一种反应腔保护壳及等离子刻蚀设备的制作方法

技术特征：
1.一种反应腔保护壳，用于等离子刻蚀设备，其特征在于，包括：主体，所述主体为空心圆柱状，所述主体的尺寸与所述反应腔匹配；安装部，位于所述主体顶部，用于将所述反应腔保护壳安装于所述反应腔中；底盘，位于所述主体底部，所述底盘为圆环状，所述底盘上设置有若干抽气孔，所述若干抽气孔的尺寸由所述底盘中心向外依次增加；所述主体、安装部和底盘为一体式结构。2.如权利要求1所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述若干抽气孔均匀分布于所述底盘上。3.如权利要求2所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述若干抽气孔呈同心圆交错分布。4.如权利要求3所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述若干抽气孔的尺寸由所述同心圆的圆心向外依次增加。5.如权利要求1所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述底盘内部还包括中空结构，所述中空结构连通所述若干抽气孔的全部或部分。6.如权利要求1所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述若干抽气孔的形状为圆形。7.如权利要求6所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述若干抽气孔的直径为5至10毫米。8.如权利要求1所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述底盘远离所述主体的一侧还设置有弯折部，所述弯折部贴合所述反应腔中的承载台侧壁。9.如权利要求1所述的反应腔保护壳，其特征在于，所述安装部设置有安装孔，所述安装部通过螺栓和所述安装孔将所述反应腔保护壳安装于所述反应腔中。10.一种等离子刻蚀设备，其特征在于，包括：反应腔；如权利要求1至9任一项所述的反应腔保护壳，设置于所述反应腔中，所述反应腔保护壳的底盘将所述反应腔分隔为反应部和抽气部，所述抽气部与抽气泵连接；承载台，设置于所述底盘中间，与所述底盘中间的空心部分匹配，用于承载晶圆。

技术总结
本申请提供一种反应腔保护壳及等离子刻蚀设备，所述反应腔保护壳包括：主体，所述主体为空心圆柱状，所述主体的尺寸与所述反应腔匹配；安装部，位于所述主体顶部，用于将所述反应腔保护壳安装于所述反应腔中；底盘，位于所述主体底部，所述底盘为圆环状，所述底盘上设置有若干抽气孔，所述若干抽气孔的尺寸由所述底盘中心向外依次增加；所述主体、安装部和底盘为一体式结构。本申请提供一种反应腔保护壳及等离子刻蚀设备，所述反应腔保护壳底部设置有尺寸由圆心向边缘依次增加的若干抽气孔，可以使反应腔内等离子体的流动更稳定和均匀，使等离子体在晶圆表面分布均匀，提高反应效率和反应稳定性。应稳定性。应稳定性。


技术研发人员：张二辉 王俊
受保护的技术使用者：上海微芸半导体科技有限公司
技术研发日：2022.09.26
技术公布日：2022/12/23