一种蒸镀喷嘴结构、蒸镀坩埚装置及蒸镀坩埚装置的使用方法与流程

本发明涉及真空蒸镀，尤其涉及一种蒸镀喷嘴结构、蒸镀坩埚装置及蒸镀坩埚装置的使用方法。

背景技术：

1、蒸镀工艺是一种在真空环境中，通过加热方式使镀膜材料蒸发并气化，随后气态粒子迁移至基板表面凝聚形成薄膜的加工技术。蒸镀工艺广泛应用于oled(organiclight-emitting diode，有机发光二极)管显示器件制造、包装材料镀膜、光学或电子器件表面处理等领域。在oled显示器件制造中，蒸镀工艺是核心工序，基板上蒸镀成膜的基本过程是oled材料放置在坩埚中，通过加热坩埚，使得oled材料从坩埚的喷嘴气化出来，之后沉积到基板上。

2、目前，对于点源坩埚，从喷嘴里气化出来的蒸发束呈发散状上升，对应上方基板上的膜厚呈余弦分布，即基板正对喷嘴区域的膜厚最大，然后朝向四周的区域逐渐变薄。现有技术中的坩埚，为确保基板上膜厚的均一性，会将基板和喷嘴沿水平方向进行错位分布，该过程中仅有少部分oled材料的气态粒子沉积到基板上，进而导致了材料利用率低的问题，而利用移动坩埚提高利用率，又会造成膜厚无法精确控制的问题。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种蒸镀喷嘴结构、蒸镀坩埚装置及蒸镀坩埚装置的使用方法，以解决现有技术中为确保基板上膜厚的均一性，会将基板和喷嘴沿水平方向进行错位分布，该过程中仅有少部分oled材料的气态粒子沉积到基板上，进而导致了材料利用率低的问题，而利用移动坩埚提高利用率，又会造成膜厚无法精确控制的问题。

2、为达上述目的，本发明采用以下技术方案：

3、本发明提供一种蒸镀喷嘴结构，用于向基板的一侧喷射气态粒子，所述蒸镀喷嘴结构包括：

4、喷嘴外框，所述喷嘴外框贯穿设置有流动通道，所述喷嘴外框具有流入端和流出端，所述气态粒子能够经由所述流入端进入所述流动通道，再由所述流出端喷出；

5、调节组件，所述调节组件包括支撑件和流体调整件，所述支撑件的一端连接于所述喷嘴外框，所述支撑件的另一端连接于所述流体调整件；所述流体调整件设于所述流动通道的中间位置处，以使所述喷嘴外框和所述流体调整件之间形成流体调整通道；所述流体调整通道用于调整所述气态粒子形成蒸发束的形状。

6、作为上述蒸镀喷嘴结构的一种可选方案，所述流体调整件具有环形分散面和环形导流面，所述环形分散面设于所述流入端一侧，所述环形导流面设于所述流出端一侧，所述环形分散面和所述环形导流面平滑连接；所述环形分散面的直径尺寸由所述流入端一侧到所述流出端一侧逐渐增大设置，所述环形导流面的外径尺寸由所述流入端一侧到所述流出端一侧逐渐缩小设置。

7、作为上述蒸镀喷嘴结构的一种可选方案，所述环形分散面和/或所述环形导流面沿所述气态粒子的流动方向呈弧形设置。

8、作为上述蒸镀喷嘴结构的一种可选方案，所述流动通道内壁与所述流体调整件外壁之间的间距大于或等于3mm。

9、作为上述蒸镀喷嘴结构的一种可选方案，所述流动通道内壁的直径尺寸由所述流入端一侧到所述流出端一侧逐渐增大设置。

10、作为上述蒸镀喷嘴结构的一种可选方案，所述支撑件的两端分别与所述喷嘴外框和所述流体调整件可拆卸连接。

11、作为上述蒸镀喷嘴结构的一种可选方案，所述流体调整件为鼓形结构或纺锤形结构。

12、本发明还提供一种蒸镀坩埚装置，包括如上述的蒸镀喷嘴结构，所述蒸镀坩埚装置还包括坩埚本体，所述喷嘴外框可拆卸连接于所述坩埚本体的开口处。

13、本发明还提供一种蒸镀坩埚装置的使用方法，使用如上述的蒸镀坩埚装置，所述蒸镀坩埚装置的使用方法包括以下步骤：

14、将支撑件安装在喷嘴外框上，并将流体调整件安装在支撑件上，再通过支撑件对流体调整件的位置进行调整；

15、将蒸镀材料放置于坩埚本体内，并将所述喷嘴外框安装在坩埚本体的开口处；

16、对基板和所述喷嘴外框的相对位置进行调整，以使所述基板位于所述喷嘴外框的上方；

17、对所坩埚本体进行加热，以使所述喷嘴外框朝所述基板的一侧喷出气态粒子。

18、作为上述蒸镀坩埚装置的使用方法的一种可选方案，在通过支撑件对流体调整件的位置进行调整之后，将蒸镀材料放置于坩埚本体内之前，还包括：对使用蒸镀喷嘴结构后的蒸镀过程进行仿真模拟，并根据模拟结果调整流体调整件的形状和位置。

19、本发明的有益效果为：

20、该蒸镀喷嘴结构包括喷嘴外框和调节组件。喷嘴外框贯穿设置有流动通道，喷嘴外框具有流入端和流出端，气态粒子能够经由流入端进入流动通道，再由流出端喷出，以此实现将气态粒子喷洒到真空环境中。调节组件包括支撑件和流体调整件，支撑件的一端连接于喷嘴外框，支撑件的另一端连接于流体调整件，通过支撑件能够实现对流体调整件的固定支撑，并使得流体调整件与喷嘴外框相间隔。其中，流体调整件设于流动通道的中间位置处，以使喷嘴外框和流体调整件之间形成流体调整通道，流体调整通道用于调整气态粒子形成蒸发束的形状，即将流体调整件设置于流动通道的中间位置处时，流体调整件能够对流动通道的中间区域进行遮挡，使得蒸镀材料在蒸发成气态粒子后上升的过程中受到影响，避免了基板正对喷嘴外框的区域膜厚较厚的问题，且经由流体调整通道对气态粒子形成蒸发束的形状进行调整后，还能够改善蒸镀成膜的均一性，方便缩小基板和喷嘴外框沿水平方向的错位距离，甚至无需进行错位，以此减少蒸镀材料的损耗，提高蒸镀材料的利用率，降低工艺成本，且通过使用该蒸镀喷嘴结构能够确保基板上的成膜厚度精确，无需随时进行位置移动以调整成膜厚度。

21、本发明提供的蒸镀坩埚装置包括如上述的蒸镀喷嘴结构，该蒸镀坩埚装置还包坩埚本体，喷嘴外框可拆卸连接于所述坩埚本体的开口处，从而通过喷嘴外框和坩埚本体的可拆卸连接，能够方便在坩埚本体内添加蒸镀材料，且该蒸镀坩埚通过使用蒸镀喷嘴结构，能够使得蒸镀材料在蒸发成气态粒子上升的过程中受到影响，避免了基板正对喷嘴外框的区域膜厚较厚的问题，同时还改善蒸镀成膜的均一性，方便缩小基板和喷嘴外框沿水平方向的错位距离，甚至无需进行错位，以此减少蒸镀材料的损耗，提高蒸镀材料的利用率，降低工艺成本，且通过使用该蒸镀喷嘴结构能够确保基板上的成膜厚度精确，无需随时进行位置移动以调整成膜厚度。

22、本发明提供的蒸镀坩埚装置的使用方法使用如上述的蒸镀坩埚装置，该蒸镀坩埚装置的使用方法操作简单，先通过对喷嘴外框上的流体调整件的位置进行调整后，再将喷嘴外框安装在坩埚本体上，以此调整气态粒子形成蒸发束的形状，再根据气态粒子形成的蒸发束调整基板相对于喷嘴外框的位置，以满足基板上蒸镀成膜的均一性，同时提高蒸镀材料的利用率。

1.一种蒸镀喷嘴结构，用于向基板的一侧喷射气态粒子，其特征在于，所述蒸镀喷嘴结构包括：

2.根据权利要求1所述的蒸镀喷嘴结构，其特征在于，所述流体调整件(220)具有环形分散面(221)和环形导流面(222)，所述环形分散面(221)设于所述流入端(120)一侧，所述环形导流面(222)设于所述流出端(130)一侧，所述环形分散面(221)和所述环形导流面(222)平滑连接；所述环形分散面(221)的直径尺寸由所述流入端(120)一侧到所述流出端(130)一侧逐渐增大设置，所述环形导流面(222)的外径尺寸由所述流入端(120)一侧到所述流出端(130)一侧逐渐缩小设置。

3.根据权利要求2所述的蒸镀喷嘴结构，其特征在于，所述环形分散面(221)和/或所述环形导流面(222)沿所述气态粒子的流动方向呈弧形设置。

4.根据权利要求1所述的蒸镀喷嘴结构，其特征在于，所述流动通道(110)内壁与所述流体调整件(220)外壁之间的间距大于或等于3mm。

5.根据权利要求1所述的蒸镀喷嘴结构，其特征在于，所述流动通道(110)内壁的直径尺寸由所述流入端(120)一侧到所述流出端(130)一侧逐渐增大设置。

6.根据权利要求1所述的蒸镀喷嘴结构，其特征在于，所述支撑件(210)的两端分别与所述喷嘴外框(100)和所述流体调整件(220)可拆卸连接。

7.根据权利要求1～6任一项所述的蒸镀喷嘴结构，其特征在于，所述流体调整件(220)为鼓形结构或纺锤形结构。

8.一种蒸镀坩埚装置，其特征在于，包括如权利要求1～7任一项所述的蒸镀喷嘴结构，所述蒸镀坩埚装置还包括坩埚本体(300)，所述喷嘴外框(100)可拆卸连接于所述坩埚本体(300)的开口处。

9.一种蒸镀坩埚装置的使用方法，其特征在于，使用如权利要求8所述的蒸镀坩埚装置，所述蒸镀坩埚装置的使用方法包括以下步骤：

10.根据权利要求9所述的蒸镀坩埚装置的使用方法，其特征在于，在通过支撑件(210)对流体调整件(220)的位置进行调整之后，将蒸镀材料放置于坩埚本体(300)内之前，还包括：对使用蒸镀喷嘴结构后的蒸镀过程进行仿真模拟，并根据模拟结果调整流体调整件(220)的形状和位置。