一种无铅型高储能密度铁电薄膜的制备方法

技术特征：
1.一种无铅型高储能密度铁电薄膜，其特征在于，在pt(111)/ti/sio2/si复合衬底上沉积的铁电薄膜，其中复合衬底自上而下分别为pt，ti，sio2和si，复合衬底上沉积的具有铁电效应的铁电薄膜化学式为ba(zr
0.35
ti
0.65
)o3(bzt35)，厚度为200-400nm。2.权利要求1所述的无铅型高储能密度铁电薄膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：(1)将pt(111)/ti/sio2/si衬底和bzt35陶瓷靶材分别置入样品台和溅射位，调整靶基距为6～8cm，然后抽真空至1
×
10-4
～2
×
10-4
pa，并加热衬底至温度为550～650℃，再通入压强为1.0～1.5pa、氩气与氧气的流速比为40:0～40:15的混合气，调整溅射功率为100～140w、溅射时间为40～80min；(2)关闭氩气只充入氧气，在溅射室内50pa～150pa纯氧气氛下原位退火5～15min；(3)将经过溅射及原位退火处理所得薄膜降至室温后从溅射室中取出，放入高温管式炉，在(0.1
±
0.01)mpa纯氧气氛中以(10
±
1)℃/min的升温速率升温至650℃～800℃，保温5～15min后随炉降温，制得bzt35铁电薄膜。

技术总结
一种无铅型高储能密度铁电薄膜的制备方法。所述铁电薄膜是在Pt(111)/Ti/SiO2/Si复合衬底上沉积具有铁电效应的化学式为Ba(Zr


技术研发人员：孙正 李响 孙彦纪 岳喜鹏 韩叶梅 谢杨杨 王芳 张楷亮
受保护的技术使用者：天津理工大学
技术研发日：2022.08.30
技术公布日：2022/11/25