技术特征：
1.一种合成长链支化聚合物的方法，所述方法包括：
任选地在存在氢气的情况下使一种或多种C2-C14烯烃单体、至少一种二烯、任选地溶剂和多链催化剂接触在一起，其中所述多链催化剂包括多个聚合位点，并且其中所述二烯具有根据式(I)的结构：
其中X是-C(R)2-、-Si(R)2-或-Ge(R)2-，其中每个R独立地是C1-C12烃基或-H；
产生所述C2-C14烯烃单体的至少两条聚合物链，每条聚合物链在所述聚合位点之一处聚合；以及
通过将所述两条聚合物链与所述二烯连接来合成所述长链支化聚合物，所述两条聚合物链的所述连接是在所述聚合期间以协同方式进行的，其中所述长链支化聚合物的三官能长支链与四官能长支链的比率为0.05:1到100:0；以及
如果所述三官能长支链与四官能长支链的比率偏离三官能长支链与四官能长支链的目标比率，则通过改变所述C2-C14烯烃单体与氢气的进料比率来调整所述比率。
2.根据权利要求1所述的方法，其中式(I)中的X是-C(R)2-，并且其中每个R是-H。
3.根据权利要求1所述的方法，其中式(I)中的X是-C(R)2-，并且其中每个R是C1-C12烷基。
4.根据权利要求1所述的方法，其中式(I)中的X是-Si(R)2-，并且其中每个R是C1-C12烷基。
5.根据权利要求4所述的方法，其中所述二烯是二甲基二乙烯基硅烷。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述长链支化聚合物是包括至少50mol％乙烯的基于乙烯的共聚物。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述多链催化剂是金属原子的表面浓度大于或等于每平方纳米1.5个金属原子(1.5金属/nm2)的非均相催化剂。
8.根据权利要求1到6中任一项所述的方法，其中所述多链催化剂包括通过双阴离子活化剂连接的两种连接的过渡金属，其中金属原子之间的距离小于或等于
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述多链催化剂包括共价连接的两种或更多种过渡金属，其中金属原子之间的距离小于或等于
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述多链催化剂包括单阴离子配体和选自由钛、铪或锆组成的组的IUPAC IV族金属。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述三官能长支链以每1000个碳原子至少0.05的频率出现。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述三官能长支链以每1000个碳原子至少0.1的频率出现。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述三官能长支链以每1000个碳原子至少0.2的频率出现。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述三官能长支链与四官能长支链的比率大于0.1:1。
15.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中控制所述三官能长支链与四官能长支链的比率包括增加H2以增加三官能长链支化的量。
16.根据权利要求1到15中任一项所述的方法，其中控制所述三官能长支链与四官能长支链的比率包括将所述乙烯与H2的摩尔比调整成大于999:1以使所述三官能长支链:四官能长支链的比率小于0.001:1。
17.根据权利要求1到15所述的方法，其中控制所述三官能长支链与四官能长支链的比率包括将所述乙烯与H2的摩尔比调整成小于25:1以使所述三官能长支链:四官能长支链的比率大于0.5:1。
18.根据权利要求1到15所述的方法，其中控制所述三官能长支链与四官能长支链的比率包括将所述乙烯与H2的摩尔比调整成小于50:50以使所述三官能长支链:四官能长支链的比率大于1:1。
19.根据前述权利要求中任一项所述的聚合物，其中所述长链支化聚合物的如使用三重检测器通过凝胶渗透色谱法确定的重均分子量(Mw)为小于150,000道尔顿。
20.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述聚合是在溶液聚合反应器、浆料反应器、气相反应器、间歇式反应器、连续式反应器、混合反应器、非返混式反应器、返混式反应器、串联反应器或循环反应器中发生的。
21.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述长链支化聚合物的如使用三重检测器通过凝胶渗透色谱法确定的由重均分子量除以数均分子量(Mw/Mn)定义的分子量分布(MWD)小于4。
技术总结
合成长链支化聚合物的方法。所述方法包含任选地在存在氢气的情况下使一种或多种C2‑C14烯烃单体、至少一种二烯、任选地溶剂和多链催化剂接触在一起，其中所述多链催化剂包括多个聚合位点；产生所述C2‑C14烯烃单体的至少两条聚合物链，每条聚合物链在所述聚合位点之一处聚合；通过将所述两条聚合物链与所述二烯连接来合成所述长链支化聚合物，所述两条聚合物链的所述连接是在所述聚合期间以协同方式进行的；以及由所述二烯产生三官能长支链和四官能长支链，其中所述长链支化聚合物的三官能长支链与四官能长支链的比率为0.05:1到100:0；以及调整所述三官能长支链与四官能长支链的比率。所述二烯具有根据式(I)的结构：
技术研发人员：罗伯特·DJ·弗勒泽;R·E·M·布罗内尔;D·J·阿里欧拉;B·D·斯塔伯特;O·D·雷德瓦恩;
受保护的技术使用者：陶氏环球技术有限责任公司;
技术研发日：2020.03.27
技术公布日：2021.11.16
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