研磨液分流装置和研磨设备的制作方法

本公开涉及半导体，尤其是涉及一种研磨液分流装置和研磨设备。

背景技术：

1、在半导体硅片的研磨工艺段，主要采用lapping研磨设备进行加工，其核心作用是消除线切割后硅片表面的线痕与损伤层。研磨过程中，依靠研磨液所含的研磨粉颗粒对硅片表面进行磨削。研磨液在使用后通过回收系统进行比例调配，随后重新供应至浆桶循环使用。在自动加工时，研磨液经由管道输送至分流器实现均匀分流。

2、然而，研磨液供应系统在长期运行后，分流器易发生堵塞，且由于频繁拆卸维护，硬件损伤风险较高。一旦管道堵塞，会导致研磨液流动不畅，进而引发加工过程中硅片破裂（broken），并造成工艺监控数据——如硅片厚度（cthk）与全局背面基准偏差（gbir）——出现异常。

技术实现思路

1、为了解决上述技术问题，本公开提供一种研磨液分流装置和研磨设备，

2、为了达到上述目的，本公开实施例采用的技术方案是：一种研磨液分流装置，包括分流容器，所述分流容器的顶部设置有研磨液入口，所述研磨液入口通过管道与研磨液供给结构连通，所述分流容器的至少部分侧壁采用透明材料制成，以能够观察所述分流容器内部的研磨液的流动状态。

3、可选的，所述分流容器内设置有导流结构，所述导流结构包括呈喇叭状设置的导流板，所述导流板包括相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端与所述分流容器的内侧壁连接，所述第二开口端的面积小于所述第一开口端的面积，且所述第二开口端位于所述第一开口端远离所述研磨液入口的一侧。

4、可选的，所述第二开口端设置止逆阀。

5、可选的，在所述分流容器的轴向方向上，所述研磨液入口与所述第二开口端至少部分重叠。

6、可选的，所述分流容器的外侧壁设置有至少两个光纤传感器，至少两个光纤传感器在所述分流容器的径向方向对称设置，且所述光纤传感器位于所述导流板远离所述研磨液入口的一侧。

7、可选的，所述分流容器的底部设置有多个研磨液出口，每个所述研磨液出口设置一个分流管路，所述分流管路上设置有至少两个光纤传感器，至少两个光纤传感器在所述分流管路的径向方向上对称设置。

8、可选的，所述分流容器的底部设置有导流凸起，所述研磨液出口设置在所述导流凸起的外围。

9、可选的，所述分流容器的侧壁上设置有清洁介质输入口，且所述清洁介质输入口位于所述导流板远离 所述分流容器的顶部的一侧。

10、可选的，所述清洁介质输入口连通有介质管路，所述介质管路包括与所述清洁介质输入口连通的主管路，所述主管路远离所述分流容器的一端连通有第一分支管路和第二分支管路，所述第一分支管路与清洁气体供给结构连通，所述第二分支管路与清洁液体供给结构连通。

11、本公开实施例还提供一种研磨设备，包括上述的研磨液分流装置。

12、本公开的有益效果是：所述分流容器的至少部分侧壁采用透明材料制成，形成透明的观察窗口，操作与维护人员无需拆解装置，即可直观、实时地观察分流容器内部研磨液的流动状态与液位高度，实现了过程的可视化监控。当发生供液不畅或分流不均时，能迅速在分流器环节判断是否存在堵塞或异物，从而快速定位故障点，极大缩短了排查与维护时间。

1.一种研磨液分流装置，其特征在于，包括分流容器，所述分流容器的顶部设置有研磨液入口，所述研磨液入口通过管道与研磨液供给结构连通，所述分流容器的至少部分侧壁采用透明材料制成，以能够观察所述分流容器内部的研磨液的流动状态。

2.根据权利要求1所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述分流容器内设置有导流结构，所述导流结构包括呈喇叭状设置的导流板，所述导流板包括相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端与所述分流容器的内侧壁连接，所述第二开口端的面积小于所述第一开口端的面积，且所述第二开口端位于所述第一开口端远离所述研磨液入口的一侧。

3.根据权利要求2所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述第二开口端设置止逆阀。

4.根据权利要求2所述的研磨液分流装置，其特征在于，在所述分流容器的轴向方向上，所述研磨液入口与所述第二开口端至少部分重叠。

5.根据权利要求2所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述分流容器的外侧壁设置有至少两个光纤传感器，至少两个光纤传感器在所述分流容器的径向方向对称设置，且所述光纤传感器位于所述导流板远离所述研磨液入口的一侧。

6.根据权利要求1所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述分流容器的底部设置有多个研磨液出口，每个所述研磨液出口设置一个分流管路，所述分流管路上设置有至少两个光纤传感器，至少两个光纤传感器在所述分流管路的径向方向上对称设置。

7.根据权利要求6所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述分流容器的底部设置有导流凸起，所述研磨液出口设置在所述导流凸起的外围。

8.根据权利要求2所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述分流容器的侧壁上设置有清洁介质输入口，且所述清洁介质输入口位于所述导流板远离 所述分流容器的顶部的一侧。

9.根据权利要求8所述的研磨液分流装置，其特征在于，所述清洁介质输入口连通有介质管路，所述介质管路包括与所述清洁介质输入口连通的主管路，所述主管路远离所述分流容器的一端连通有第一分支管路和第二分支管路，所述第一分支管路与清洁气体供给结构连通，所述第二分支管路与清洁液体供给结构连通。

10.一种研磨设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的研磨液分流装置。