一种衬底片治具取片装置的制作方法

本技术涉及半导体，特别是涉及一种衬底片治具取片装置。

背景技术：

1、磷化铟衬底在制造高频高功率器件、光纤通信、无线传输、射电天文学等射频器件领域存在广泛的应用市场。磷化铟衬底在生产制造过程中，其晶圆棒在经过切片工序，形成衬底片之后，衬底片还需要进行清洗和测试等多道工序，而在这多道工序之间，衬底片需要频繁的在不同工序的不同设备的不同冶具中进行转移。

2、现有技术中，对于衬底片在不同冶具之间的转移，往往采用手动撬片等结构，该种结构不仅费时费力，还十分容易对衬底片的边缘部分造成破坏。而部分采用吸盘结构吸取固定衬底片的结构，其吸盘结构往往也过于简单，仅仅在衬底片的上方营造真空环境，无法对衬底片提供稳定而有效的吸力，容易出现衬底片难以被吸起，衬底片转移效率过低，以及转移过程中，吸力不稳定，衬底片容易掉落等问题。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是：如何提高衬底片的吸取效率和吸取状态的稳定性，为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种衬底片治具取片装置，包括冶具、真空组件以及充气组件，所述冶具设置有容置槽、下导气槽和滑槽，所述滑槽内活动设置有气动部件，所述滑槽沿所述冶具的径向方向设置于所述容置槽与所述下导气槽之间；所述容置槽用于容置待抓取的衬底片，所述下导气槽用于通入气体，以驱动所述气动部件在所述滑槽内沿所述冶具的径向方向移动，所述气动部件抵接所述衬底片的边缘，以用于抬起所述衬底片；

2、所述真空组件包括吸盘，所述吸盘设置于所述冶具的上方，所述吸盘与所述冶具之间形成有真空腔，以用于在衬底片上端面形成真空负压环境；

3、所述充气组件包括隔板，所述隔板设置于所述吸盘与所述冶具之间；所述隔板的中部设置有吸气通孔，所述吸气通孔用于连通所述吸盘与所述冶具；所述隔板设置有充气接头，所述充气接头与所述下导气槽连通，以向所述下导气槽内通入气体。

4、优选地，所述气动部件包括滑块，所述滑块的顶部设置有斜面，所述斜面朝向所述冶具的中心，所述斜面用于抵接所述衬底片。

5、优选地，所述滑块朝向所述冶具中心的一侧设置有槽孔，所述槽孔内设置有复位弹簧，所述复位弹簧一端抵接所述滑块，另一端抵接所述滑槽的内壁。

6、优选地，所述隔板朝向所述冶具一侧对应于所述下导气槽设置有上导气槽，所述上导气槽与所述下导气槽连通设置；所述上导气槽与所述下导气槽为环形槽。

7、优选地，所述下导气槽对应于所述滑槽设置有进气缺口，所述进气缺口与所述上导气槽连通。

8、优选地，所述冶具内设置有导气通道，所述导气通道包括进气端和出气端，所述进气端设置于所述下导气槽，并与所述下导气槽连通设置；所述出气端设置于所述容置槽的中部，并与所述容置槽连通设置。

9、优选地，所述进气端设置有多个，且多个所述进气端均匀设置于多个所述气动部件之间。

10、优选地，所述充气接头设置于所述隔板远离所述冶具的一侧，所述充气接头对应于所述气动部件设置有多个。

11、优选地，所述吸盘远离所述冶具的一侧设置有真空接头和提升装置；所述真空接头用于外接真空设备；所述提升装置包括提升臂和提升气缸，所述提升臂的一端与所述吸盘固定连接，所述提升臂的另一端与所述气缸的输出端固定连接。

12、优选地，所述隔板的顶部设置有容置凹槽，所述容置凹槽用于容置所述吸盘，所述吸气通孔在容置凹槽内设置有多个。

13、本实用新型实施例中所提供的一种衬底片治具取片装置相比于现有技术而言，其有益效果在于：

14、在本实施例中，在需要将衬底片从冶具中取出时，一方面通过吸盘在衬底片的上方形成真空负压环境以吸取衬底片；另一方面，还通过充气接头向下导气槽内通入气体，通过通入气体驱动气动部件运动，使气动部件靠近衬底片，从而将衬底片从容置槽中抬起，使衬底片更容易被吸盘吸取，衬底片不易被损坏，衬底片的吸取转移效率更高，转移过程中衬底片的状态也更加的稳定可靠。

1.一种衬底片治具取片装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述气动部件包括滑块，所述滑块的顶部设置有斜面，所述斜面朝向所述冶具的中心，所述斜面用于抵接所述衬底片。

3.根据权利要求2所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述滑块朝向所述冶具中心的一侧设置有槽孔，所述槽孔内设置有复位弹簧，所述复位弹簧一端抵接所述滑块，另一端抵接所述滑槽的内壁。

4.根据权利要求1所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述隔板朝向所述冶具一侧对应于所述下导气槽设置有上导气槽，所述上导气槽与所述下导气槽连通设置；所述上导气槽与所述下导气槽为环形槽。

5.根据权利要求4所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述下导气槽对应于所述滑槽设置有进气缺口，所述进气缺口与所述上导气槽连通。

6.根据权利要求1所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述冶具内设置有导气通道，所述导气通道包括进气端和出气端，所述进气端设置于所述下导气槽，并与所述下导气槽连通设置；所述出气端设置于所述容置槽的中部，并与所述容置槽连通设置。

7.根据权利要求6所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述进气端设置有多个，且多个所述进气端均匀设置于多个所述气动部件之间。

8.根据权利要求1所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述充气接头设置于所述隔板远离所述冶具的一侧，所述充气接头对应于所述气动部件设置有多个。

9.根据权利要求1所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述吸盘远离所述冶具的一侧设置有真空接头和提升装置；所述真空接头用于外接真空设备；所述提升装置包括提升臂和提升气缸，所述提升臂的一端与所述吸盘固定连接，所述提升臂的另一端与所述气缸的输出端固定连接。

10.根据权利要求1所述的衬底片治具取片装置，其特征在于，所述隔板的顶部设置有容置凹槽，所述容置凹槽用于容置所述吸盘，所述吸气通孔在容置凹槽内设置有多个。