信息处理装置、判定方法以及水处理系统与流程

本发明涉及信息处理装置、判定方法以及水处理系统。

背景技术：

1、所制造的半导体器件是否为合格品是基于对该半导体器件所进行的给定检查的检查结果来予以判定的。另外，在半导体器件的制造中，在使处理液与半导体晶片的层叠膜接触而去除膜的工序中，考虑了基于接触的处理液的物质浓度来切换要接触的处理液的方法（例如，参照专利文献1）。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2006-120708号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、如上所述，实施半导体器件的合格品检查，到得到判定结果为止需要数月。因此，在制造工序的初期阶段制造了不合格品的情况下，该不合格品会在数月间留在生产线上，因此导致成品率下降。另外，在专利文献1所记载的方法中，无法基于处理液来直接判定半导体器件是否为合格品。

3、本发明的目的在于提供一种能够早期发现半导体器件的不合格的信息处理装置、判定方法以及水处理系统。

4、用于解决技术问题的技术方案

5、本发明的信息处理装置具有：

6、获取部，其获取用于清洗对象物的清洗液的排液的液质值；

7、读取部，其从数据库读取作为基准的基准液质值；

8、判定部，其基于由上述获取部获取到的液质值和由上述读取部读取出的基准液质值，来判定在包含清洗上述对象物的工序在内的制造工序中制造出的半导体器件是否为合格品；以及

9、通知部，其通知由上述判定部判定出的判定结果。

10、另外，本发明的判定方法中进行如下处理：

11、获取用于清洗对象物的清洗液的排液的液质值；

12、读取数据库中存储的基准液质值；

13、基于上述获取到的液质值与从上述数据库读取出的基准液质值，来判定在包含清洗上述对象物的工序在内的制造工序中制造出的上述半导体器件是否为合格品；以及

14、通知上述判定出的判定结果。

15、另外，本发明的水处理系统具有：

16、清洗装置，其使用由水处理装置处理后的纯水来清洗对象物；

17、测定器，其对上述清洗装置在上述对象物的清洗中使用了的清洗液的排液的液质值进行测定；

18、数据库，其存储作为基准的基准液质值；以及

19、信息处理装置，

20、上述信息处理装置具有：

21、获取部，其获取由上述测定器测定出的液质值；

22、读取部，其从上述数据库读取上述基准液质值；

23、判定部，其基于由上述获取部获取到的液质值和由上述读取部读取出的基准液质值，来判定在包含清洗上述对象物的工序在内的制造工序中制造出的半导体器件是否为合格品；以及

24、通知部，其通知由上述判定部判定出的判定结果。

25、发明效果

26、在本发明中，能够早期发现半导体器件的不合格。

1.一种信息处理装置，具有：

2.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，

3.根据权利要求1或2所述的信息处理装置，其中，

4.根据权利要求1或2所述的信息处理装置，其中，

5.根据权利要求1或2所述的信息处理装置，其中，

6.根据权利要求2所述的信息处理装置，其中，

7.根据权利要求1或2所述的信息处理装置，其中，

8.一种判定方法，在所述判定方法中进行如下处理：

9.一种水处理系统，具有：