基片液处理装置和基片液处理方法与流程

技术特征：
1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由所述液配管供给的处理液；阀机构，其调节所述液配管中的所述处理液的流动；和液检测传感器，其检测所述液配管中是否存在所述处理液，在所述阀机构工作以使所述液配管中的所述处理液位于比所述液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，所述液检测传感器检测在位于第一测量点的所述第一配管测量部位是否存在所述处理液。2.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液配管设置有多个，该多个液配管分别被设置成能够相对于所述液检测传感器相对地移动，在所述多个液配管各自的所述第一配管测量部位通过所述第一测量点时，所述液检测传感器检测在所述多个液配管各自的所述第一配管测量部位是否存在所述处理液。3.如权利要求1或2所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液配管包括：具有所述第一配管测量部位的供给管线；和连接到所述供给管线并设置在比所述释放嘴低的位置的排液管线，所述阀机构包括：供给开闭阀，其调节所述供给管线中的所述处理液的流动；和排液开闭阀，其调节所述排液管线中的所述处理液的流动，当使所述供给管线中的所述处理液位于比所述第一配管测量部位靠上游处时，所述排液开闭阀工作以使所述处理液从所述供给管线流到所述排液管线。4.如权利要求1～3中任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液检测传感器具有能够接收检测光的受光部和发出所述检测光的发光部，所述液配管被设置成，能够以横穿从所述发光部去往所述受光部的所述检测光的光路的方式相对于所述液检测传感器相对地移动，根据所述受光部接收的所述检测光的光量的大小与阈值之比较，检测在所述第一配管测量部位是否存在所述处理液。5.如权利要求2所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液检测传感器具有能够检测检测光的受光部和发出所述检测光的发光部，所述多个液配管分别被设置成，能够以横穿从所述发光部去往所述受光部的所述检测光的光路的方式相对于所述液检测传感器相对地移动，根据所述受光部接收的所述检测光的光量的大小与针对所述多个液配管分别设定的阈值之比较，检测在所述多个液配管各自的所述第一配管测量部位是否存在所述处理液。6.如权利要求1～5中任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液检测传感器检测在所述液配管中的与所述第一配管测量部位不同的第二配管测量部位是否存在所述处理液，其中，所述第二配管测量部位位于与所述第一测量点不同的第二测量点。7.一种基片液处理方法，其特征在于，包括：用阀机构调节所述液配管中的所述处理液的流动，以使得与释放嘴连接的液配管中的处理液位于比所述液配管的第一配管测量部位靠上游处的步骤；和
用液检测传感器检测在位于第一测量点的所述第一配管测量部位是否存在所述处理液的步骤。

技术总结
本发明提供有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生的基片液处理装置和基片液处理方法。基片液处理装置包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由液配管供给的处理液；阀机构，其调节液配管中的处理液的流动；和液检测传感器，其检测液配管中是否存在处理液。在阀机构工作以使液配管中的处理液位于比液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，液检测传感器检测在位于第一测量点的第一配管测量部位是否存在处理液。测量部位是否存在处理液。测量部位是否存在处理液。


技术研发人员：中岛干雄 田中明贤 绪方信博 宫本勋武
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.05.12
技术公布日：2021/11/24