一种晶圆研磨抛光装置的上研磨盘压力装置的制作方法

本申请涉及晶圆研磨抛光设备的领域，尤其是涉及一种晶圆研磨抛光装置的上研磨盘压力装置。

背景技术：

1、双面研磨机是一种用于高精度表面加工的机械设备，能够同时对工件的两个平行表面进行研磨或抛光，广泛应用于精密机械、半导体、光学元件、陶瓷和玻璃等行业。

2、现有的双面研磨机在对晶圆研磨抛光过程中需要通过气泵配合气管对晶圆进行施压，以确保晶圆能够紧贴于抛光台面上，从而确保研磨抛光效果，然而气泵在使用过程中容易出现出气不连贯的情况，当出气不连贯时，晶圆受到的压力会出现瞬间的消失，从而影响到晶圆研磨抛光的精度

技术实现思路

1、为了提升晶圆研磨抛光的精度，本申请提供一种晶圆研磨抛光装置的上研磨盘压力装置。

2、本申请提供的一种晶圆研磨抛光装置的上研磨盘压力装置结构采用如下的技术方案：

3、一种晶圆研磨抛光装置的上研磨盘压力装置，包括上研磨盘，所述上研磨盘上连接有拉力电缸，所述上研磨盘通过拉力电缸朝向靠近或远离下研磨盘方向滑移，上研磨盘通过滑移压设于晶圆，所述上研磨盘背离下研磨盘一侧设置有压力件。

4、通过采用上述技术方案，通过安装压力件替换气缸施压对晶圆施加稳定的压力，从而避免了气缸出气不连贯晶圆受到的压力会出现瞬间的消失的情况，提升晶圆研磨抛光的精度。

5、可选的，所述拉力电缸和上研磨盘之间设置有拉力传感器，所述拉力传感器用于检测拉力电缸对压力件的拉力。

6、通过采用上述技术方案，拉力传感器的设置能够实时检测压力件受到的拉力从而方便观察压力件施加的压力，方便调节对压力件的压力。

7、可选的，所述拉力电缸和上研磨盘之间设置有拉力缓冲器。

8、通过采用上述技术方案，缓冲器的设置能够减缓拉力调节的过程，从而能够在拉力电缸出现短暂故障时降低故障对压力件的影响。

9、综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

10、1.通过安装压力件替换气缸施压对晶圆施加稳定的压力，从而避免了气缸出气不连贯晶圆受到的压力会出现瞬间的消失的情况，提升晶圆研磨抛光的精度；

11、2.拉力传感器的设置能够实时检测压力件受到的拉力从而方便观察压力件施加的压力，方便调节对压力件的压力；

12、3.缓冲器的设置能够减缓拉力调节的过程，从而能够在拉力电缸出现短暂故障时降低故障对压力件的影响。

1.一种晶圆研磨抛光装置的上研磨盘压力装置，包括上研磨盘（3），所述上研磨盘（3）上连接有拉力电缸（7），所述上研磨盘（3）通过拉力电缸（7）朝向靠近或远离下研磨盘（2）方向滑移，上研磨盘（3）通过滑移压设于晶圆（0），其特征在于：所述上研磨盘（3）背离下研磨盘（2）一侧设置有压力件（6），所述压力件（6）为固设在上研磨盘（3）上提升重量的部件；所述拉力电缸（7）和上研磨盘（3）之间设置有拉力传感器（8），所述拉力传感器（8）用于检测拉力电缸（7）对压力件（6）的拉力；所述拉力电缸（7）和压力件（6）之间设置有拉力缓冲器（9）。