技术特征：
1.一种气体混合装置，其特征在于，包括：混合本体，所述混合本体包括相对设置的进气端和出气端，所述混合本体内设有匀气腔；至少两个进气口，设置于所述进气端，每个所述进气口通过各自的通道与所述匀气腔连通，其中所述通道的延伸方向偏离所述匀气腔的中轴线，以使从所述通道进入所述匀气腔内的气流形成旋转气流。2.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，各所述通道所在的直线与所述中轴线的垂直距离相等。3.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合本体的内壁横截面为圆形。4.根据权利要求3所述的气体混合装置，其特征在于，所述气体混合装置包括两个相对设置的进气口，所述进气口的轴向垂直于所述匀气腔的中轴线，所述通道一端连通于所述进气口，另一端沿所述匀气腔的切线延伸至所述匀气腔内，且所述两个通道相互平行。5.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，多个所述通道相对于所述匀气腔均匀分布。6.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述出气端设有挡板，所述挡板上设有多个通气孔。7.一种半导体工艺的气体输运系统，其特征在于，包括：权利要求1至6任一项所述的气体混合装置；至少两个气体管路，每个所述气体管路连通于所述气体混合装置的其中一个进气口；所述气体混合装置的出气端用于与反应腔室的进气口连通。8.根据权利要求7所述的半导体工艺的气体输运系统，其特征在于，所述气体输运系统还包括：三通阀，所述三通阀包括第一端、第二端和第三端，所述第一端与所述气体混合装置的出气端连通，所述第二端用于与所述反应腔室的进气口连通；所述第三端连接有背压阀。9.根据权利要求8所述的半导体工艺的气体输运系统，其特征在于，所述气体输运系统还包括：气动阀和尾气处理器，所述气动阀连接于所述背压阀的后端，所述尾气处理器连接于所述气动阀。10.一种半导体设备，其特征在于，包括反应腔室和权利要求7
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9任一项所述的气体输运系统，所述气体混合装置出气端与所述反应腔室连通。
技术总结
本实用新型公开了一种气体混合装置、半导体工艺的气体输运系统和半导体设备，其中气体混合装置包括：混合本体，混合本体包括相对设置的进气端和出气端，混合本体内设有匀气腔；至少两个进气口，设置于进气端，每个进气口通过各自的通道与匀气腔连通，其中通道的延伸方向偏离匀气腔的中轴线，以使从通道进入匀气腔内的气流形成旋转气流。本实用新型气体混合装置的通道的延伸方向偏离柱形腔体的中轴线，气体沿着柱形腔体内壁进行旋转，通过旋转来实现气体旋转混流，气体边旋转边流向出气端，能够实现两种或多种气体的充分均匀混合，减小浓度波动，并使通入腔室的气流稳定。并使通入腔室的气流稳定。并使通入腔室的气流稳定。
技术研发人员：周志文
受保护的技术使用者：北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日：2020.12.21
技术公布日：2021/11/17
再多了解一些
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