基板作业装置的制作方法

1.本发明涉及基板作业装置，尤其涉及具备头单元的基板作业装置。


背景技术：

2.以往，已知有具备头单元的基板作业装置。这种基板作业装置例如在日本特开2019-75475号公报中被公开。
3.在上述日本特开2019-75475号公报中公开了一种具备头单元的元件安装装置(基板作业装置)。该元件安装装置具备设置于头单元的拍摄单元。拍摄单元包括在铅垂方向上排列的两个照相机。拍摄单元构成为利用两个照相机从两个方向(角度)对安装于基板的元件的安装位置进行拍摄。两个照相机分别上下偏置配置，以能够相对于铅垂方向从多个倾斜方向对元件的安装位置进行拍摄。在此，上下偏置的两个照相机中的上侧的照相机具有接近铅垂方向的倾斜方向的光轴。上下偏置的两个照相机中的下侧的照相机具有接近水平方向的倾斜方向的光轴。
4.在上述日本特开2019-75475号公报的元件安装装置中，基于由两个照相机从两个倾斜方向拍摄到的元件的安装位置的图像，取得元件的安装位置处的元件的水平方向的位置和铅垂方向的高度位置。
5.现有技术文献
6.专利文献
7.专利文献1：日本特开2019-75475号公报


技术实现要素：

8.发明所要解决的课题
9.但是，在上述日本特开2019-75475号公报的元件安装装置中，上侧的照相机具有接近铅垂方向的倾斜方向的光轴，并且下侧的照相机具有接近水平方向的倾斜方向的光轴，因此在对产生了上翘曲和下翘曲的基板进行拍摄的情况下，第二照相机的光轴方向上的基板的上表面的发生了上翘曲的部分与发生了下翘曲的部分之间的距离比第一照相机的光轴方向上的基板的上表面的发生了上翘曲的部分与发生了下翘曲的部分之间的距离大。因此，认为由于第二照相机的光轴方向上的上述距离比第一照相机的光轴方向上的上述距离大，因此即使在上侧的照相机中针对基板的上表面的发生了上翘曲的部分和发生了下翘曲的部分这两个部分进行了对焦(日文：
ピント
)，有时也会在下侧的照相机中针对基板的上表面的发生了上翘曲的部分和发生了下翘曲的部分中的任一部分不对焦。因此，在上述日本特开2019-75475号公报的元件安装装置(基板作业装置)中，期望使由在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的多个照相机(拍摄部)的每一个从倾斜方向拍摄的图像的焦点更可靠地一致。
10.本发明是为了解决上述那样的课题而完成的，本发明的一个目的在于提供一种基板作业装置，能够使由在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的多个拍摄部的每一个从
倾斜方向拍摄的图像的焦点(日文：
ピント
)更可靠地一致。
11.用于解决课题的技术方案
12.本发明的一个方面的基板作业装置具备：头单元，包括对基板进行作业的作业头；及多个拍摄部，以在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的状态设置于头单元，并分别从相互不同的倾斜方向对配置有拍摄对象的同一拍摄位置进行拍摄，在多个拍摄部中，根据各自进行拍摄的倾斜方向的倾斜角设定了不同的景深。另外，多个拍摄部可以构成为利用共用的照相机对配置有拍摄对象的同一拍摄位置以分割视场的方式进行拍摄，多个拍摄部也可以构成为利用相互独立的照相机对配置有拍摄对象的同一拍摄位置进行拍摄。
13.在本发明的一个方面的基板作业装置中，如上所述，在多个拍摄部中，根据从各自的高度位置朝向拍摄对象的各自的倾斜角设定了不同的景深。由此，即使多个拍摄部分别在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置，通过在多个拍摄部的每一个中，根据倾斜角设定不同的景深，也能够单独地对配置有拍摄对象的同一拍摄位置进行对焦设定。其结果是，能够使由在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的多个拍摄部的每一个从倾斜方向拍摄的图像的焦点(日文：
ピント
)更可靠地一致。
14.在上述一个方面的基板作业装置中，优选地，多个拍摄部包括：第一拍摄部，具有倾斜角中的接近铅垂方向的倾斜方向的第一倾斜角；及第二拍摄部，配置于第一拍摄部的下侧，并具有比第一倾斜角接近水平方向的倾斜方向的第二倾斜角，第二拍摄部具有比第一拍摄部的第一景深更深的第二景深。若这样构成，则通过使第二景深比第一景深更深，能够充分确保第二拍摄部的第二景深，因此能够使由第二拍摄部拍摄的图像的焦点更可靠地对准。
15.在该情况下，优选地，第一拍摄部和第二拍摄部配置成在沿着铅垂方向的同一平面中上下排列并从倾斜方向对配置有拍摄对象的同一拍摄位置进行拍摄，第二拍摄部配置于第一拍摄部的铅垂方向的下方，并且具有比第一景深更深的第二景深。若这样构成，则与将第一拍摄部和第二拍摄部配置于从沿着铅垂方向的同一平面偏离的位置的情况相比，能够减小第一拍摄部和第二拍摄部的水平方向的设置空间。其结果是，能够更可靠地使由第二拍摄部拍摄的图像的焦点对准，并且能够抑制设置第一拍摄部和第二拍摄部的头单元的大型化。
16.在上述具备第一拍摄部和第二拍摄部的基板作业装置中，优选地，通过将第一拍摄部的光圈设定为恒定，第一景深被设定为恒定的景深，通过将第二拍摄部的光圈设定为恒定，第二景深被设定为比第一景深更深的恒定的景深。若这样构成，则不需要对第一拍摄部和第二拍摄部的光圈进行调整的构造，因此能够抑制头单元的大型化。
17.在上述具备第一拍摄部和第二拍摄部的基板作业装置中，优选地，第一拍摄部和第二拍摄部的每一个构成为，对作为拍摄对象的元件的安装位置周边和元件的吸附位置周边中的至少一方进行拍摄，第一景深和第二景深各自在沿着第一拍摄部与第二拍摄部的排列方向的截面中，根据由基板的翘曲引起的基板的上表面的高度位置的所设想的偏差量或由对元件进行收纳的收纳带的种类的不同引起的收纳于收纳带的元件的上表面的高度位置的所设想的偏差量、元件的水平方向的长度和倾斜角来设定。如果这样构成，则能够取得适当的值的第一景深和第二景深，因此能够针对第一拍摄部和第二拍摄部的每一个设定适当的景深。另外，所谓收纳带的种类的不同，是不仅包括纸带和压纹带这样的带的种类的不
同的情况，还包括即使是相同的纸带但对元件进行收纳的收纳部的大小不同的情况、及即使是相同的压纹带但对元件进行收纳的收纳部的大小不同的情况的广泛的概念。
18.在上述具备第一拍摄部和第二拍摄部的基板作业装置中，优选地，基板作业装置还具备：照明部，向拍摄对象照射光；及控制部，进行由第一拍摄部和第二拍摄部的每一个对拍摄对象进行拍摄的控制，控制部构成为进行如下控制：通过使针对第一拍摄部和第二拍摄部各自的传感器增益、第一拍摄部和第二拍摄部各自的曝光时间、及照明部的光量中的任一个不同，从而使由第一拍摄部和第二拍摄部各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同。若这样构成，则即使在使第二景深比第一景深更深的情况下，也能够在第二拍摄部中对焦，不仅如此，还能够确保由第二拍摄部拍摄的图像的亮度。其结果是，能够更可靠地使由第二拍摄部拍摄的图像的焦点对准，并且能够由第二拍摄部拍摄与由第一拍摄部拍摄到的图像同等的亮度的图像。
19.在上述使第一拍摄部和第二拍摄部各自的曝光时间不同的基板作业装置中，优选地，控制部构成为，与第一拍摄部的曝光并行地，还进行第二拍摄部的曝光。若这样结构，则能够将对拍摄位置进行拍摄时的曝光所需的时间抑制在最小限度，因此能够不使作业头对基板的作业时间增加。
20.在上述具备第一拍摄部和第二拍摄部的基板作业装置中，优选地，第一拍摄部和第二拍摄部还分别包括第一照相机和第二照相机。若这样构成，则与利用共用的照相机进行拍摄的情况相比，能够简化第一拍摄部和第二拍摄部的透镜等光学系统的构造，因此能够抑制第一拍摄部和第二拍摄部的构造的复杂化。
21.在上述具备第一拍摄部和第二拍摄部的基板作业装置中，优选地，第一拍摄部和第二拍摄部还包括：共用的照相机；及光学系统，将共用的照相机的视场分割。如果这样构成，则能够抑制所需的照相机的数量，因此能够抑制头单元的大型化。
22.在上述具备第一拍摄部和第二拍摄部的基板作业装置中，优选地，构成为基于由第一拍摄部拍摄到的第一图像和由第二拍摄部拍摄到的第二图像，取得拍摄对象的周边的高度位置。若这样构成，则通过基于第一图像和对焦后的第二图像取得拍摄对象的周边的高度位置，能够更准确地取得拍摄对象的周边的高度位置，因此能够更高精度地进行作业头对基板的作业。
23.发明效果
24.根据本发明，如上所述，能够使由在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的多个拍摄部的每一个从倾斜方向拍摄的图像的焦点(日文：
ピント
)更可靠地一致。
附图说明
25.图1是表示第一实施方式的元件安装装置的俯视图。
26.图2是表示利用第一实施方式的元件安装装置的安装头吸附收纳带内的元件的状态的侧视图。
27.图3是表示利用第一实施方式的元件安装装置的安装头向基板安装元件的状态的侧视图。
28.图4是用于取得第一实施方式的元件安装装置的第一拍摄部的第一景深的示意图。
29.图5是用于取得第一实施方式的元件安装装置的第二拍摄部的第二景深的示意图。
30.图6是用于取得第一实施方式的元件安装装置中的拍摄位置的高度位置的示意图。
31.图7是表示第二实施方式的元件安装装置的俯视图。
32.图8是表示第二实施方式的元件安装装置的照明部的光的照射状态的侧视图。
33.图9是第一和第二实施方式的变形例的元件安装装置的头单元的侧视图。
具体实施方式
34.以下，基于附图对将本发明具体化的实施方式进行说明。
35.[第一实施方式]
[0036]
参照图1～图6，对本发明的第一实施方式的元件安装装置100的结构进行说明。另外，元件安装装置100是要求保护的范围中的“基板作业装置”的一例。
[0037]
如图1所示，元件安装装置100构成为利用一对输送机2输送基板s，并在作业位置p1处将元件b安装于基板s。另外，元件b是要求保护的范围中的“拍摄对象”的一例。
[0038]
元件安装装置100具备基台1、一对输送机2、元件供给部3、头单元4、支承部5、一对轨道部6、元件识别拍摄部7、拍摄单元8和控制部9。
[0039]
在此，将由一对输送机2输送基板s的输送方向设为x1方向，将与x1方向相反的方向设为x2方向，将x1方向和x2方向合起来的方向设为x方向。将水平方向中的与x方向正交的方向设为y方向。将y方向中的一个方向设为y1方向，将y方向中的另一个方向设为y2方向。将与x方向和y方向正交的方向设为z方向(上下方向)，将z方向中的一个方向设为z1方向(上方向)，将z方向中的另一个方向设为z2方向(下方向)。
[0040]
一对输送机2设置在基台1上，并构成为向x1方向输送基板s。另外，在一对输送机2设有保持机构，该保持机构将输送中的基板s以在作业位置p1处停止的状态进行保持。另外，一对输送机2构成为能够按照基板s的尺寸来调整y方向的间隔。
[0041]
元件供给部3配置于一对输送机2的外侧(y1方向侧和y2方向侧)。另外，在元件供给部3配置有多个带式送料器31。元件供给部3构成为对后述的安装头42供给元件b。
[0042]
带式送料器31保持着卷绕有带的卷轴(未图示)，该带将多个元件b隔开规定间隔地保持。带式送料器31构成为，通过将保持元件b的收纳带32送出而使卷轴旋转，由此从带式送料器31的前端供给元件b。在此，元件b包括ic、晶体管、电容器和电阻等电子元件。
[0043]
头单元4配置于一对输送机2和元件供给部3的z1方向侧，包括在下端安装有吸嘴41(参照图2)的多个(5个)安装头42和基板识别照相机43。另外，安装头42是要求保护的范围中的“作业头”的一例。
[0044]
安装头42构成为对基板s进行作业。具体而言，即，安装头42构成为在元件供给部3中吸附元件b。另外，安装头42构成为对基板s安装元件b。这样，安装头42吸附由元件供给部3供给的元件b，并对配置于作业位置p1的基板s安装所吸附的元件b。另外，安装头42构成为能够升降(能够在z方向上移动)，并且构成为，利用由负压发生器(未图示)在吸嘴41的前端部所产生的负压来吸附并保持从带式送料器31供给的元件b，并在基板s的安装位置p3安装元件b。另外，元件b的安装位置p3是要求保护的范围中的“拍摄位置”的一例。
[0045]
基板识别照相机43构成为，对基板s的基准标记进行拍摄以识别基板s的位置和姿势。并且，通过拍摄并识别基准标记的位置，能够准确地取得基板s中的元件b的安装位置p3。
[0046]
支承部5包括电动机51。支承部5构成为，通过使电动机51驱动而使头单元4沿着支承部5在x方向上移动。支承部5的两端部由一对轨道部6支承。
[0047]
一对轨道部6被固定在基台1上。x1侧的轨道部6包括电动机61。轨道部6构成为，通过使电动机61驱动而使支承部5沿着一对轨道部6在y方向上移动。头单元4能够沿着支承部5在x方向上移动，并且支承部5能够沿着轨道部6在y方向上移动，由此头单元4能够在水平方向(xy方向)上移动。
[0048]
元件识别拍摄部7被固定在基台1的上表面上。元件识别拍摄部7配置于一对输送机2的外侧(y1方向侧和y2方向侧)。元件识别拍摄部7构成为，从下侧(z2方向侧)对吸附于安装头42的吸嘴41的元件b进行拍摄，以在元件b的安装之前识别元件b的吸附状态(吸附姿势)。由此，能够通过控制部9取得被吸附于安装头42的吸嘴41的元件b的吸附状态。
[0049]
(拍摄单元)
[0050]
如图2和图3所示，拍摄单元8设置于头单元4。由此，拍摄单元8构成为通过头单元4在水平方向(xy方向)上移动，从而与头单元4一起在xy方向上移动。拍摄单元8相对于安装头42在水平方向(特别是y方向)上偏置配置，以不与安装头42的z方向的移动发生干涉。
[0051]
拍摄单元8构成为不使头单元4移动就能够对安装头42要下降的位置进行拍摄。详细而言，拍摄单元8构成为能够从多个(两个)方向对元件供给部3的吸附位置p2(拍摄位置)进行拍摄。另外，拍摄单元8构成为能够从多个(两个)方向对基板s的安装位置p3(拍摄位置)进行拍摄。另外，元件b的吸附位置p2是要求保护的范围中的“拍摄位置”的一例。
[0052]
这样，拍摄单元8构成为从多个(两个)方向对元件b的吸附位置p2的周边进行拍摄，由此拍摄第一图像和第二图像。另外，拍摄单元8构成为从多个(两个)方向对元件b的安装位置p3的周边进行拍摄，由此拍摄第一图像和第二图像。
[0053]
具体而言，拍摄单元8包括照明部81、第一拍摄部82和第二拍摄部83。在此，一组第一拍摄部82和第二拍摄部83与多个安装头42的每一个对应配置。
[0054]
照明部81具有led(light emitting diode：发光二极管)等光源。照明部81构成为向配置于吸附位置p2或安装位置p3(拍摄位置)的元件b照射光。照明部81构成为在由第一拍摄部82和第二拍摄部83进行拍摄时发光。照明部81设置于第一拍摄部82和第二拍摄部83的周围。另外，第一拍摄部82和第二拍摄部83是要求保护的范围中的“多个拍摄部”的一例。
[0055]
第一拍摄部82和第二拍摄部83分别具有第一照相机82a和第二照相机83a。第一照相机82a具有第一成像元件182a。第二照相机83a具有第二成像元件183a。第一成像元件182a构成为将从后述的第一透镜部182b入射的光转换为电信号。第二成像元件183a构成为将从后述的第二透镜部183b入射的光转换为电信号。另外，第一拍摄部82和第二拍摄部83分别具有第一光学系统82b和第二光学系统83b。第一光学系统82b包括具有多个透镜的第一透镜部182b和第一光圈部182c。第二光学系统83b包括具有多个透镜的第二透镜部183b和第二光圈部183c。第一光圈部182c是对朝向第一透镜部182b的光进行限制的孔。第二光圈部183c是对朝向第二透镜部183b的光进行限制的孔。
[0056]
第一拍摄部82和第二拍摄部83以在z方向上配置于多个不同的高度位置的状态设
置于头单元4。第一拍摄部82和第二拍摄部83的每一个构成为从相互不同的与z方向交叉的倾斜方向对配置有元件b的同一吸附位置p2(拍摄位置)或安装位置p3(拍摄位置)进行拍摄。
[0057]
如图4和图5所示，第一拍摄部82和第二拍摄部83构成为从相对于基准面h0各自的拍摄方向相互不同的倾斜角度(θu和θt)进行拍摄。第一拍摄部82和第二拍摄部83配置成在沿着z方向的同一平面中上下排列并从倾斜方向对配置有元件b(拍摄对象)的同一吸附位置p2(拍摄位置)或安装位置p3(拍摄位置)进行拍摄。详细而言，第一拍摄部82和第二拍摄部83在相对于基准面h0的包括元件b的吸附位置p2或元件b的安装位置p3在内的铅垂面内(yz面内)相邻配置。另外，第一拍摄部82和第二拍摄部83相互在z方向上偏置配置。另外，所谓基准面h0，是沿着水平方向延伸且未发生翘曲的状态的基板s的上表面。
[0058]
第一拍摄部82具有倾斜角中的接近铅垂方向的倾斜方向的第一倾斜角θu。第二拍摄部83配置于第一拍摄部82的z2方向侧，具有比第一倾斜角θu接近水平方向的倾斜方向的第二倾斜角θt。在此，所谓倾斜角，表示朝向元件b延伸的第一拍摄部82的光轴和第二拍摄部83的光轴各自相对于基准面h0的倾斜度。
[0059]
因此，第一拍摄部82和第二拍摄部83的每一个配置成对作为拍摄对象的元件b的安装位置p3(拍摄位置)的周边和元件b的吸附位置p2(拍摄位置)的周边这两者进行拍摄。即，拍摄单元8能够分别从多个方向(角度)对安装头42吸附元件b的吸附位置p2和安装头42安装元件b的安装位置p3进行拍摄。
[0060]
如图4和图5所示，在第一实施方式的第一拍摄部82和第二拍摄部83中，根据各自进行拍摄的倾斜方向的第一倾斜角θu和第一倾斜角θu设定了不同的景深。即，在第一拍摄部82和第二拍摄部83中，根据从各自的高度位置朝向元件b的各自的光轴的第一倾斜角θu和第一倾斜角θu，设定了不同的景深。具体而言，第一拍摄部82具有第一景深d1。第二拍摄部83具有比第一拍摄部82的第一景深d1更深的第二景深d2。在此，第二拍摄部83配置于第一拍摄部82的铅垂方向的下方(z2方向)。
[0061]
第一景深d1根据第一照相机82a的f值而设定。详细而言，通过将第一拍摄部82的光圈设定为恒定，第一景深d1被设定为恒定的景深。即，第一景深d1由具有恒定直径的孔即第一光圈部182c设定。第二景深d2根据第二照相机83a的f值而设定。详细而言，通过将第二拍摄部83的光圈设定为恒定，第二景深d2被设定为比第一景深d1更深的恒定的景深。即，第二景深d2由具有恒定直径的孔即第二光圈部183c设定。在此，第二光圈部183c的孔的直径比第一光圈部182c的直孔的径小。
[0062]
第一景深d1和第二景深d2各自在沿着第一拍摄部82与第二拍摄部83的排列方向的截面中，根据由基板的翘曲引起的基板s的上表面的高度位置的所设想的偏差量h或由对元件b进行收纳的收纳带32的种类的不同引起的收纳于收纳带32的元件b的上表面的高度位置的所设想的偏差量、元件b的水平方向(y方向)的长度和倾斜角来设定。在此，在以下的说明中，对基板s的上表面的高度位置的偏差量h进行说明。偏差量h是基板s发生了上翘曲的情况下的基板s的上表面的上侧高度位置h1与基板s发生了下翘曲的情况下的基板s的上表面的下侧高度位置h2之差。另外，偏差量h也可以是收纳于收纳带32的元件b的上表面的高度位置的偏差量。该情况下的偏差量h是收纳于多个种类之中的作为基准的一个收纳带32的元件b的上表面的高度位置与收纳于种类与上述收纳带32不同的收纳带32的元件b的
上表面的高度位置之差。
[0063]
在此，第一景深d1和第二景深d2各自按照基板s的上表面的高度位置的偏差量h和收纳于收纳带32的元件b的上表面的高度位置的偏差量中的较大一方的偏差量来设定。另外，第一景深d1和第二景深d2各自按照多个元件b的水平方向(y方向)的长度中的最大长度来设定。
[0064]
如图4所示，第一景深d1在沿着第一拍摄部82与第二拍摄部83的排列方向的截面中，根据基板s的上表面的高度位置的偏差量h、元件b的水平方向(y方向)的长度l和第一倾斜角θu来设定。具体而言，第一景深d1基于第一景深d1＝h*sin(θu) l*cos(θu)这样的关系式而取得。
[0065]
如图5所示，第二景深d2在沿着第一拍摄部82与第二拍摄部83的排列方向的截面中，根据基板s的上表面的高度位置的偏差量h、元件b的水平方向的长度l和第二倾斜角θt来设定。具体而言，第二景深d2基于第二景深d2＝h*sin(θt) l*cos(θt)这样的关系式而取得。
[0066]
作为一例，在偏差量h＝1.0[mm]、长度l＝4.0[mm]、θu＝60度和θt＝30度的情况下，第一景深d1被算出为约2.866[mm]，并且第二景深d2被算出为约3.964[mm]。在该情况下，第二景深d2比第一景深d1深约1.4倍。由此，第二照相机83a的f值被设定得比第一照相机82a的f值小，以使第二景深d2成为第一景深d1的约1.4倍的深度。以这种方式，设计了第一相机82a和第二相机83a。
[0067]
(控制部)
[0068]
如图1所示，控制部9具有cpu(central processing unit：中央处理单元)和存储部。存储部是具有rom(read only memory：只读存储器)和ram(random access memory：随机存取存储器)等存储器的存储装置。在存储部存储有用于将元件b安装于基板s的元件安装程序。
[0069]
如图6所示，控制部9构成为，基于由第一拍摄部82和第二拍摄部83从多个(两个)方向拍摄到的元件b的吸附位置p2的图像，取得元件b的吸附位置p2处的元件b的水平方向(xy方向)的位置和铅垂方向(z方向)的高度位置h3。另外，控制部9构成为，基于由第一拍摄部82和第二拍摄部83从多个(两个)方向拍摄到的元件b的安装位置p3的图像，取得元件b的安装位置p3的水平方向(xy方向)的位置和铅垂方向(z方向)的高度位置h3。
[0070]
具体而言，控制部9构成为通过立体匹配来取得相对于基准面h0的高度位置h3。即，通过使由第一拍摄部82和第二拍摄部83大致同时拍摄到的元件b的吸附位置p2或安装位置p3的图像匹配，取得拍摄到的位置的高度位置h3和水平方向位置。即，控制部9构成为进行如下控制：基于由第一拍摄部82拍摄到的第一图像和由第二拍摄部83拍摄到的第二图像，取得拍摄对象的周边的高度位置h3。匹配使用ssd(sum of squared difference：平方差值和)、sad(sum of absolute difference：绝对差值和)等一般的匹配方法。
[0071]
(第一实施方式的效果)
[0072]
在第一实施方式中，能够得到如下的效果。
[0073]
在第一实施方式中，如上所述，在第一拍摄部82和第二拍摄部83(多个拍摄部)中，根据从各自的高度位置朝向元件b的各自的光轴的第一倾斜角θu和第一倾斜角θu，设定不同的景深。由此，即使第一拍摄部82和第二拍摄部83(多个拍摄部)分别在z方向(铅垂方向)
上配置于多个不同的高度位置，通过在第一拍摄部82和第二拍摄部83(多个拍摄部)的每一个中，根据倾斜角设定不同的景深，也能够单独地对配置有元件b(拍摄对象)的吸附位置p2或安装位置p3进行对焦设定。其结果是，能够使由在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的第一拍摄部82和第二拍摄部83(多个拍摄部)的每一个从倾斜方向拍摄的图像的焦点(日文：
ピント
)更可靠地一致。
[0074]
另外，在第一实施方式中，如上所述，设置第一拍摄部82和第二拍摄部83，该第一拍摄部82具有倾斜角中的接近z方向(铅垂方向)的倾斜方向的第一倾斜角θu，该第二拍摄部83配置于第一拍摄部82的下侧，并具有比第一倾斜角θu接近水平方向的倾斜方向的第二倾斜角θt。对第二拍摄部83设定比第一拍摄部82的第一景深d1更深的第二景深d2。由此，通过使第二景深d2比第一景深d1更深，能够充分确保第二拍摄部83的第二景深d2，因此能够使由第二拍摄部83拍摄的图像的焦点更可靠地一致。
[0075]
另外，在第一实施方式中，如上所述，第一拍摄部82和第二拍摄部83配置成在沿着z方向(铅垂方向)的同一平面中上下排列并从倾斜方向对配置有元件b(拍摄对象)的同一吸附位置p2(拍摄位置)或安装位置p3(拍摄位置)进行拍摄。将第二拍摄部83配置于第一拍摄部82的z方向(铅垂方向)的下方，并且设定比第一景深d1更深的第二景深d2。由此，与将第一拍摄部82和第二拍摄部83配置于从沿着z方向(铅垂方向)的同一平面偏离的位置的情况相比，能够减小第一拍摄部82和第二拍摄部83的水平方向的设置空间。其结果是，能够更可靠地使由第二拍摄部83拍摄的图像的焦点一致，并且能够抑制设置第一拍摄部82和第二拍摄部83的头单元4的大型化。
[0076]
另外，在第一实施方式中，如上所述，通过将第一拍摄部82的光圈设定为恒定，由此将第一景深d1设定为恒定的景深。通过将第二拍摄部83的光圈设定为恒定，由此将第二景深d2设定为比第一景深d1更深的恒定的景深。由此，不需要对第一拍摄部82和第二拍摄部83的光圈进行调整的构造，因此能够抑制头单元4的大型化。
[0077]
另外，在第一实施方式中，如上所述，将第一拍摄部82和第二拍摄部83的每一个构成为，对作为元件b(拍摄对象)的元件b的安装位置p3周边和元件b的吸附位置p2周边中的至少一方进行拍摄。在沿着第一拍摄部82与第二拍摄部83的排列方向的截面中，根据由基板s的翘曲引起的基板s的上表面的高度位置的偏差量h、元件b的水平方向的长度l、第一倾斜角θu和第二倾斜角θt，设定第一景深d1和第二景深d2的每一个。由此，能够取得适当的值的第一景深d1和第二景深d2，因此能够针对第一拍摄部82和第二拍摄部83的每一个设定适当的景深。
[0078]
另外，在第一实施方式中，如上所述，在第一拍摄部82和第二拍摄部83分别设置第一照相机82a和第二照相机83a。由此，与利用共用的照相机进行拍摄的情况相比，能够简化第一拍摄部82和第二拍摄部83的透镜等光学系统的构造，因此能够抑制第一拍摄部82和第二拍摄部83的构造的复杂化。
[0079]
另外，在第一实施方式中，如上所述，将控制部9构成为，基于由第一拍摄部82拍摄到的第一图像和由第二拍摄部83拍摄到的第二图像，取得元件b(拍摄对象)的周边的高度位置。由此，通过基于第一图像和对焦后的第二图像取得元件b(拍摄对象)的周边的高度位置，能够更准确地取得拍摄对象的周边的高度位置，因此能够高精度地进行安装头42对基板s的作业。
[0080]
[第二实施方式]
[0081]
参照图7和图8，对第二实施方式的元件安装装置200的结构进行说明。在第二实施方式中，与第一实施方式不同，通过控制部209使由第一拍摄部82拍摄到的图像的亮度与由第二拍摄部83拍摄到的图像的亮度一致。另外，在第二实施方式中，对于与第一实施方式相同的结构，省略说明。
[0082]
如图7和图8所示，元件安装装置200具备基台1、一对输送机2、元件供给部3、头单元4、支承部5、一对轨道部6、元件识别拍摄部7、拍摄单元8和控制部209。另外，元件安装装置200是要求保护的范围中的“基板作业装置”的一例。
[0083]
第二实施方式的控制部209构成为进行如下控制：通过使第一拍摄部82和第二拍摄部83各自的曝光时间不同，从而使由第一拍摄部82和第二拍摄部83各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同。详细而言，控制部209进行如下控制：通过使第二拍摄部83的曝光时间比第一拍摄部82的曝光时间大出透过的光的量因景深较深而减少的量，从而使由第一拍摄部82和第二拍摄部83各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同。
[0084]
另外，此时，控制部209也可以构成为，与第一拍摄部82的曝光并行地，还进行第二拍摄部83的曝光。即，作为一例，有时在使第一拍摄部82的曝光开始的定时与第二拍摄部83的曝光开始的定时一致地进行曝光的情况下，使第一拍摄部82的曝光结束的定时与第二拍摄部83的曝光结束的定时一致地进行曝光。另外，作为一例，有时在第二拍摄部83的曝光过程中，使第一拍摄部82的曝光开始，并且结束第一拍摄部82的曝光。另外，作为一例，有时在第二拍摄部83的曝光过程中，使第一拍摄部82的曝光开始，并且在第二拍摄部83的曝光结束后使第一拍摄部82的曝光结束。另外，第二实施方式的其他结构与上述第一实施方式相同。
[0085]
(第二实施方式的效果)
[0086]
在第二实施方式中，与上述第一实施方式同样地，在第一拍摄部82和第二拍摄部83(多个拍摄部)中，根据从各自的高度位置朝向元件b的各自的光轴的第一倾斜角θu和第一倾斜角θu，设定不同的景深。由此，能够使由在铅垂方向上配置于多个不同的高度位置的第一拍摄部82和第二拍摄部83(多个拍摄部)的每一个从倾斜方向拍摄的图像的焦点(日文：
ピント
)更可靠地一致。
[0087]
另外，在第二实施方式中，如上所述，在元件安装装置200设置：照明部81，向元件b(拍摄对象)照射光；及控制部209，进行通过第一拍摄部82和第二拍摄部83的每一个对元件b(拍摄对象)进行拍摄的控制。将控制部209构成为进行如下控制：通过使第一拍摄部82和第二拍摄部83各自的曝光时间不同，从而使由第一拍摄部82和第二拍摄部83各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同。由此，即使在使第二景深d2比第一景深d1更深的情况下，也能够在第二拍摄部83中对焦，不仅如此，还能够确保由第二拍摄部83拍摄的图像的亮度。其结果是，能够更可靠地使由第二拍摄部83拍摄的图像的焦点一致，并且能够由第二拍摄部83拍摄与由第一拍摄部82拍摄到的图像同等的亮度的图像。
[0088]
另外，在第二实施方式中，如上所述，将控制部209构成为，与第一拍摄部82的曝光并行地，还进行第二拍摄部83的曝光。由此，能够将对吸附位置p2或安装位置p3(拍摄位置)进行拍摄时的曝光所需的时间抑制为最小限度，因此能够使安装头42对基板s的作业时间不增加。另外，第二实施方式的其他效果与第一实施方式相同。
[0089]
[变形例]
[0090]
另外，应当认为本次公开的第一和第二实施方式在所有方面均是例示，而不是限制性的。本发明的范围并不是由上述的第一和第二实施方式的说明示出，而是由要求保护的范围示出，而且包括与要求保护的范围等同的含义和范围内的所有变更(变形例)。
[0091]
例如，在上述第一和第二实施方式中，示出了第一拍摄部82和第二拍摄部83配置成在沿着铅垂方向的同一平面中上下排列并从倾斜方向对配置有拍摄对象的同一拍摄位置进行拍摄的例子，但本发明并不限于此。在本发明中，第一拍摄部和第二拍摄部也可以不配置于沿着铅垂方向的同一平面。
[0092]
另外，在上述第二实施方式中，示出了控制部9(209)构成为进行如下控制：通过使针对第一拍摄部82和第二拍摄部83各自的曝光时间不同，从而使由第一拍摄部82和第二拍摄部83各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同的例子，但本发明并不限于此。在本发明中，控制部也可以构成为进行如下控制：通过使针对第一拍摄部和第二拍摄部各自的传感器增益不同，从而使由第一拍摄部和第二拍摄部各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同。在该情况下，在控制部中，第二拍摄部的传感器增益设定得比第一拍摄部的传感器增益大。另外，控制部也可以构成为进行如下控制：通过使照明部的光量不同，从而使由第一拍摄部和第二拍摄部各自拍摄到的图像的亮度相互大致相同。在该情况下，在控制部中，第一拍摄部曝光的定时和第二拍摄部曝光的定时被单独设定，并且第二拍摄部曝光时的光量设定得比第一拍摄部曝光时的光量大。
[0093]
另外，在上述第一和第二实施方式中，示出了第一拍摄部82和第二拍摄部83分别具有第一照相机82a和第二照相机83a的例子，但本发明并不限于此。在本发明中，如图9所示的变形例那样，第一拍摄部82和第二拍摄部83也可以具有共用的照相机382和将共用的照相机的视场分割的光学系统383。由此，能够抑制所需的照相机的数量，因此能够抑制头单元4的大型化。
[0094]
另外，在上述第一和第二实施方式中，作为要求保护的范围中的“作业头”的一例，示出了安装头42，但本发明并不限于此。在本发明中，作业头也可以是用于将粘接剂涂布于基板的分配头。
[0095]
另外，在上述第一和第二实施方式中，作为要求保护的范围中的“基板作业装置”的一例，示出了元件安装装置，但本发明并不限于此。在本发明中，基板作业装置也可以是将粘接剂或膏状焊料等涂布于基板的涂布装置。
[0096]
另外，在第二实施方式中，示出了控制部209构成为与第一拍摄部82的曝光并行地还进行第二拍摄部83的曝光的例子，但本发明并不限于此。在本发明中，也可以依次进行第一拍摄部的曝光和第二拍摄部的曝光。
[0097]
标号说明
[0098]
4头单元
[0099]
42安装头(作业头)
[0100]
81照明部
[0101]
82第一拍摄部(多个拍摄部)
[0102]
82a第一照相机
[0103]
83第二拍摄部(多个拍摄部)
[0104]
83a第二照相机
[0105]
100、200元件安装装置(基板作业装置)
[0106]
382 共用的照相机
[0107]
383 光学系统
[0108]
b元件(拍摄对象)
[0109]
d1 第一景深
[0110]
d2 第二景深
[0111]
h 偏差量
[0112]
h3 高度位置
[0113]
l长度
[0114]
p2吸附位置(拍摄位置)
[0115]
p3安装位置(拍摄位置)
[0116]
s 基板
[0117]
θt 第二倾斜角
[0118]
θu 第一倾斜角