蓝绿双波段LED外延片及其制备方法、蓝绿双波段LED与流程

摘要: 本发明涉及半导体,尤其涉及一种蓝绿双波段led外延片及其制备方法、蓝绿双波段led。背景技术:1、现有应用于显示屏的led背光光源有rgbled和白光led两种...
蓝绿双波段LED外延片及其制备方法、蓝绿双波段LED与流程

本发明涉及半导体,尤其涉及一种蓝绿双波段led外延片及其制备方法、蓝绿双波段led。

背景技术:

1、现有应用于显示屏的led背光光源有rgb led和白光led两种,其中rgb led是将蓝光led芯片、绿光led芯片和红光led芯片一起封装得到,而白光led则通过led芯片激发荧光粉,混光得到白光,例如蓝光led芯片激发绿色荧光粉和红色荧光粉发出白光,或者蓝光led芯片激发黄色荧光粉发出白光。其中,rgb led背光光源的显示效果最好,但成本较高,白光led需要用到荧光粉,荧光粉的选择对色域的影响较大,而且荧光粉与胶混合后均匀性也较难控制,会造成出光均匀性差、色调一致性差、显色性不够理想等问题。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题在于,提供一种蓝绿双波段led外延片及其制备方法、蓝绿双波段led,单颗led芯片可同时激发出蓝、绿两种波段的光源,且多量子阱发光层中的空穴浓度分布一致性好,蓝绿双波段led的光效高、显色性能好。

2、为了解决上述问题,本发明公开了一种蓝绿双波段led外延片,包括衬底,及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、n型半导体层、低温应力释放层、多量子阱发光层、电子阻挡层和p型半导体层;

3、所述多量子阱发光层包括依次层叠的绿光多量子阱层、蓝光多量子阱层和蓝光多耦合阱层;

4、所述绿光多量子阱层包括周期性交替层叠的绿光ingan量子阱层和绿光gan量子垒层;所述蓝光多量子阱层包括周期性交替层叠的蓝光ingan量子阱层和蓝光gan量子垒层;所述蓝光多耦合阱层包括周期性交替层叠的蓝光ingan耦合阱层和蓝光ingan耦合垒层,所述蓝光ingan耦合垒层为zn、si共掺杂的ingan层,厚度为1nm~6nm。

5、作为上述技术方案的改进,生长所述蓝光ingan耦合垒层时,通入zn源和si源进行共掺杂,生长温度为720℃~980℃,生长压力为30torr~360torr;

6、所述蓝光ingan耦合垒层的si掺杂浓度为1.25×1017/cm3~8.67×1017/cm3;通入所述zn源的流量为1sccm~50sccm。

7、作为上述技术方案的改进,所述蓝光多耦合阱层交替层叠的周期数为1~8;

8、所述蓝光ingan耦合阱层为不故意掺杂的ingan层,in组分占比为0.03~0.19,厚度为1nm~6nm;

9、所述蓝光ingan耦合垒层的in组分占比为0.002~0.09。

10、作为上述技术方案的改进,所述绿光多量子阱层交替层叠的周期数为2~12;

11、所述绿光ingan量子阱层为不故意掺杂的ingan层,in组分占比为0.22~0.28,厚度为2nm~5nm;

12、所述绿光gan量子垒层为si掺杂的gan层,厚度为5nm~16nm,si掺杂浓度为1.25×1017/cm3~8.67×1017/cm3。

13、作为上述技术方案的改进,所述蓝光多量子阱层交替层叠的周期数为3~15;

14、所述蓝光ingan量子阱层为不故意掺杂的ingan层,in组分占比为0.03~0.19,厚度为2nm~5nm;

15、所述蓝光gan量子垒层为si掺杂的gan层,厚度为5nm~16nm,si掺杂浓度为1.25×1017/cm3~8.67×1017/cm3。

16、作为上述技术方案的改进,所述绿光多量子阱层的发光波长为λ1,蓝光多量子阱层的发光波长为λ2,蓝光多耦合阱层的发光波长为λ3,λ1>λ2,λ2=λ3。

17、相应的,本发明还公开了一种蓝绿双波段led外延片的制备方法,用于制备上述的蓝绿双波段led外延片,包括以下步骤:

18、提供一衬底,在所述衬底上依次生长缓冲层、n型半导体层、低温应力释放层、多量子阱发光层、电子阻挡层和p型半导体层;

19、所述多量子阱发光层包括依次层叠的绿光多量子阱层、蓝光多量子阱层和蓝光多耦合阱层;

20、所述绿光多量子阱层包括周期性交替层叠的绿光ingan量子阱层和绿光gan量子垒层;所述蓝光多量子阱层包括周期性交替层叠的蓝光ingan量子阱层和蓝光gan量子垒层;所述蓝光多耦合阱层包括周期性交替层叠的蓝光ingan耦合阱层和蓝光ingan耦合垒层,所述蓝光ingan耦合垒层为zn、si共掺杂的ingan层,厚度为1nm~6nm。

21、作为上述技术方案的改进,所述蓝光ingan耦合阱层的生长温度为660℃~950℃,生长压力为30torr~360torr;

22、所述蓝光ingan耦合垒层的生长温度为720℃~980℃,生长压力为30torr~360torr,生长所述蓝光ingan耦合垒层时,通入zn源和si源进行共掺杂,所述zn源为dmzn或dezn,流量为1sccm~50sccm。

23、作为上述技术方案的改进,所述绿光ingan量子阱层的生长温度为620℃~950℃,生长压力为30torr~360torr,所述绿光gan量子垒层的生长温度为720℃~980℃,生长压力为30torr~360torr;

24、所述蓝光ingan量子阱层的生长温度为660℃~950℃,生长压力为30torr~360torr,所述蓝光gan量子垒层的生长温度为720℃~980℃,生长压力为30torr~360torr。

25、相应的,本发明还公开了一种蓝绿双波段led,包括上述的蓝绿双波段led外延片或上述的制备方法制备得到的蓝绿双波段led外延片。

26、实施本发明,具有如下有益效果:

27、1、本发明提供的蓝绿双波段led外延片,多量子阱发光层包括依次层叠的绿光多量子阱层、蓝光多量子阱层和蓝光多耦合阱层,单颗led芯片可同时激发出蓝光和绿光两种波段的光源,应用在rgb led背光光源中可以降低成本,应用在白光led背光光源中可以减少荧光粉的使用。

28、2、本发明提供的蓝绿双波段led外延片中,靠近p型半导体层的蓝光多耦合阱层包括周期性交替层叠的蓝光ingan耦合阱层和蓝光ingan耦合垒层,且蓝光ingan耦合垒层为薄垒层结构,厚度仅为1nm~6nm,空穴的波函数在蓝光多耦合阱层耦合,大大提高了空穴向靠近n型半导体层的阱层的运输能力,同时低禁带宽度的ingan材料进一步提高了p型半导体层的空穴注入效率,使得空穴浓度在多量子阱发光层的各阱层中的分布一致,从而提高蓝绿双波段发光二极管的光效和显色性能。

29、3、本发明提供的蓝绿双波段led外延片中,蓝光ingan耦合垒层进行zn、si共掺杂,利用zn的缺陷钝化作用提升晶体质量,显著降低非辐射复合率,从而提高micro-led在低工作电流密度下的发光效率,同时zn元素的掺杂,使得蓝光ingan耦合垒层的价带中引入空穴,能够有效降低蓝光ingan耦合垒层的势垒,使得空穴更容易从p型半导体层注入到多量子阱发光层,进一步提高p型半导体层的空穴注入效率,使得空穴浓度在多量子阱发光层的各阱层中的分布更为一致,从而进一步提高本发明提供的蓝绿双波段led的光效和显色性能。