等离子体处理装置的制作方法

技术特征：
1.一种等离子体处理装置，其中，包括：电源供应部；等离子体电极，连接于所述电源供应部；等离子体处理部，被设置所述等离子体电极；工艺气体排出管，连接于所述等离子体处理部；以及气体方向变换部，位于所述等离子体处理部与所述工艺气体排出管之间。2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述气体方向变换部包括形成于内部面的槽部，所述槽部在所述气体方向变换部的所述内部面呈螺旋形形成。3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述槽部形成为与所述气体方向变换部的所述内部面形成一定角度。4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其中，所述一定角度是30度至60度的角度。5.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其中，所述槽部的深度是1mm至2mm。6.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其中，所述槽部的所述螺旋形以等间隔配置，所述一定角度是45度，所述等间隔是10mm。7.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述气体方向变换部包括喷嘴和配置成横截所述喷嘴的内部的气体方向变换过滤器。8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，所述气体方向变换过滤器包括多个孔。9.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，通过所述等离子体处理部的工艺气体以线性流排出，通过所述气体方向变换部的所述工艺气体以涡流排出。

技术总结
根据一实施例的等离子体处理装置包括：电源供应部；等离子体电极，连接于所述电源供应部；等离子体处理部，被设置所述等离子体电极；工艺气体排出管，连接于所述等离子体处理部；以及气体方向变换部，位于所述等离子体处理部与所述工艺气体排出管之间。与所述工艺气体排出管之间。与所述工艺气体排出管之间。


技术研发人员：金秀燕 梁熙俊 尹昇好 丁世勋
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2022.07.29
技术公布日：2023/2/17