基板处理方法及基板处理装置与流程

技术特征：
1.一种基板处理方法，其特征在于，具备：保持工序，保持基板；第一吐出工序，对设于供给管的阀输出开信号，从连接于上述供给管的第一喷嘴的前端向上述基板的主面吐出处理液；移动工序，在对上述阀输出闭信号的时间点以后，使上述第一喷嘴移动；拍摄工序，至少在对上述阀输出闭信号的时间点以后，使摄像机对包含上述第一喷嘴的上述前端的预定区域依次进行拍摄，取得多个图像数据；设定工序，检测上述多个图像数据的每一个中的上述第一喷嘴的位置，追踪上述多个图像数据间的上述第一喷嘴的位置变化，在比上述第一喷嘴的上述前端靠下侧设定判定区域；以及漏液监视工序，基于上述多个图像数据的每一个中的上述判定区域内的像素，监视从上述第一喷嘴的上述前端落下的处理液的有无。2.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，在上述移动工序中使上述第一喷嘴上升。3.如权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，还具备第二吐出工序，该第二吐出工序是在上述第一喷嘴上升了的状态下，从第二喷嘴向上述基板的上述主面吐出处理液，在上述漏液监视工序中，在上述第二吐出工序中由上述摄像机所取得的上述图像数据中追踪上述第一喷嘴的上升而设定上述判定区域，从而避开从上述第二喷嘴的上述前端到达上述基板的上述主面的处理液设定上述判定区域。4.一种基板处理装置，其特征在于，具备：基板保持部，其保持基板；喷嘴，其连接于设于阀的供给管，且将通过上述供给管供给的处理液吐出至由上述基板保持部所保持的上述基板的主面；移动机构，其使上述喷嘴移动；摄像机，其对包含上述喷嘴的前端的预定区域进行拍摄；以及控制部，其对上述阀输出开信号，使处理液从上述喷嘴的前端吐出至上述基板的主面，在对上述阀输出闭信号的时间点以后，使上述移动机构移动上述喷嘴，检测至少在对上述阀输出闭信号的时间点以后由上述摄像机依次所取得的多个图像数据的每一个中的上述喷嘴的位置，追踪上述多个图像数据间的上述喷嘴的位置变化，在比上述喷嘴的上述前端靠下侧设定判定区域，基于上述多个图像数据的每一个中的上述判定区域内的像素，监视从上述喷嘴的上述前端落下的处理液的有无。

技术总结
在第一吐出工序中，对设于供给管的阀输出开信号，从喷嘴(30)的前端向基板(W)的主面吐出处理液。在移动工序中，在对阀输出闭信号的时间点以后，使喷嘴(30)移动。在拍摄工序中，至少在对阀输出闭信号的时间点以后使摄像机依次拍摄，取得多个图像数据。在设定工序中，检测多个图像数据的每一个中的喷嘴(30)的位置，追踪喷嘴(30)的位置变化，在比喷嘴(30)的前端靠下侧设定判定区域(R11)。在漏液监视步骤中，基于多个图像数据的每一个中的判定区域(R11)内的像素，监视从喷嘴(30)的前端落下的处理液的有无。有无。有无。


技术研发人员：冲田有史 犹原英司 角间央章 增井达哉 出羽裕一
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2021.05.28
技术公布日：2023/1/31