一种光电磁隔离器的制作方法

1.本实用新型属于光电技术领域，尤其涉及一种光电磁隔离器。


背景技术：

2.用于激光类的光电磁隔离器用于对激光进行聚焦，激光束经过光电磁隔离器的极小管状空间内后实现聚焦功能，可以使激光束不发散、不折射、不反射以及不衍射的功能。
3.但现有的光电磁隔离器对激光束的聚焦效果达不到一些特点使用环境的要求，如晶圆光刻机应用领域。


技术实现要素：

4.本实用新型提供一种光电磁隔离器，旨在解决以上存在的技术问题。
5.本实用新型是这样实现的一种光电磁隔离器，包括：磁铁固定件、第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、以及固定座；
6.所述磁铁固定件具有容纳空间，所述第一磁铁、第二磁铁、以及第三磁铁依次叠设于所述容纳空间中；
7.所述第一磁铁、第二磁铁以及第三磁铁的中心具有分别设置有同轴的第一通孔、第二通孔、以及第三通孔用以通过并聚合光；
8.所述磁铁固定件与所述固定座连接。
9.优选的，所述磁铁固定件为圆环形结构，所述容纳空间为圆孔结构，所述第一磁铁、第二磁铁、以及第三磁铁为与所述容纳空间相适应的圆柱形结构。
10.优选的，所述第一磁铁由多瓣结构组合而成。
11.优选的，所述第一磁铁由四瓣结构均布组合而成。
12.优选的，所述第三磁铁为多瓣结构组合而成。
13.优选的，所述第三磁铁由四瓣结构均布组合而成。
14.优选的，所述第二磁铁为一体成型的圆柱形结构。
15.优选的，所述磁铁固定件的一端设置有凸缘，所述固定座设置有u形槽，所述固定座通过所述u形槽卡接于所述磁铁固定件上并通过所述凸缘限位。
16.本实用新型所达到的有益效果：本实用新型的光电磁隔离器的中心磁力可达1.25t，对激光束的聚焦效果更好，对于激光束的聚焦性能和避免发散、折射、反射、以及衍射具有明显优势，适用于晶圆光刻机制造领域。
附图说明
17.图1是本实用新型提供的光电磁隔离器的结构分解图；
18.图2是本实用新型提供的光电磁隔离器的侧面视图；
19.图3是图2的a
‑
a剖面视图。
具体实施方式
20.为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
21.本实用新型实施例中，如图1
‑
3所示，提供了一种光电磁隔离器，包括：磁铁固定件40、第一磁铁10、第二磁铁20、第三磁铁30、以及固定座50；
22.所述磁铁固定件40具有容纳空间42，所述第一磁铁10、第二磁铁20、以及第三磁铁30依次叠设于所述容纳空间42中；
23.所述第一磁铁10、第二磁铁20以及第三磁铁30的中心具有分别设置有同轴的第一通孔11、第二通孔21、以及第三通孔31用以通过并聚合光；
24.所述磁铁固定件40与所述固定座50连接。
25.本实施例中，所述磁铁固定件40为圆环形结构，所述容纳空间42为圆孔结构，所述第一磁铁10、第二磁铁20、以及第三磁铁30为与所述容纳空间42相适应的圆柱形结构。
26.本实施例中，所述第一磁铁10由多瓣结构组合而成，具体的，作为一种可选的实施方式，所述第一磁铁10由四瓣结构均布组合而成。
27.在本实施例中，所述第三磁铁30也是多瓣结构组合而成，同样的，作为一种可选的实施方式，所述第三磁铁30也是由四瓣结构均布组合而成。
28.在本实施例中，所述第二磁铁20为一体成型的圆柱形结构。
29.也就是说，第一磁铁10和第三磁铁30为多瓣结构，第二磁铁20为一体成型结构。
30.在本实施例中，所述磁铁固定件40的一端设置有凸缘41，所述固定座50设置有u形槽51，所述固定座50通过所述u形槽卡51接于所述磁铁固定件40上并通过所述凸缘41限位。
31.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种光电磁隔离器，其特征在于，包括：磁铁固定件、第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、以及固定座；所述磁铁固定件具有容纳空间，所述第一磁铁、第二磁铁、以及第三磁铁依次叠设于所述容纳空间中；所述第一磁铁、第二磁铁以及第三磁铁的中心具有分别设置有同轴的第一通孔、第二通孔、以及第三通孔用以通过并聚合光；所述磁铁固定件与所述固定座连接。2.如权利要求1所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述磁铁固定件为圆环形结构，所述容纳空间为圆孔结构，所述第一磁铁、第二磁铁、以及第三磁铁为与所述容纳空间相适应的圆柱形结构。3.如权利要求2所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述第一磁铁由多瓣结构组合而成。4.如权利要求2所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述第一磁铁由四瓣结构均布组合而成。5.如权利要求1所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述第三磁铁为多瓣结构组合而成。6.如权利要求5所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述第三磁铁由四瓣结构均布组合而成。7.如权利要求1所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述第二磁铁为一体成型的圆柱形结构。8.如权利要求1所述的光电磁隔离器，其特征在于，所述磁铁固定件的一端设置有凸缘，所述固定座设置有u形槽，所述固定座通过所述u形槽卡接于所述磁铁固定件上并通过所述凸缘限位。

技术总结
本实用新型属于激光技术领域，提供了一种光电磁隔离器，包括：磁铁固定件、第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、以及固定座；所述磁铁固定件具有容纳空间，所述第一磁铁、第二磁铁、以及第三磁铁依次叠设于所述容纳空间中；所述第一磁铁、第二磁铁以及第三磁铁的中心具有分别设置有同轴的第一通孔、第二通孔、以及第三通孔用以通过并聚合光；所述磁铁固定件与所述固定座连接。本实用新型的光电磁隔离器的中心磁力可达1.25T，对激光束的聚焦效果更好，对于激光束的聚焦性能和避免发散、折射、反射、以及衍射具有明显优势，适用于晶圆光刻机制造领域。适用于晶圆光刻机制造领域。适用于晶圆光刻机制造领域。


技术研发人员：焦卫东
受保护的技术使用者：骏材（深圳）科技工程有限公司
技术研发日：2021.04.19
技术公布日：2021/11/15