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一种轴承外壳内壁抛光装置的制作方法

2022-12-30 17:20:46 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及轴承抛光设备技术领域,尤其涉及一种轴承外壳内壁抛光装置。


背景技术:

2.轴承是当代机械设备中一种重要零部件,它的主要功能是支撑机械旋转体,降低其运动过程中的摩擦系数,并保证其回转精度,滚动球轴承的结构通常由六部分组成:外圈、内圈、滚动体、保持架、润滑脂以及防尘盖,为了保证滚动体的正常转动同时延长轴承的使用寿命一般需要对轴承外壳内壁进行抛光处理;
3.现有对轴承外壳内壁进行抛光的方法一般都是,利用抛光轮直接对外壳内壁进行抛光,这种抛光方法速度较快,但是只适用于轴承外壳内壁较为平坦,而现有的轴承中有些外壳内壁的中部具有弧形槽,若只通过抛光轮的自转和上下移动对其内壁进行打磨则弧形槽的最深处打磨效果不好,为此提出一种轴承外壳内壁抛光装置。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中有些轴承外壳内壁的中部具有弧形槽传统直接使用抛光轮抛光效果不好的问题,而提出的一种轴承外壳内壁抛光装置。
5.为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
6.一种轴承外壳内壁抛光装置,包括抛光平台,所述抛光平台的上端设有用于夹紧轴承外壳的夹持组件,所述抛光平台的上方设有用于对轴承外壳内壁进行抛光的抛光机构,所述抛光平台的上端一侧还设有用于调节抛光机构竖直高度的升降组件;
7.所述升降组件包括固定设于抛光平台上端的升降壳,所述升降壳的上端中部固定设有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的输出端于升降壳的内部固定设有升降滑块。
8.上述技术方案进一步包括:
9.所述抛光机构包括固定设于升降滑块一端的上壳体,所述上壳体的上端固定设有驱动电机,所述驱动电机的输出端于上壳体的内部固定设有转动盘,所述转动盘的中部转动设有清洁轴,所述转动盘的下端一侧固定设有空心轴;
10.所述清洁轴的上端固定设有从动齿轮,所述清洁轴的下端固定设有抛光轮,所述上壳体的内部上方固定设有齿圈,所述从动齿轮与齿圈内侧的齿块相互啮合。
11.上述技术方案进一步包括:
12.所述抛光机构还包括固定设于上壳体下端的供水组件,所述供水组件包括固定设于上壳体下端的供水环,所述供水环的内部转动设有工字型转动环,所述工字型转动环的内侧固定设有用于对空心轴进行限位的固定块,所述空心轴通过工字型转动环中部开设的进水通道与供水环的内部相互连通,所述空心轴的下端固定设有弧形出水管,所述弧形出水管与空心轴的内部相互连通。
13.上述技术方案进一步包括:
14.所述弧形出水管与抛光轮的中部在同一水平面内,且弧形出水管末端的延长线位
于抛光轮的两侧。
15.上述技术方案进一步包括:
16.所述供水环的中部设有进水管,所述进水管与供水环的内部相互连通。
17.所述上壳体的下端转动设有转动板,所述转动板的中部开设有便于清洁轴和空心轴穿过的圆形孔。
18.所述夹持组件包括固定设于抛光平台上端一侧的左弧形夹板以及滑动设于抛光平台上端另一侧的右弧形夹板,所述抛光平台的上端右侧还固定设有挡板,所述挡板的中部转动设有驱动丝杆,所述驱动丝杆的一端与右弧形夹板的中部转动连接,所述驱动丝杆的另一端固定设有操作把手。
19.所述抛光平台的中部开设有废水回收口。
20.相比现有技术,本实用新型的有益效果为:
21.本实用新型中,通过抛光机构能够使得抛光轮在自转的同时又能够产生公转,从而能够使抛光轮深入轴承外壳内壁中部的弧形槽内,进而增加了抛光效果,并且抛光机构配合升降组件的共同使用,还能够对不同宽度的轴承外壳进行抛光;通过供水组件还能够对抛光处进行冲洗,进一步提升了抛光质量。
附图说明
22.图1为本实用新型提出的夹持组件与升降组件外观结构示意图;
23.图2为本实用新型提出的抛光机构结构示意图;
24.图3为本实用新型提出的抛光机构立体结构示意图;
25.图4为本实用新型提出的齿圈内部结构示意图。
26.图5为本实用新型提出的供水组件结构示意图;
27.图6为本实用新型提出的抛光轮工作结构示意图;
28.图7为本实用新型提出的供水组件立体结构示意图。
29.图中:1、抛光平台;2、夹持组件;3、升降组件;4、抛光机构;401、上壳体;402、驱动电机;403、转动盘;404、清洁轴;405、空心轴;406、从动齿轮;407、抛光轮;408、齿圈;5、供水组件;501、供水环;502、工字型转动环;503、固定块;504、弧形出水管。
具体实施方式
30.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
31.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
32.如图1-7所示,本实用新型提出的一种轴承外壳内壁抛光装置,包括抛光平台1,抛光平台1的上端设有用于夹紧轴承外壳的夹持组件2,抛光平台1的上方设有用于对轴承外壳内壁进行抛光的抛光机构4,抛光平台1的上端一侧还设有用于调节抛光机构4竖直高度
的升降组件3;
33.升降组件3包括固定设于抛光平台1上端的升降壳,升降壳的上端中部固定设有电动伸缩杆,电动伸缩杆的输出端于升降壳的内部固定设有升降滑块;
34.通过控制电动伸缩杆的工作进而能够控制升降滑块在升降壳内部升降,进一步控制整个抛光机构4在竖直平面内的高度,从而对不同宽度的轴承外壳进行抛光,或者调整抛光轮407的最佳打磨高度。
35.进一步,抛光机构4包括固定设于升降滑块一端的上壳体401,上壳体401的上端固定设有驱动电机402,驱动电机402的输出端于上壳体401的内部固定设有转动盘403,转动盘403的中部转动设有清洁轴404,转动盘403的下端一侧固定设有空心轴405;
36.清洁轴404的上端固定设有从动齿轮406,清洁轴404的下端固定设有抛光轮407,上壳体401的内部上方固定设有齿圈408,从动齿轮406与齿圈408内侧的齿块相互啮合;
37.驱动电机402通电工作后会驱使转动盘403在上壳体401的内部转动,转动盘403转动后,便驱使清洁轴404和空心轴405以转动盘403的中心轴线为圆心进行转动,进一步驱使清洁轴404上端的从动齿轮406转动,而上壳体401的内部上方固定设有齿圈408,在齿圈408的作用下会驱使清洁轴404产生自转,在驱动电机402和齿圈408的共同作用下,使得清洁轴404下端的抛光轮407产生自转的同时又能够以一定的半径公转,这种清洁方法能够对轴承外壳内壁有效地进行抛光,对外壳内壁的凹槽处也能抛光到位,大大地提升了抛光效果;
38.转动盘403转动后还能使得空心轴405以转动盘403的中心轴线为圆心进行转动,由于空心轴405是固定设于转动盘403的下端,空心轴405与清洁轴404的位置关系相对静止。
39.抛光机构4还包括固定设于上壳体401下端的供水组件5,供水组件5包括固定设于上壳体401下端的供水环501,供水环501的内部转动设有工字型转动环502,工字型转动环502的内侧固定设有用于对空心轴405进行限位的固定块503,空心轴405通过工字型转动环502中部开设的进水通道与供水环501的内部相互连通,空心轴405的下端固定设有弧形出水管504,弧形出水管504与空心轴405的内部相互连通;
40.当空心轴405以转动盘403的中心轴线为圆心进行转动时,通过固定块503能够驱使工字型转动环502进行转动,若通过进水管往供水环501的内部通过清水,则清水便会通过进水通道进入空心轴405的内部,进入空心轴405内部的清水便会从弧形出水管504的两端排出空心轴405的内部,排出的清水会直接冲击轴承外壳内壁,配合抛光轮407的抛光,进一步增加内壁的表面质量,同时清水还能够直接降低轴承外壳的温度,防止抛光时温度对轴承外壳产生的热形变。
41.进一步,弧形出水管504与抛光轮407的中部在同一水平面内,且弧形出水管504末端的延长线位于抛光轮407的两侧,使得水流能够直接冲击轴承外壳内壁,并间接的冲洗抛光轮407的外侧。
42.进一步,供水环501的中部设有进水管,进水管与供水环501的内部相互连通,通过进水管给供水环501提供清水。
43.进一步,上壳体401的下端转动设有转动板,转动板的中部开设有便于清洁轴404和空心轴405穿过的圆形孔。
44.进一步,夹持组件2包括固定设于抛光平台1上端一侧的左弧形夹板以及滑动设于
抛光平台1上端另一侧的右弧形夹板,抛光平台1的上端右侧还固定设有挡板,挡板的中部转动设有驱动丝杆,驱动丝杆的一端与右弧形夹板的中部转动连接,驱动丝杆的另一端固定设有操作把手;
45.通过左弧形夹板和右弧形夹板的相互配合,能够快速地对轴承外壳进行夹紧,从而配合抛光机构4的抛光工作。
46.进一步,抛光平台1的中部开设有废水回收口。
47.本实施例中,通过驱动电机402能够驱使清洁轴404和空心轴405产生自转,同时由于齿圈408和从动齿轮406的存在又能够使得清洁轴404产生自转,进而提升了对轴承外壳内壁的抛光效果,通过供水组件5又能够对将清水从空心轴405的内部导入弧形出水管504内,并使得清水从弧形出水管504的两端排出,对轴承外壳进行降温,同时清水又能对轴承外壳内壁和抛光轮407进行清洁,增加了抛光效果得到同时又能够延长抛光轮407的使用寿命。
48.以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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