一种磁控溅射镀膜靶材及镀膜装置的制作方法

1.本技术涉及pvd镀膜的技术领域，尤其是涉及一种磁控溅射镀膜靶材及镀膜装置。


背景技术：

2.磁控溅射是物理气相沉积（pvd）的一种,是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，并在靶阴极表面引入磁场，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场和磁场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物发生溅射。磁控溅射技术广泛应用于镀膜领域，通过使靶材发生溅射并沉积在工件上，从而在工件的表面镀上一层薄膜。
3.现有的靶材通常为脆性易蒸发的材质制成，且靶材通常一体成型设置成圆柱状，靶材的一端设置有螺纹，镀膜装置的内部对应开设有螺纹孔，从而通过螺纹连接将靶材安装固定在镀膜装置的内部。
4.针对上述相关技术，发明人认为靶材在使用过程中会不断被消耗，为了防止靶材进行更换时发生断裂，靶材一般会留有较多的余量，从而造成靶材的浪费。


技术实现要素：

5.为了提升靶材的利用率，本技术提供一种磁控溅射镀膜靶材及镀膜装置。
6.第一方面，本技术提供一种磁控溅射镀膜靶材，采用如下的技术方案：
7.一种磁控溅射镀膜靶材，包括靶材本体，所述靶材本体的内部贯穿开设有安装孔，所述安装孔的内部穿设有安装杆，所述安装杆的两端分别设置有安装座和限位座，所述靶材本体抵接固定于安装座和限位座之间，所述安装座背离安装杆的一侧设置有用于连接镀膜装置的锁定件。
8.通过采用上述技术方案，安装杆将安装座和限位座连接在一起，靶材本体套设在安装杆上，安装座和限位座能够对靶材本体进行限位；锁定件将安装座装配在镀膜装置上，通过拆卸和装配安装座即可对靶材本体进行更换，从而使靶材本体在使用过程中，无需保留较多的余量，进而能够提升靶材的利用率。
9.可选的，所述锁定件为锁紧柱，所述锁紧柱的周侧具有螺纹。
10.通过采用上述技术方案，锁紧柱与镀膜装置螺纹配合，即可将安装座装配在镀膜装置上，从而方便对靶材进行更换。
11.可选的，所述安装座与安装杆可拆卸连接。
12.通过采用上述技术方案，将安装杆从安装座拆卸下来后，仅需对靶材本体进行更换，从而减少材料的浪费。
13.可选的，所述安装座背离安装柱的一侧开设有连接孔，所述安装杆远离限位座的一端与连接孔螺纹配合。
14.通过采用上述技术方案，安装杆与连接孔螺纹配合，能够方便安装杆与安装座的拆卸和装配工作。
15.可选的，所述锁定件为插杆，所述安装杆远离限位座的一端开设有滑槽，所述插杆滑动设置于滑槽的内部，所述安装座上贯穿有穿孔，所述滑槽的内部设置有用于驱使插杆穿出穿孔的弹性件。
16.通过采用上述技术方案，弹性件能够驱使插杆穿出穿孔，通过插杆与镀膜装置插接配合，从而对安装座进行定位。
17.可选的，所述滑槽的侧壁开设有导向槽，所述插杆的侧壁凸起设置有导向块，所述导向块与导向槽滑动配合。
18.通过采用上述技术方案，导向块与导向槽配合，能够限制插杆脱离安装座，从而提升插杆的稳定性。
19.可选的，所述插杆远离安装杆的一端具有圆弧插接部。
20.通过采用上述技术方案，装配靶材本体时，圆弧插接部与镀膜装置配合，能够方便对安装座进行拆卸和装配。
21.第二方面，本技术提供一种镀膜装置，采用如下的技术方案：
22.一种镀膜装置，包括包括真空腔，所述真空腔内开设有安装槽，所述安装槽装配有如上所述的磁控溅射镀膜靶材。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益效果：
24.1.安装座通过锁定件安装固定在镀膜装置上，通过拆卸和装配安装座，即可对靶材本体进行更换，从而无需保留较多的靶材余量，进而能够提升靶材的利用率；
25.2.安装座与安装杆可拆卸连接，能够将靶材本体从安装杆拆下进行更换，从而能够减少材料的浪费。
附图说明
26.图1是实施例一中磁控溅射镀膜靶材的结构示意图；
27.图2是实施例一中体现安装杆的剖视示意图；
28.图3是实施例二中磁控溅射镀膜靶材的结构示意图；
29.图4是实施例二中体现导向块的剖视示意图；
30.图5是实施例一中体现安装槽的剖视示意图；
31.图6是图5中a处的放大示意图。
32.附图标记说明：1、靶材本体；11、安装孔；2、安装杆；21、滑槽；22、导向槽；3、安装座；31、连接孔；32、穿孔；4、限位座；5、锁定件；51、锁紧柱；52、插杆；521、导向块；522、圆弧插接部；53、弹性件；6、真空腔；7、安装槽。
具体实施方式
33.以下结合附图1-6对本技术作进一步详细说明。
34.实施例一：
35.参照图1和图2，磁控溅射镀膜靶材包括整体呈圆柱状的靶材本体1，靶材本体1贯穿开设有截面为圆形的安装孔11，安装孔11沿靶材本体1的轴线方向设置，且安装孔11与靶材本体1同轴。安装孔11的内部穿设有一根圆柱状的安装杆2，且安装杆2的长度大于靶材本体1；安装杆2的其中一端一体成型设置有圆柱状的限位座4，限位座4与安装杆2同轴设置，
同时限位座4的直径与靶材本体1的直径相同。
36.安装杆2远离限位座4的一端设置有圆柱状的安装座3，且安装座3的直径与限位座4的直径相同；安装座3的端面开设有连接孔31，连接孔31与安装座3同轴设置，同时安装杆2远离限位座4的一端与连接孔31螺纹配合；安装杆2与连接孔31的底端相抵时，靶材本体1的两端分别与安装座3和限位座4相抵，从而通过安装座3和限位座4对靶材本体1进行定位。
37.安装座3背离安装杆2的一侧设置有用于连接镀膜装置的锁定件5，本实施例中的锁定件5为整体呈圆柱状的锁紧柱51，锁紧柱51与安装座3一体成型设置，且锁紧柱51与安装座3同轴设置；锁紧柱51的周侧具有螺纹，通过将锁紧柱51与镀膜装置螺纹配合，从而能够便于将靶材本体1安装在镀膜装置上。
38.实施例一的实施原理为：
39.需要更换靶材时，通过转动安装座3，能够带动连接柱旋转，从而能够将安装座3从镀膜装置拆卸下来；通过转动限位座4，能够带动安装杆2与安装座3发生相对转动，从而将安装杆2从安装座3拆卸下来，进而能够对靶材本体1进行更换。
40.实施例二：
41.参照图3和图4，本实施例与实施例一的不同之处在于，安装座3与镀膜装置的定位方式不同。本实施例中的锁定件5为插杆52，且插杆52的整体呈圆柱状；安装杆2远离限位座4的一端开设有截面为圆形的滑槽21，滑槽21与安装杆2同轴设置，同时插杆52滑动设置在滑槽21的内部。插杆52的外侧壁固定连接有两个导向块521，两个导向块521沿插杆52的轴线对称，且导向块521位于插杆52靠近限位座4的一端；滑槽21的侧壁开设有用于引导导向块521滑移的导向槽22，导向槽22远离限位座4的一端贯通安装杆2。
42.插杆52远离导向块521的一端具有圆弧插接部522，本实施例中的圆弧插接部522呈半球状，且圆弧插接部522的直径与插杆52的直径相同；安装座3上贯穿开设有截面呈圆形的穿孔32，穿孔32与连接孔31同轴设置，且穿孔32的直径与插杆52的直径相同。导向块521与安装座3相抵时，圆弧插接部522伸出穿孔32。滑槽21的内部设置有用于驱使插杆52穿出穿孔32的弹性件53；本实施例中的弹性件53为压缩弹簧，压缩弹簧的一端与插杆52靠近限位座4的端面相抵，另一端与滑槽21的底壁相抵；通过压缩弹簧驱使插杆52与镀膜装置插接配合，从而能够便于将靶材本体1安装在镀膜装置上。
43.实施例二的实施原理为：
44.压缩弹簧能够驱使插杆52伸出穿孔32，通过圆弧插接部522与镀膜装置插接配合，能够对安装座3进行定位，从而方便对靶材进行装配和拆卸。
45.本技术实施例还公开了一种镀膜装置，参照图5和图6，镀膜装置包括真空腔6，真空腔6内开设有与锁定件5相适配的安装槽7，例如实施例一中的安装槽7为螺纹孔，实施例二中的安装槽7为弧形槽；通过锁定件5与安装槽7配合，能够使磁控溅射镀膜靶材安装固定在真空腔6的内部，进而能够通过上述的镀膜装置对工件进行镀膜。
46.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。