一种基于晶界工程的单层二硫化钼高通量水-离子分离膜、制备方法及应用
本发明属于二维材料分离膜、海水淡化、纳滤水处理,具体涉及通过定向调控单层二硫化钼晶畴取向与晶粒尺寸,在晶界精准生成八元环筛分孔道的二维分离膜及其制备工艺。
背景技术:
1、二维材料因原子级超薄厚度,理论上可同时实现超高水通量与离子截留,是新一代脱盐分离膜核心候选材料。现有制备纳米孔二维膜技术主要分为两类:
2、后处理造孔法:离子/电子辐照、等离子体刻蚀、化学刻蚀,该类方法孔径、孔密度难以大面积均匀调控,孔径分布宽,膜同时存在大量超大缺陷孔与无效微孔,通量与截留性能存在固有权衡,无法兼顾高渗透与高选择性;
3、晶界原生缺陷造孔:直接在cvd生长二维材料过程中利用晶界天然缺陷作为筛分通道,现有多晶二硫化钼薄膜晶粒随机取向,晶界以七元环(7-mr)缺陷为主,七元环孔径过小,水分子无法穿透,不具备分离能力;少数随机生成的八元环(8-mr)数量极低、分布无序,膜通量极差,无法工业化应用。
4、现有技术存在三大核心瓶颈:①无法大面积、高占比生成尺寸精准的亚纳米筛分孔;②无法同步调控晶界密度(孔密度);③膜稳定性差、难以放大至晶圆级大面积连续薄膜。因此亟需一种可精准定向构筑八元环晶界孔道、可控调节孔密度、大面积制备高性能水离子分离膜的成套工艺。
技术实现思路
1、针对现有二维分离膜孔径不可控、通量-截留权衡、难以大面积制备的缺陷,提供一种晶界工程调控单层mos2分离膜及其制备方法:通过籽晶定向对齐实现晶粒仅存在0°/60°两类取向,在镜像孪晶晶界大量生成筛分尺寸适配的八元环(8-mr)孔道;通过调控形核密度精准控制晶粒尺寸,线性提升8-mr孔密度,打破传统膜通量与选择性此消彼长的矛盾,实现高通量、超高离子截留、长周期稳定运行,可用于海水淡化、重金属纳滤、硼去除等水处理场景。
2、本发明一方面提供了一种晶界工程改性单层二硫化钼水-离子分离膜,其特征在于,包括复合在一起的功能层和基底层,
3、所述的功能层为连续单层二硫化钼薄膜,所述连续单层二硫化钼薄膜内所有二硫化钼晶粒仅存在0°、60°两种互成60°夹角的晶格取向;相邻晶粒形成镜像孪晶晶界,晶界处主导缺陷为8-4复合八元环孔道,
4、所述基底层为多孔膜材料或阳极材料,所述连续单层二硫化钼薄膜通过膜转移的方式附着在所述基底层上。
5、进一步地,所述连续单层二硫化钼薄膜内八元环筛分孔占全部可渗透孔道比例≥97%,孔径尺寸为4.2 å×2.4 å。
6、进一步地,连续单层二硫化钼薄膜的平均晶粒面积可控区间0.25~444.37 μm2。
7、进一步地,所述多孔膜材料为无机多孔膜、有机多孔膜或无机-有机多孔膜,所述有机多孔膜优选为多孔聚碳酸酯。
8、进一步地,所述阳极材料为氧化铝阳极材料。
9、另一方面,本发明提供了所述单层二硫化钼水-离子分离膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
10、步骤(1):衬底预处理:选用α-al2o3(0001)蓝宝石晶圆作为生长衬底,管式炉分为145~175℃硫源温区、750~800 ℃薄膜生长温区,全程氩气无氧保护;
11、步骤(2):低温籽晶定向对齐:硫源温区升温至145~175℃,薄膜生长温区升温至750℃,以moo3粉末为钼前驱体,随氩气与硫源温区的硫源通入薄膜生长温区,s/mo原子比>1,在薄膜生长温区钼前驱体与硫蒸气原位反应生成mos2纳米籽晶,于750℃保温15~40min,并维持高s/mo原子比,mos2纳米籽晶自发旋转对齐至0°或60°晶格取向;
12、步骤(3):高温连续薄膜生长:mos2纳米籽晶对齐后,硫源温区的温度保持不变,将薄膜生长温区升温至800℃并恒温生长60~120 min;在恒温生长过程中,通过调节硫源温区温度在145~175℃之间,以控制形核密度和mos2晶粒尺寸;
13、相邻晶粒之间按照扶手型边缘相互拼接,在晶界生成稳定8-4复合八元环孔道;
14、步骤(4):降温收集mos2单层薄膜:反应结束后,氩气氛围下冷却至室温,得到5.08cm直径均匀连续单层二硫化钼薄膜;
15、步骤(5):湿法转移制复合膜:采用聚二甲硅氧烷(pdms)辅助剥离单层mos2薄膜,转移至多孔膜材料或阳极材料支撑基底上;当支撑基底为阳材料时,基底复合膜配套界面聚合封孔消除针孔缺陷,得到成品分离膜。
16、进一步地,步骤(3)中调节硫源温区温度与和mos2晶粒尺寸的关系为:当硫源温区的温度为175℃时,制备0.25μm2小晶粒薄膜,当硫源温区的温度为145℃时,制备444.37 μm2大晶粒薄膜。
17、进一步地,步骤(5)中所述阳极材料为氧化铝阳极(aao)材料,所述的基底复合膜配套界面聚合封孔的具体工艺为:
18、(5.1) 膜前预处理:将 pdms辅助转移完成的 mos2/aao复合膜固定于死端过滤夹具,保证单层 mos2功能层朝上、aao多孔基底背向;先通入异丙醇浸润 aao孔道,再通入去离子水充分置换孔内有机溶剂,排出孔道气泡,室温沥干膜表面游离水珠,仅保留 aao孔道内吸附水相;
19、(5.2) 水相胺单体填充:从 aao基底侧注入水相溶液,水相组分为0.5~2 wt% 间苯二胺 (mpd)和0.1 wt% 中和剂三乙胺,水相溶液持续浸泡 10 min,使多元胺单体充分吸附、储存在 aao多孔通道内;取出复合膜,垂直悬挂,并彻底擦除 mos2表层表面残留水相,仅孔道内部留存胺单体;
20、(5.3) 界面聚合反应:向 mos2功能层一侧缓慢注入有机相溶液,有机相组分为0.05~0.2 wt% 均苯三甲酰氯 (tmc)和正己烷溶剂,完全浸没 mos2薄膜表面,静置反应 30~60 s,在aao孔道内间苯二胺沿针孔缺陷向上扩散,与表层均苯三甲酰氯在针孔内部原位交联生成致密的聚酰胺,以封堵aao孔道;
21、(5.4) 残液清洗终止反应:倒出有机相,采用纯正己烷快速冲洗 mos2表层,清除未反应酰氯单体;再用大量去离子水正反冲洗膜两侧,洗除孔道内残留游离胺;
22、(5.5) 热固化交联:将清洗后的复合膜置于 60~70 ℃烘箱热处理 8~12 min,促进聚酰胺分子链深度交联;
23、(6) 后处理:冷却至室温后,去离子水浸泡 2 h,去除未交联小分子,完成封孔,得到无漏流缺陷、仅保留 8-mr 筛分通道的 c-mos2/aao 高压纳滤复合膜。
24、进一步地,还包括步骤(6)质检工序:将制备完成的复合膜置于60%相对湿度、100℃湿热空气退火1 h,污染物沿晶界富集,通过扫描电镜统计晶粒尺寸与晶界长度,标定八元环孔密度,实现批量快速质检。
25、本发明还提供了所述单层二硫化钼水-离子分离膜在海水淡化、重金属纳滤、水体硼酸去除、盐溶液分离纯化中的应用。
26、本发明所述的基于晶界工程的单层二硫化钼水-离子分离膜,通过以蓝宝石α-al2o3(0001)为衬底生长连续单层mos2薄膜,单层mos2薄膜全部晶粒仅存在两种晶格取向为0°、60°的互成60°夹角的晶格取向;相邻晶粒的镜像孪晶晶界为主导界面,晶界处缺陷以8-4复合八元环(8-mr)结构为主,8-mr孔占全部筛分孔比例≥97%;无效超大孔径缺陷(>1nm)占比<2.3%。通过pdms辅助湿法将单层mos2薄膜转移至支撑基底材料上,形成复合分离膜。
27、8-mr孔道尺寸为4.2 å×2.4 å,仅允许水分子单排穿透,完全截留水合na+、cl-、mg2+、al3+、硼酸分子等;水分子穿过孔道时氢键数由体相水3.3降至1.6,输运活化能仅15.1~15.3 kj/mol,渗透阻力极低。
28、所述单层mos2薄膜的晶粒尺寸越小,晶界总长度越高,8-mr孔密度同步提升;通过调控单层mos2薄膜的平均晶粒面积在0.25~444.37μm2可控区间内,来调控8-mr孔的密度。当单层mos2薄膜的晶粒尺寸为0.25 μm2时,8-mr孔密度可达6.5×109cm-2。
29、基于晶界工程的单层二硫化钼水-离子分离膜中mos2薄膜以单层结构为最优构型,多层堆叠会因孔道错位大幅降低水渗透通量。
30、本发明所述的分离膜性能满足:正渗透工况下水渗透通量最高可达220 mol・m-2・h-1・bar-1,水/氯化钠选择性最高可达6.5×104,氯化钠截留率>98%;13 bar压力驱动纳滤工况下mgso4截留率99%,中性环境硼截留率90%,水渗透通量为商用聚酰胺反渗透膜的40倍;薄膜机械耐受压力≥9 mpa,高盐模拟海水连续运行30天截留性能无明显衰减。
31、本发明所述的制备方法中的关键创新工艺为:
32、(1)取向控制核心:750℃低温籽晶对齐工序,高s/mo比保证籽晶可旋转定向;
33、(2)孔道结构控制:60°取向晶粒扶手型边缘拼接,热力学最优8-4复合8-mr晶界(形成能最低),替代随机取向生成的7-mr无效孔;
34、(3)孔密度调控手段:硫源温度调节形核密度,晶粒尺寸与8-mr孔密度呈负相关;
35、(4)大面积兼容:整套cvd工艺适配2英寸蓝宝石晶圆,薄膜全域结构均匀,膜性能无位置差异。
36、本发明的有益效果如下:
37、筛分性能突破:8-mr亚纳米孔道实现尺寸筛分主导分离机制,打破传统高分子膜、二维膜“通量-截留”权衡;晶粒细化可同步提升水渗透通量与离子选择性。
38、制备可控性强:无需后处理刻蚀/辐照造孔,生长原位生成精准孔道,孔径单一、缺陷少;仅通过硫温、低温对齐两步即可分别调控晶粒取向、晶粒尺寸两大核心结构参数。
39、规模化潜力高:可制备5cm大面积连续单层c-mos2薄膜,转移后复合膜性能均一,有效膜面积放大无性能衰减;cvd工艺兼容现有二维材料量产产线。
40、广谱水处理适用:可截留一价盐、二价/三价金属离子、硼酸,耐高盐海水工况,30天长周期稳定运行,机械强度≥9 mpa。
41、能耗优势显著:水输运活化能低,同等截留率下水通量为商用反渗透膜40倍,大幅降低水处理运行能耗。
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