用于淋釉系统的回收装置的制作方法

1.本实用新型涉及瓷砖生产技术领域，具体为用于淋釉系统的回收装置。


背景技术：

2.淋釉系统，是用于在瓷砖的表面喷淋釉料，以使瓷砖上色。淋釉系统在对瓷砖进行淋釉的时候，釉料涂抹在瓷砖后会有多余的釉料往瓷砖的正下方流，此时一般会设置回收系统来回收釉料。现有的回收系统，仅设置有用于承接淋完瓷砖之后剩余的釉料的接釉槽，接釉槽通过管道与釉料桶连通；在这过程中，釉料容易在接釉槽上沉淀、堆积在接釉槽上，因此造成釉料回流不顺畅，需要人工定期清理。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提出用于淋釉系统的回收装置，旨在解决现有技术中釉料容易沉淀、堆积在接釉槽上，造成釉料回流不顺畅的技术问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提出用于淋釉系统的回收装置，包括接釉槽、回流槽和釉料桶，所述接釉槽安装在生产线支架上、且位于淋釉系统的淋罩的正下方，所述接釉槽在其底面开设有下料孔，所述回流槽位于所述下料孔的正下方、且与所述釉料桶连通。
5.优选地，所述接釉槽包括倾斜底板、第一倾斜侧板、第二倾斜侧板和竖板；所述第一倾斜侧板和所述第二倾斜侧板相对设置在所述倾斜底板的两侧；所述竖板的左右两端分别与所述第一倾斜侧板和所述第二倾斜侧板连接，所述竖板的下端与所述倾斜底板的一端连接；所述下料孔开设在所述倾斜底板上。
6.优选地，多个所述下料孔沿所述竖板的长度方向均匀分布在所述倾斜底板上。
7.优选地，所述倾斜底板的倾斜角度α为10
°
～25
°
。
8.优选地，所述下料孔朝向所述回流槽的一侧连通设置有下料导管。
9.优选地，所述下料孔的直径为5mm～15mm。
10.优选地，所述回流槽为开口朝上的弧形件。
11.优选地，所述回流槽从所述接釉槽到所述釉料桶往下倾斜设置。
12.本实用新型用于淋釉系统的回收装置，至少具有以下有益效果：在接釉槽上开设下料孔，并且在下料孔的正下方设置与釉料桶连通的回料槽，使接釉槽上承接的釉料能及时通过下料孔流至回流槽中，然后通过回流槽流向釉料桶；因此釉料不会沉淀、堆积在接釉槽上，釉料的整个回流过程顺畅，无需工作人员定期清理接釉槽。
附图说明
13.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
14.图1为本实用新型回收装置的主视结构示意图；
15.图2为本实用新型回收装置的侧视结构示意图；
16.图3为本实用新型接釉槽的结构示意图；
17.图4为本实用新型接釉槽的侧视结构示意图；
18.图5为本实用新型回流槽的结构示意图。
19.附图中：1
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接釉槽、11
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下料孔、12
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倾斜底板、13
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第一倾斜侧板、14
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第二倾斜侧板、15
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竖板、2
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回流槽、3
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釉料桶、4
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下料导管、5
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生产线支架、6
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淋罩、7
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输送机构。
20.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
22.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
23.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
24.如图1至图5所示，用于淋釉系统的回收装置，包括接釉槽1、回流槽2和釉料桶3，所述接釉槽1安装在生产线支架5上、且位于淋釉系统的淋罩6的正下方，所述接釉槽1在其底面开设有下料孔11，所述回流槽2位于所述下料孔11的正下方、且与所述釉料桶3连通。
25.生产支架上设置有输送机构7，瓷砖在输送机构7上传输，淋釉系统位于生产支架的正上方，釉料通过淋罩6淋在瓷砖的表面，淋在瓷砖表面后剩余的釉料通过回收系统进行回收。接釉槽1安装在生产线支架5上，具体位于输送机构7的正下方，且淋罩6位于接釉槽1的正上方，瓷砖在输送机构7的带动下，在淋罩6和接釉槽1之间通过；接釉槽1的底面开设有供釉料流出的下料孔11；回料槽位于下料孔11的正下方，接釉槽1上的釉料通过下料孔11流向回料槽；回料槽与釉料桶3相连通，从下料孔11排出的釉料通过回料槽回流至釉料桶3。
26.本技术方案，在接釉槽1上开设下料孔11，并且在下料孔11的正下方设置与釉料桶3连通的回料槽，使接釉槽1上承接的釉料能及时通过下料孔11流至回流槽2中，然后通过回流槽2流向釉料桶3；因此釉料不会沉淀、堆积在接釉槽1上，釉料的整个回流过程顺畅，无需工作人员定期清理接釉槽1。
27.进一步地，所述接釉槽1包括倾斜底板12、第一倾斜侧板13、第二倾斜侧板14和竖板15；所述第一倾斜侧板13和所述第二倾斜侧板14相对设置在所述倾斜底板12的两侧；所述竖板15的左右两端分别与所述第一倾斜侧板13和所述第二倾斜侧板14连接，所述竖板15
的下端与所述倾斜底板12的一端连接；所述下料孔11开设在所述倾斜底板12上。接釉槽1具体由四块板件构成，第一倾斜侧板13和第二倾斜侧板14的形状为直角三角形，两者相互平行设置在倾斜底板12的两侧；竖板15的下端与倾斜底板12的一端，竖板15的两端分别和第一倾斜侧板13和第二倾斜侧板14的其中一条直角边连接，倾斜底板12的两侧分别与第一倾斜侧板13和第二倾斜侧板14的斜边连接，因此倾斜底板12呈现为倾斜状态。下料孔11具体开设在倾斜底板12上，且靠近竖板15。釉料掉在倾斜底板12上，由于倾斜底板12向竖板15倾斜，因此釉料会自动向竖板15一侧流动。下料孔11开在倾斜底板12上且靠近竖板15，因此釉料会通过下料孔11流到回流槽2中。接釉槽1如此设置，可方便承接釉料，且釉料可自动流向下料孔11进而流到回流槽2中；釉料流动顺畅、自然，不沉淀、不堆积。
28.进一步地，多个所述下料孔11沿所述竖板15的长度方向均匀分布在所述倾斜底板12上。倾斜底板12的宽度较大，使其能承接住从淋罩6上留下的釉料，为了使倾斜底板12上的釉料能快速地流到回流槽2中，故在倾斜底板12上开设多个下料孔11。下料孔11沿竖板15的长度方向均匀分布设置，不仅能快速排出釉料，还能避免釉料需集中在某一下料孔11处才排至回料槽中，故避免了釉料沉淀、堆积。
29.进一步地，所述倾斜底板12的倾斜角度α为10
°
～25
°
。倾斜底板12与第一倾斜侧板13、第二倾斜侧板14和竖板15结合后呈现出倾斜状态，倾斜角度α具体在10
°
～25
°
范围内。通过实验，发现如果倾斜角度α小于10
°
，则釉料流动的速度则较慢，釉料多少会沉淀、堆积；若倾斜角度大于25
°
，则接釉槽1的整体高度较高，不方便设置在生产线支架5上。因此，倾斜角度α在10
°
～25
°
之间是较优选择。
30.进一步地，所述下料孔11朝向所述回流槽2的一侧连通设置有下料导管4。接釉槽1靠近回料槽的一侧设有下料导管4，下料导管4与下料孔11相连通，接釉槽1上的釉料从下料孔11排出，然后经过下料导管4流出到回料槽上。设置下料导管4可以使釉料更顺畅地流到回料槽上，避免釉料从下料孔11流出后飞溅，同时能避免釉料从下料孔11流出后粘在接釉槽1的下表面。
31.进一步地，所述下料孔11的直径为5mm～15mm。下料孔11的直径过小，则下料不顺畅，釉料容易堵塞下料孔11；在没有下料导管4时，下料孔11的直径过大，釉料容易飞溅、流到接釉槽1的下表面。因此，将下料孔11的直径设置在5mm～15mm之间，能有效避免上述两种情况。
32.进一步地，所述回流槽2为开口朝上的弧形件。回流槽2的具体形状为弧形件，且截面近似半圆形。回流槽2的形状如此设置，可更方便安装；且釉料可更加汇集，流向釉料桶3更加顺畅。
33.进一步地，所述回流槽2从所述接釉槽1到所述釉料桶4往下倾斜设置。回流槽2倾斜设置，可使釉料在自重的情况下自动流向釉料桶4，避免釉料在回流槽2中沉淀、堆积。
34.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。