层il1上布置第三分隔壁b3，以对应于第一分隔壁b1。即，第三分隔壁b3布置在第一分隔壁b1上方，以在垂直于下基底100的方向(即，z轴方向)上的视图(即，平面图)中与第一分隔壁b1叠置。在第三分隔壁b3之间的分离区域中形成滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)。
120.可以在滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)上形成第二绝缘层il2，以覆盖第三分隔壁b3和滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)。第二绝缘层il2可以包括与第一绝缘层il1相同的材料，例如，可以包括诸如氧化硅、氮化硅或氮氧化硅的材料作为透光无机绝缘材料。
121.图11是图1的显示设备的修改示例的一部分的示意性剖视图(第一实施例的修改示例)。图12至图14是制造图11的显示设备的一部分的工艺的一部分的示意性剖视图。
122.如图11中所示，根据本修改示例的显示设备还可以包括覆盖第一分隔壁b1的反射板600。
123.反射板600可以通过防止从量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)发射的光的一部分被第一分隔壁b1吸收并且通过反射该部分光来提高量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)的发射效率。反射板600可以包括反射金属材料，例如，可以包括诸如al或ag的金属。
124.在下文中，将参照图12至图14描述根据第一实施例的修改示例的制造显示设备的
工艺。将主要描述与根据第一实施例的制造显示设备的工艺的差异，并且省略冗余描述。
125.如图12中所示，形成反射板600，以覆盖封装层130的上表面和形成在封装层130上的第一分隔壁b1。
126.接下来，如图13中所示，在反射板600上形成第二分隔壁b2。即，在根据本修改示例的制造显示设备的工艺中，形成第二分隔壁b2的操作是在反射板600的覆盖第一分隔壁b1的部分上形成第二分隔壁b2的操作。
127.接下来，如图14中所示，去除反射板600的未覆盖第一分隔壁b1的部分。因此，反射板600仅保留覆盖第一分隔壁b1的部分，并且从第一分隔壁b1之间的发射区域被去除，以允许从布置在反射板600下方的发射层产生的光垂直地(即，在z轴方向上)到达发射区域中的透光层313、量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)和滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)。
128.尽管可以使用利用光致抗蚀剂的干法蚀刻工艺、湿法蚀刻工艺等来去除反射板600的未覆盖第一分隔壁b1的部分，但是根据发明的公开不限于上述示例，并且可以应用任何图案化工艺。
129.随后，可以执行与第一实施例的制造工艺相同的工艺(参照图6至图10)来制造根据本修改示例的显示设备。
130.图15是根据另一实施例(第二实施例)的显示设备的一部分的示意性剖视图。图16至图21是制造图15的显示设备的一部分的工艺的示意性剖视图。
131.第一实施例的描述也可以应用于第二实施例，且主要描述第一实施例与第二实施例之间的差异，并且省略冗余描述。
132.参照图15，尽管封装层130下方的结构与上述图1的结构相同，但是不同之处在于单独制造滤色器单元并且将滤色器单元结合到封装层130的上部。在下文中，将主要描述单独制造并且结合到封装层130的上部的滤色器单元的结构，并且省略冗余描述。
133.参照图15，滤色器单元的组件布置在上基底400的第一表面上。在这方面，“第一表面”指当上基底400布置在下基底100上方时面对下基底100的表面(在
‑
z轴方向上面对下基底100的表面)。在下面的图15的描述中，组件被描述为布置在上基底400的第一表面上，但是滤色器单元基本上倒置布置，使得上基底400如图15中所示地设置在顶部。在下文中，参照图16至图21描述制造滤色器单元的工艺。因此，在图15至图21的描述中，组件布置在“第一表面”上的描述可以被理解为意味着：当滤色器单元被布置为用于与显示单元结合时，组件(在
‑
z轴方向上)布置在面对显示单元的表面下方。例如，当“层b”被称为布置在“层a”上时，参照图15，在根据本实施例的显示设备中，“层b”可以基本上布置在“层a”下面。
134.如图15中所示，滤色器单元包括上基底400。上基底400设置在下基底100上方，因此，显示元件层布置在上基底400与下基底100之间。与下基底100类似，上基底400可以包括玻璃、透明金属或聚合物树脂。
135.滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)位于上基底400上。滤色器单元结合到包括显示元件层的显示单元，使得滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)分别面对第一像素px1至第三像素px3。
136.作为示例，填充材料500可以位于滤色器单元(即，填充材料500上方的单元)与显示单元(即，填充材料500下方的单元)之间。填充材料500可以用作抵抗外部压力等的缓冲
物。填充材料500可以包括作为有机密封剂的有机材料(诸如甲基硅树脂、苯基硅树脂、聚酰亚胺、聚氨酯类树脂、环氧类树脂和丙烯酸类树脂等)或者作为无机密封剂的硅酮。然而，发明不限于上述示例。
137.作为另一示例，滤色器单元和显示单元可以通过粘合层(未示出)结合。粘合层可以是例如光学透明粘合剂(“oca”)，但不限于此。
138.图16至图21是制造作为根据本实施例的显示设备的一部分的滤色器单元的工艺的示意性剖视图。
139.如图16中所示，在上基底400的第一表面上形成滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)，并且形成保护层(例如，第二绝缘层il2)以覆盖滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)。在这方面，保护层可以包括与第一实施例的第一绝缘层il1或第二绝缘层il2相同的材料。
140.接下来，如图17至图21中所示，在滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)上方分别形成透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333。更具体地，通过在保护层上形成限定第一颜色区域至第三颜色区域的第一分隔壁b1的操作、在第一分隔壁b1上形成第二分隔壁b2的操作、在第二颜色区域中形成第二颜色量子点层并且在第三颜色区域中形成第三颜色量子点层的操作、以及去除第二分隔壁b2的操作来在滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)上方分别形成透光层313、第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333。上面描述的根据第一实施例的制造显示设备的方法的相同描述也应用于上述操作，因此，省略其冗余描述。
141.即，根据第一实施例的显示设备和根据第二实施例的显示设备仅在滤色器单元是否单独制造以及形成滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)和量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)的顺序方面不同，并且具有应用于详细制造操作的相同技术。具体地，根据第一实施例的显示设备通过在显示元件层上直接布置滤光器部分(例如，第一滤色器部分310至第三滤色器部分330)而不单独制造滤色器单元来制造。另外，在根据第一实施例的显示设备的制造操作中，形成量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)，然后在量子点层上形成滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)。另一方面，根据第二实施例的显示设备通过单独制造滤色器单元并且将滤色器单元结合到显示单元的上部来制造。另外，在根据第二实施例的显示设备的制造操作中，在滤色器单元的制造期间，形成滤色器层(例如，第一滤色器层311至第三滤色器层331)，然后在滤色器层上形成量子点层(例如，第二颜色量子点层323和第三颜色量子点层333)。
142.图22是图15的显示设备的修改示例的一部分的示意性剖视图(第二实施例的修改示例)。
143.如图22中所示，与第一实施例的修改示例类似，图15的显示设备的修改示例(第二实施例的修改示例)也可以进一步包括反射板600。第一实施例的反射板600的详细构造和制造方法可以以相同的方式应用于第二实施例的反射板600。
144.根据上述实施例中的一个或更多个，可以实现由此可以改善量子点层的效率的制造显示设备的方法。然而，公开不受这种效果的限制。
145.虽然已经主要描述了制造显示设备的方法，但是公开不限于此。例如，将理解的
是，通过所述制造显示设备的方法制造的显示设备也落入公开的范围内。
146.应当理解的是，在此描述的实施例应当仅以描述性意义来考虑，而不是出于限制的目的。每个实施例内的特征或方面的描述通常应被认为可用于其他实施例中的其他类似特征或方面。虽然已经参照附图描述了一个或更多个实施例，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离如由权利要求限定的精神和范围的情况下，可以在其中做出形式和细节上的各种改变。