粘合保护膜、光学构件和光学显示设备的制作方法

摘要: 本发明的实施方式的一个或多个方面涉及粘合保护膜(adhesiveprotectivefilm)、光学构件和光学显示设备。背景技术:1、在诸如光学和/或电子构件的...
粘合保护膜、光学构件和光学显示设备的制作方法

本发明的实施方式的一个或多个方面涉及粘合保护膜(adhesive protectivefilm)、光学构件和光学显示设备。

背景技术:

1、在诸如光学和/或电子构件的装置中,有时将仅包括粘合层(例如,由粘合层组成)或包括基底膜和粘合层的保护膜附接至所述装置的表面以防止或减少在诸如加工、组装、检查等的工艺期间装置表面的划伤。在除去保护粘合层的释放膜之后,使用保护膜。近年来,作为光学构件,从液晶装置向有机发光二极管(oled)装置的转变正在进行。此外,具有柔性特性的oled装置的数量一直在增加。

2、柔性oled装置比液晶装置和/或常规oled装置显著更具柔性。因此,柔性oled装置需要(或期望)加工保护膜,以在诸如加工、组装、检查等的工艺期间防止或减少表面划伤和/或保护oled面板。当在面板检查期间存在诸如异常外观、异物等缺陷时,期望或需要适当低的剥离强度和重工(reworking)特性以容易地除去保护膜。在检查完成后,期望或需要永久附接的图案化膜(patterned film)(p-膜)来支撑面板并保护面板免受湿气和外部环境的影响。因为p-膜必须永久附接至面板,因此期望或需要p-膜具有适当高的剥离强度和可靠性。

3、因此,由于在制造面板的工艺中期望或需要临时使用的具有适当低的剥离强度的加工保护膜和具有适当高的剥离强度的p-膜,因此期望或需要层压加工保护膜的工艺、剥离加工保护膜的工艺和层压p-膜的工艺。

4、本领域普通技术人员应容易地理解使用图案化膜制造具有柔性特性的oled装置的工艺。图1是说明使用相关领域的粘合保护膜,组装用于光学显示设备的面板的工艺的一部分的图。

5、参考图1,将临时上保护膜2和临时下保护膜3分别层压在其上形成oled发光元件的面板1(例如,聚酰亚胺类面板)的上表面和下表面上,以制造层叠体(i)。用激光器4切割层叠体以分离层叠体(ii)。用激光器5从层叠体分离一部分以获得具有小尺寸的层叠体(将临时上保护膜2a和临时下保护膜3a分别层压在其上形成oled发光元件的面板1a的上表面和下表面上)(iii)。将临时下保护膜3a从层叠体除去,并且将临时上保护膜2a的一部分除去(iv)。在其上形成oled发光元件的面板1a的下表面上层压图案化膜8和载体膜(carrierfilm,承载膜)6的层叠体(v)。然后,可以安装显示驱动器9以制造其上形成具有显示区和非显示区的面板(vi)。

6、载体膜6可以用于保护图案化膜8。由于载体膜6用于保护图案化膜,因此它不参与真实面板制造工艺。因此,正在进行不使用载体膜6的图案化膜的开发。

7、在日本专利号5683369等中公开了本发明的背景。

技术实现思路

1、本公开的实施方式的一个或多个方面涉及提供粘合保护膜,其能够提高具有聚酰亚胺类灰(polyimide-based ash,基于聚酰亚胺的灰,聚酰亚胺类灰烬,聚酰亚胺类灰分)的聚酰亚胺类光学元件(polyimide-based optical element,基于聚酰亚胺的光学元件)的耐久可靠性,其中粘合保护膜粘附至聚酰亚胺类光学元件,在光辐射后具有比光辐射前显著更高的剥离强度,并且被固定至所述光学元件。

2、本公开的实施方式的一个或多个方面还涉及提供粘合保护膜,该粘合保护膜可以在柔性发光元件面板的制造中一同(例如,同时)用作临时加工保护膜,并且用作仅有一部分被选择性剥离以形成图案的图案增强保护膜。

3、此外,本公开的实施方式的一个或多个方面涉及提供粘合保护膜,当使用该粘合保护膜时,该粘合保护膜具有优异或合适的抗划伤性和优异或合适的面板制造可加工性。

4、根据本公开的一个或多个实施方式,提供了粘合保护膜,其包括基底层(substrate layer,基板层)、形成在基底层的第一表面上的粘合剂膜和形成在基底层的第二表面上的保护层,其中粘合剂膜包含(甲基)丙烯酸类共聚物((meth)acryliccopolymer,(甲基)丙烯酸共聚物)、固化剂、含芳族基的单官能或高官能单体和引发剂,并且保护层包含硅基化合物(silicon-based compound)并且在23°c下具有f至h的铅笔硬度值和90°至100°的水接触角值。

5、根据本公开的一个或多个实施方式,提供了光学构件,其包括在至少一个表面上具有聚酰亚胺类灰的聚酰亚胺类光学元件和层压在具有聚酰亚胺类灰的一个表面上的粘合保护膜,其中粘合保护膜包括基底层、层压在基底层的第一表面上的粘合剂膜和层压在基底层的第二表面上的保护层,粘合剂膜包括组合物的固化产物,所述组合物包含(甲基)丙烯酸类共聚物、固化剂、含芳族基的单官能或高官能单体和引发剂,并且保护层包含硅基化合物并且在23°c下具有f至h的铅笔硬度值和90°至100°的水接触角值。

6、根据本公开的一个或多个实施方式,提供了包括光学构件的光学显示设备。

1.一种粘合保护膜,包括:

2.根据权利要求1所述的粘合保护膜,其中,所述基底层与所述保护层的厚度比是10:1至200:1。

3.根据权利要求2所述的粘合保护膜,其中,所述保护层具有0.5微米或更大且小于5.0微米的厚度。

4.根据权利要求1所述的粘合保护膜,其中,所述保护层直接在所述基底层的所述第二表面上。

5.根据权利要求1所述的粘合保护膜,其中,所述保护层通过将用于保护层的组合物施加在所述基底层的所述第二表面上并使所述用于保护层的组合物经受固化工艺形成,并且所述用于保护层的组合物包含粘结剂和所述硅基化合物。

6.根据权利要求5所述的粘合保护膜,其中,相对于所述用于保护层的组合物,所述硅基化合物的量是按重量计0.1%至0.4%。

7.根据权利要求5所述的粘合保护膜,其中,所述粘结剂包括选自氨基甲酸乙酯类树脂和氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯类树脂中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的粘合保护膜,还包含在所述保护层上的载体膜,

9.根据权利要求1所述的粘合保护膜,还包含在所述粘合剂膜的一个表面上的释放膜,

10.根据权利要求1所述的粘合保护膜,其中,如果所述粘合剂膜相对于包含聚酰亚胺类灰的表面的初始剥离强度是a,并且在将所述粘合剂膜层压在具有所述聚酰亚胺类灰的所述表面上并用光辐射后,所述粘合剂膜相对于包含所述聚酰亚胺类灰的所述表面的剥离强度是b,则满足表达式1:

11.一种光学构件,包括:

12.一种光学显示设备,包括权利要求11所述的光学构件。