一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜

本技术涉及吸附反应设备，具体涉及一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜。

背景技术：

1、吸附反应釜可用于含有粉体颗粒的液体物料处理。在反应过程中，通常通过设置于壳体内部的搅拌件对物料进行搅拌，使粉体颗粒与液体充分接触；物料处理完成后，再通过设置于壳体底部的通料口向外排出。为了控制物料的排放，通料口处通常需要设置能够开启和关闭的封堵结构。

2、在含有粉体颗粒的物料处理过程中，位于通料口附近的封堵结构会反复与物料接触。随着使用时间增加，部分粉体颗粒容易附着并积聚在封堵结构的表面。当附着物逐渐增多后，可能增大封堵结构移动过程中的阻力，影响通料口的正常开启和关闭；同时，残留于封堵结构表面的颗粒还可能进入封堵结构与密封部位之间，影响关闭状态下的配合效果。

3、对于上述附着物，若需要频繁停止设备并拆卸相关排料结构进行人工清理，会增加设备维护操作。因此，现有吸附反应釜在减少粉体颗粒于排料封堵部位持续附着和积累、降低粉体残留对排料启闭及密封配合的影响方面，仍存在进一步改进的空间。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，以减少粉体颗粒在排料封堵部位的持续附着和积累，降低粉体残留对排料启闭以及封堵配合造成的影响。

2、为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

3、一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，包括电机和滤清组件，所述滤清组件包括壳体、设置于所述壳体内部的搅拌件以及设置于所述壳体底部的通料口，所述电机与所述搅拌件传动连接。

4、所述滤清组件的底部设有排料组件，所述排料组件设有与所述通料口对应的排料通道以及导向槽，所述导向槽内滑动设有封堵盘，所述封堵盘能够沿所述导向槽在封堵所述通料口的封闭位置与避让所述通料口的排料位置之间移动。

5、所述排料组件上设有启闭件，所述启闭件与所述封堵盘连接，并能够带动所述封堵盘沿所述导向槽往复移动。通过封堵盘在封闭位置和排料位置之间移动，实现通料口的关闭和开启。

6、所述排料组件内设有柔性刮刷，所述柔性刮刷位于所述封堵盘的移动路径上，且所述柔性刮刷的刮刷端与所述封堵盘的表面弹性接触。当封堵盘沿导向槽移动时，封堵盘与柔性刮刷发生相对刮擦，使封堵盘在执行通料口启闭动作的同时，其表面能够受到柔性刮刷的刮扫。

7、进一步地，所述柔性刮刷的刮刷端与所述封堵盘朝向所述通料口的一侧表面弹性接触，所述封堵盘在所述封闭位置与所述排料位置之间往复移动时，所述柔性刮刷对所述封堵盘的所述一侧表面进行刮擦。由此可针对封堵盘与通料口相对应的一侧表面进行清理，减少该表面粉体颗粒的持续残留。

8、进一步地，所述启闭件包括螺纹柱和设置于所述螺纹柱端部的限位盘，所述螺纹柱与所述排料组件螺纹配合。

9、进一步地，所述限位盘与所述封堵盘转动连接，所述螺纹柱转动时相对于所述排料组件沿轴向移动，并通过所述限位盘推动或拉动所述封堵盘沿所述导向槽移动。由于限位盘能够相对于封堵盘转动，螺纹柱转动产生的轴向位移能够传递至封堵盘，使封堵盘沿导向槽进行直线移动。

10、进一步地，所述排料组件内设有密封圈，所述密封圈对应所述通料口设置，所述封堵盘移动至所述封闭位置时与所述密封圈贴合，通过封堵盘与密封圈之间的配合提高通料口关闭状态下的密封效果。

11、进一步地，所述排料组件通过紧固件与所述滤清组件可拆卸连接，所述紧固件设置于所述排料组件与所述滤清组件的连接位置，拆除所述紧固件后，所述排料组件能够从所述滤清组件的底部拆离，以便在设备长期使用后对排料组件及其内部结构进行清理和检修。

12、本实用新型通过在封堵盘的移动路径上设置与其表面弹性接触的柔性刮刷，使封堵盘在通料口开启和关闭过程中均能够相对于柔性刮刷移动，从而利用封堵盘本身的启闭运动对其表面进行刮扫。该结构无需另外为清理动作设置独立的运动过程，使封堵盘在完成排料启闭的同时能够减少表面粉体颗粒的持续附着和积累，有利于降低附着物对封堵盘移动以及后续封堵配合的影响。

13、同时，螺纹柱与排料组件之间的螺纹配合能够形成轴向移动，并通过与封堵盘转动连接的限位盘推动或拉动封堵盘，使封堵盘沿导向槽移动；密封圈与处于封闭位置的封堵盘相配合，有利于提高通料口关闭后的密封效果。

14、此外，排料组件通过紧固件与滤清组件形成可拆卸连接，在长期运行后能够将排料组件从滤清组件底部拆离，从而便于对排料组件内部的封堵盘、导向槽、柔性刮刷以及密封圈所在区域进行进一步清理、检查和维护。

1.一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，包括电机（1）和滤清组件（2），所述滤清组件（2）包括壳体（21）、设置于所述壳体（21）内部的搅拌件（22）以及设置于所述壳体（21）底部的通料口（23），所述电机（1）与所述搅拌件（22）传动连接，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，其特征在于：所述柔性刮刷（5）的刮刷端与所述封堵盘（33）朝向所述通料口（23）的一侧表面弹性接触，所述封堵盘（33）在所述封闭位置与所述排料位置之间往复移动时，所述柔性刮刷（5）对所述封堵盘（33）的所述一侧表面进行刮擦。

3.根据权利要求2所述的一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，其特征在于：所述启闭件（31）包括螺纹柱（311）和设置于所述螺纹柱（311）端部的限位盘（312），所述螺纹柱（311）与所述排料组件（3）螺纹配合。

4.根据权利要求3所述的一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，其特征在于：所述限位盘（312）与所述封堵盘（33）转动连接，所述螺纹柱（311）转动时相对于所述排料组件（3）沿轴向移动，并通过所述限位盘（312）推动或拉动所述封堵盘（33）沿所述导向槽（32）移动。

5.根据权利要求1所述的一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，其特征在于：所述排料组件（3）内设有密封圈（6），所述密封圈（6）对应所述通料口（23）设置，所述封堵盘（33）移动至所述封闭位置时与所述密封圈（6）贴合。

6.根据权利要求5所述的一种具有自清洁排料机构的吸附反应釜，其特征在于：所述排料组件（3）通过紧固件（4）与所述滤清组件（2）可拆卸连接，所述紧固件（4）设置于所述排料组件（3）与所述滤清组件（2）的连接位置，拆除所述紧固件（4）后，所述排料组件（3）能够从所述滤清组件（2）的底部拆离。