具有杂散光减少的有源像素设备组件及其涂层的制造方法与流程

技术特征：
1.一种具有杂散光减少的有源像素设备组件，包括：有源像素设备，其包括半导体基板和有源像素的阵列；透光基板，其设置在所述有源像素设备的光接收侧上；以及粗糙的不透明涂层，其设置在所述透光基板的第一表面上并形成与所述有源像素的阵列对准的孔，所述粗糙的不透明涂层是粗糙的，以便抑制从至少一侧入射在其上的光的反射。2.如权利要求1所述的有源像素设备组件，其中所述透光基板的所述第一表面背对所述有源像素设备，所述粗糙的不透明涂层具有面对所述透光基板的界面侧和背对所述透光基板的外侧，所述粗糙的不透明涂层在其外侧上是粗糙的，以便抑制在所述孔的外部朝着所述有源像素设备的所述光接收侧传播的光的反射。3.如权利要求2所述的有源像素设备组件，其中所述粗糙的不透明涂层在其界面侧上也是粗糙的，以便抑制从所述透光基板入射到所述粗糙的不透明涂层上的光的反射。4.如权利要求1所述的有源像素设备组件，其中所述透光基板的所述第一表面面对所述有源像素设备，所述粗糙的不透明涂层具有面对所述透光基板的界面侧和背对所述透光基板的外侧，所述粗糙的不透明涂层在其界面侧上是粗糙的，以便抑制从所述透光基板入射在所述粗糙的不透明涂层上的光的反射。5.如权利要求4所述的有源像素设备组件，其中所述粗糙的不透明涂层在其外侧上也是粗糙的，以便抑制入射在其上的光的反射。6.如权利要求1至5中任一项所述的有源像素设备组件，其中所述透光基板具有基本上垂直于所述透光基板的第一表面的多个侧面，所述粗糙的不透明涂层还设置在所述透光基板的所述多个侧面上并形成对光的屏障。7.如权利要求6所述的有源像素设备组件，其中所述粗糙的不透明涂层具有面对所述透光基板的界面侧和背对所述透光基板的外侧，所述粗糙的不透明涂层在其界面侧上是粗糙的，以便抑制从所述透光基板入射在所述粗糙的不透明涂层上的光的反射。8.如权利要求1至5中任一项所述的有源像素设备组件，其中所述粗糙的不透明涂层的至少一侧具有以0.1微米至1微米范围内的算术平均值为特征的表面粗糙度。9.如权利要求1至5中任一项所述的有源像素设备组件，其中所述粗糙的不透明涂层的至少一侧以反射系数小于0.6％为特征。10.如权利要求1至5中任一项所述的有源像素设备组件，其中所述粗糙的不透明涂层具有至少为0.15微米的厚度。11.如权利要求1至5中任一项所述的有源像素设备组件，其中所述有源像素设备选自由互补金属氧化物半导体图像传感器和硅上液晶设备组成的组。12.一种用于制造用于有源像素设备组件的减少杂散光的涂层的方法，包括：在透光基板上沉积不透明涂层，使得所述不透明涂层形成透光孔；并且使所述不透明涂层粗糙化以形成粗糙的不透明涂层，所述粗糙化包括用碱性溶液处理所述不透明涂层。13.如权利要求12所述的方法，其中处理所述不透明涂层还包括烘烤以加速所述粗糙化。14.如权利要求12所述的方法，其中沉积所述不透明涂层的步骤包括将所述不透明涂
层直接沉积在所述透光基板上。15.如权利要求12所述的方法，还包括：在沉积所述不透明涂层的步骤之前，在所述透光基板上沉积透光涂层：其中(a)沉积所述不透明涂层的步骤包括将所述不透明涂层沉积在所述透光涂层上，所述不透明涂层的界面表面面对所述透光涂层并且所述不透明涂层的外表面背对所述透光涂层，并且(b)使所述不透明涂层粗糙化的步骤包括使所述透光涂层与所述不透明涂层一起粗糙化，使得所述不透明涂层在所述界面表面和所述外表面上都被粗糙化。16.如权利要求12所述的方法，还包括在沉积所述不透明涂层的步骤之前：在所述透光基板上沉积透光涂层；并且使所述透光涂层粗糙化，以形成具有背对所述透光基板的粗糙表面的粗糙的透光涂层；其中(a)沉积所述不透明涂层的步骤包括将所述不透明涂层沉积在所述粗糙的透光涂层上，所述不透明涂层的界面表面面对所述粗糙的透光涂层并且所述不透明涂层的外表面背对所述粗糙的透光涂层，并且使得所述不透明涂层的所述界面表面由于它沉积在其上的所述粗糙的透光涂层的粗糙度而是粗糙的，并且(b)使所述不透明涂层粗糙化的步骤包括使所述不透明涂层的所述外表面粗糙化。17.如权利要求15或16所述的方法，其中所述透光涂层包括选自包括乙烯单体、丙烯酸单体和环氧单体的组的材料，并且所述透光涂层包含粒径在0.5微米至5微米之间的二氧化硅粉末。18.如权利要求17所述的方法，其中所述透光涂层还包括光敏化合物，所述沉积透光涂层还包括用uv光曝光对所述透光涂层进行图案化。19.如权利要求12至16中任一项所述的方法，其中所述不透明涂层包括选自包括乙烯单体、丙烯酸单体和环氧单体的组的材料，所述不透明涂层包括炭黑颜料或染料。20.如权利要求12至16中任一项所述的方法，其中所述不透明涂层包括光敏化合物，所述沉积所述不透明涂层还包括用uv光曝光对所述不透明材料进行图案化。

技术总结
提供了一种具有杂散光减少的有源像素设备组件和一种用于制造用于有源像素设备组件的减少杂散光的涂层的方法。有源像素设备组件包括：有源像素设备，其包括半导体基板和有源像素的阵列；透光基板，其设置在有源像素设备的光接收侧上；以及粗糙的不透明涂层，其设置在透光基板的第一表面上并形成与有源像素的阵列对准的孔，其中粗糙的不透明涂层是粗糙的，以便抑制从至少一侧入射在其上的光的反射。用于制造用于有源像素设备组件的减少杂散光的涂层的方法包括：在透光基板上沉积不透明涂层，使得不透明涂层形成透光孔；并且使不透明涂层粗糙化以形成粗糙的不透明涂层，所述粗糙化包括用碱性溶液处理不透明涂层。糙化包括用碱性溶液处理不透明涂层。糙化包括用碱性溶液处理不透明涂层。


技术研发人员：范纯圣 林蔚峰
受保护的技术使用者：豪威科技股份有限公司
技术研发日：2021.05.07
技术公布日：2021/11/19