口腔处理设备的制作方法

技术特征：
1.一种口腔处理单元(20)，所述口腔处理单元(20)用于限制具有在100khz至300mhz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，所述口腔处理单元包括：第一清洁元件(24)，其被耦合到所述口腔处理单元或者被集成在所述口腔处理单元中；以及超材料结构(26)，其被耦合到所述口腔处理单元或者被集成在所述口腔处理单元中，所述超材料结构(26)适于接收初始电磁场(28)并输出经聚焦的电磁场，其中所述超材料结构(26)具有以下项中的一个或多个：负或接近零的有效介电常数；负或接近零的有效磁导率；以及负或接近零的折射率，并且其中所述超材料结构具有无源电磁场聚焦功能，所述无源电磁场聚焦功能将所接收的所述初始电磁场限制在所述超材料结构的近场区域中。2.根据权利要求1所述的口腔处理单元(20)，其中所述超材料结构(26)包括多个单位单元。3.根据权利要求2所述的口腔处理单元(20)，其中所述多个单位单元被布置为阵列。4.根据权利要求2或3所述的口腔处理单元(20)，其中每个单位单元包括：平面导电螺旋结构；或者平面导电环形结构；或者平面导电曲折线结构；或者3d导电螺旋结构；或者3d导电环形结构；或者3d导电曲折线结构。5.根据权利要求1至4中任一项所述的口腔处理单元(60)，其中所述口腔处理单元还包括第二清洁元件(62)，并且其中所述超材料结构形成所述第二清洁元件的至少一部分或全部。6.根据权利要求1至5中任一项所述的口腔处理单元(20)，其中所述超材料结构(26)包括：第一单位单元，其适于接收并且聚焦第一电磁场，所述第一电磁场具有在第一频率范围内的第一频率；以及第二单位单元，其适于接收并且聚焦第二电磁场，所述第二电磁场具有在第二频率范围内的第二频率，所述第二频率范围不同于所述第一频率范围。7.根据权利要求1至6中任一项所述的口腔处理单元(70)，其中所述口腔处理单元还包括一个或多个发射器线圈(72)，所述一个或多个发射器线圈(72)适于生成待由所述材料结构(26)接收的所述初始电磁场。8.根据权利要求6所述的口腔处理单元(70)，其中所述口腔处理单元还包括多谐波发射器线圈，所述多谐波发射器线圈适于生成：待由所述第一单位单元接收的在第一频率范围内的第一电磁场、以及待由所述第二单位单元接收的在第二频率范围内的第二电磁场。9.根据权利要求6所述的口腔处理单元(70)，其中所述口腔处理单元还包括：适于生成具有在第一频率范围内的第一频率的电磁场的第一发射器线圈、以及适于生成具有在第二
频率范围内的第一频率的电磁场的第二发射器线圈。10.根据权利要求7至9中任一项所述的口腔处理单元(70)，其中所述单位单元具有螺旋结构，并且其中所述一个或多个发射器线圈(72)的线圈回路与所述单位单元的所述螺旋结构被平行和/或同轴地对准。11.一种基部单元(135)，其适于与根据权利要求1至6中任一项所述的口腔处理单元(20)组合使用，所述基部单元包括：电力源(140)；电信号生成单元(145)，其被耦合到所述电力源并且适于生成具有给定频率范围内的频率的电信号；以及一个或多个发射器线圈(130)，其与所述电信号发生器通信，所述一个或多个发射器线圈适于生成具有在所述给定频率范围内的频率的至少一个电磁场并将所述至少一个电磁场传输给所述口腔处理单元。12.一种基部单元(82)，其适于与根据权利要求7至10中任一项所述的口腔处理单元(70)组合使用，所述基部单元包括：电力源(84)；电信号生成单元(86)，其被耦合到所述电力源并且适于生成具有给定频率范围内的频率的电驱动信号，所述电驱动信号被馈送到所述口腔处理单元的所述一个或多个发射器线圈(72)。13.一种口腔处理设备(100)，包括：一个或多个根据权利要求1至6中任一项所述的口腔处理单元(20)；以及根据权利要求11所述的基部单元(135)，其中所述口腔处理单元适于临时耦合到所述基部单元。14.一种口腔处理设备(80)，包括：一个或多个根据权利要求7至10中任一项所述的口腔处理单元(70)；根据权利要求12所述的基部单元(80)；以及其中所述口腔处理单元适于临时耦合到所述基部单元，并且其中所述口腔处理单元还包括第一电触点(88)，并且所述基部单元还包括第二电触点(90)，其中当所述口腔处理单元被耦合到所述基部单元时，所述第一电触点和所述第二电触点接触。15.根据权利要求13至14中任一项所述的口腔清洁设备(80)，其中：所述口腔处理单元是电动牙刷头部或电动牙刷头部的一部分，其中所述电动牙刷头部优选地包括流体发射喷嘴，并且其中所述基部单元是电动牙刷手柄；或者一个或多个口腔处理单元被布置为形成口腔处理咬嘴的弓形部的至少一部分，并且其中所述基部单元是电动咬嘴手柄。

技术总结
本发明提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件，其用于限制具有在100kHz到300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中，口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分，且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括与口腔处理单元耦合的材料结构，其适于接收初始电磁场并输出经聚焦的电磁场，其中材料结构具有无源电磁场聚焦功能，该功能将所接收的初始电磁场聚焦在材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件，其用于限制和调制具有在1MHz到300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中，口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括电磁场聚焦元件，其适于接收具有初始频率的电磁场并输出经聚焦的电磁场。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构，第一材料结构通过执行以下各项中的一项或多项来将经调制的电磁场限制在距第一材料结构给定距离的位置处：第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对电磁场的传播方向进行修改的功能。电磁场聚焦元件具有对经限制的电磁场进行调制从而生成经调制的电磁场的调制功能。的电磁场的调制功能。的电磁场的调制功能。


技术研发人员：L
受保护的技术使用者：皇家飞利浦有限公司
技术研发日：2021.05.20
技术公布日：2023/1/31