卤素产生器的制作方法

技术特征：
1.一种系统，其包括：卤化物化合物储集器；流体地偶联到所述储集器的氧化剂载体；和气流出口。2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括气体入口，所述气体入口包括配置用来使气体进入所述系统，或者阻止气体进入所述系统的第一龙头。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述气体入口流体地偶联到惰性气流。4.根据权利要求1所述的系统，进一步包括流体地偶联到所述气流出口的真空系统。5.根据权利要求1所述的系统，其中所述气流出口进一步包括配置用来使气体离开所述系统，或者阻止气体离开所述系统的第二龙头。6.根据权利要求4所述的系统，其中所述系统配置为在50托到300托的压力下操作。7.根据权利要求1所述的系统，其中所述氧化剂载体是玻璃烧结圆盘。8.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统进一步包括与所述氧化剂载体接触的固体氧化剂。9.根据权利要求8所述的系统，其中所述固体氧化剂包含高锰酸盐、重铬酸盐、次氯酸盐、次溴酸盐、氯酸盐、溴酸盐、亚氯酸盐、亚溴酸盐、高氯酸盐、高溴酸盐、氯铬酸盐、过硼酸盐、铋酸盐、硝酸盐、铬酸盐、三氧化物、四氧化物或者它们的组合。10.根据权利要求8所述的系统，其中所述固体氧化剂包含锂、钙、钡、钠、钾、镁、铬、锇、钌或者它们的组合。11.根据权利要求8所述的系统，其中所述固体氧化剂包含高锰酸钾、铬酸钾、三氧化铬、铬酸钠、重铬酸钠、重铬酸钾、氯铬酸钾、铋酸钠、硝酸钾、过硼酸钠、次氯酸钠、亚氯酸钠、氯酸钠、高氯酸钠、次溴酸钠、亚溴酸钠、溴酸钠、高溴酸钠、四氧化锇、四氧化钌或者它们的组合。12.根据权利要求1所述的系统，其包括：卤化物化合物储集器；流体地偶联到所述储集器的包括烧结玻璃圆盘的氧化剂载体；包括配置用来使气体进入所述系统或者阻止气体进入所述系统的第一龙头的气流入口；包括配置用来使气体离开所述系统或者阻止气体离开所述系统的第二龙头的气流出口。13.根据权利要求12所述的系统，进一步包括与所述氧化剂载体接触的固体氧化剂。

技术总结
本申请涉及一种卤素产生器，以及用于产生卤素气体的一种方法和系统的实施例。所述方法可包含使固体氧化剂与包含卤化物化合物的蒸气接触，以产生包含对应于所述卤化物化合物中的卤化物的卤素的气流。所述卤化物化合物可以是酰卤，如乙酰卤或草酰卤。所述氧化剂可以是任何适合氧化剂，并且在某些实例中，使用高锰酸钾。可在减压下进行所述方法。本文还公开了一种适合于进行本公开的方法的系统。所述系统可包含储集器、氧化剂载体和气流出口。氧化剂载体和气流出口。氧化剂载体和气流出口。


技术研发人员：C.钱德勒
受保护的技术使用者：FEI公司
技术研发日：2020.04.21
技术公布日：2023/2/3