定位机构和上料装置的制作方法
本技术大致涉及印刷产品生产设备,尤其是一种定位机构和上料装置。
背景技术:
1、在印刷产品(例如包装盒)的自动化生产线中,物料(例如天盒、地盒、覆膜面板等)在进入设备前必须先进行精确定位,以保证后续的加工精度。
2、目前,业内普遍采用“基准块+推板”的定位方案:基准块固定在机台上,气缸驱动推板将物料推向基准块,从而完成物料的定位。在定位过程中,物料与机台之间为滑动摩擦,摩擦系数较高,极易在物料表面留下划痕,进而导致物料报废或返工,大大降低了产品的良率,增加了产线的损耗。
3、背景技术部分的内容仅仅是发明人所知晓的技术,并不当然代表本领域的现有技术。
技术实现思路
1、针对现有技术中的一个或多个缺陷,本实用新型提供一种定位机构,用于定位物料,包括底板、真空吸附平台、复位模组、第一定位件和第一推动模组,其中,
2、所述第一定位件、所述真空吸附平台和所述第一推动模组沿第一方向间隔设置,其中,所述真空吸附平台可活动地设置在底板上,用于承载并固定所述物料;所述第一定位件在第一方向上位于所述真空吸附平台的一侧,并与所述底板相对固定;所述第一推动模组在第一方向上位于所述真空吸附平台的另一侧,配置为可沿第一方向推压物料,使物料贴靠于所述第一定位件;
3、所述复位模组作用于所述真空吸附平台,并配置为可驱动所述真空吸附平台复位至预设位置。
4、根据本实用新型的一个方面,所述第一推动模组包括相互连接的第一推板与第一直线驱动器,所述第一直线驱动器配置为可驱动所述第一推板沿第一方向运动。
5、根据本实用新型的一个方面,所述第一定位件朝向所述真空吸附平台的一侧设置有衬垫;和/或,
6、所述第一推板朝向所述真空吸附平台的一侧设置有衬垫。
7、根据本实用新型的一个方面,所述定位机构还包括第二定位件和第二推动模组,所述第二定位件、所述真空吸附平台、所述第二推动模组沿第二方向间隔设置,其中,
8、所述第二定位件在第二方向上位于所述真空吸附平台的一侧,并与所述底板相对固定;
9、所述第二推动模组在第二方向上位于所述真空吸附平台的另一侧,配置为可沿第二方向推压物料,使物料贴靠于第二定位件。
10、根据本实用新型的一个方面,所述第二推动模组包括相互连接的第二推板与第二直线驱动器,其中,
11、所述第二直线驱动器配置为可驱动所述第二推板沿第二方向移动。
12、根据本实用新型的一个方面,所述第二定位件朝向所述真空吸附平台的一侧设置有衬垫;和/或,
13、所述第二推板朝向所述真空吸附平台的一侧设置有衬垫。
14、根据本实用新型的一个方面,所述复位模组包括:
15、第一磁铁,与所述底板连接;和
16、第二磁铁,与所述真空吸附平台连接;
17、其中,所述第一磁铁与所述第二磁铁相对设置,借由所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的磁力驱动所述真空吸附平台复位至预设位置。
18、根据本实用新型的一个方面,所述底板上开设有避让孔;
19、所述底板的下侧固定有第一连接件,所述第一连接件延伸至所述避让孔的下方;
20、所述真空吸附平台的下侧固定有第二连接件,所述第二连接件穿过所述避让孔;
21、所述第一磁铁与所述第一连接件固定连接,所述第二磁铁与所述第二连接件固定连接,所述第一磁铁与所述第二磁铁始终不接触。
22、根据本实用新型的一个方面,所述定位机构还包括滚动支撑模组,所述滚动支撑模组设置在所述底板与所述真空吸附平台之间。
23、根据本实用新型的一个方面,所述滚动支撑模组包括止推轴承;
24、所述真空吸附平台的下侧固定有第二连接件,所述第二连接件穿过所述止推轴承。
25、本实用新型还提供一种上料装置,包括:
26、机械手,配置为可抓取并移动物料;和
27、如上所述的定位机构。
28、与现有技术相比,本实用新型的实施例提供了一种定位机构和上料装置,其中,真空吸附平台能够与物料共同移动,实现了物料与底板的隔离,有效降低了物料在定位过程中被划伤的风险,从而有利于提高产品良率,降低产线损耗。此外,复位模组可以使真空吸附平台在完成一次定位后迅速回到预设位置,有利于实现连续循环作业,提高生产效率。
1.一种定位机构,用于定位物料,其特征在于,包括底板、真空吸附平台、复位模组、第一定位件和第一推动模组,其中,
2.根据权利要求1所述的定位机构,其特征在于,所述第一推动模组包括相互连接的第一推板与第一直线驱动器,所述第一直线驱动器配置为可驱动所述第一推板沿第一方向运动。
3.根据权利要求2所述的定位机构,其特征在于,所述第一定位件朝向所述真空吸附平台的一侧设置有衬垫;和/或,
4.根据权利要求1所述的定位机构,其特征在于,所述定位机构还包括第二定位件和第二推动模组,所述第二定位件、所述真空吸附平台、所述第二推动模组沿第二方向间隔设置,其中,
5.根据权利要求4所述的定位机构,其特征在于,所述第二推动模组包括相互连接的第二推板与第二直线驱动器,其中,
6.根据权利要求5所述的定位机构,其特征在于,所述第二定位件朝向所述真空吸附平台的一侧设置有衬垫;和/或,
7.根据权利要求1所述的定位机构,其特征在于,所述复位模组包括:
8.根据权利要求7所述的定位机构,其特征在于,所述底板上开设有避让孔;
9.根据权利要求1所述的定位机构,其特征在于,所述定位机构还包括滚动支撑模组,所述滚动支撑模组设置在所述底板与所述真空吸附平台之间。
10.根据权利要求9所述的定位机构,其特征在于,所述滚动支撑模组包括止推轴承;
11.一种上料装置,其特征在于,包括:
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