感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物及光掩模的制造方法与流程

技术特征：
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：树脂(p)，其在显影液中的溶解性通过酸的作用而发生变化；化合物(a)，其具有通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团(a)，并且通过光化射线或放射线的照射而产生酸(ac1)；化合物(b)，其通过光化射线或放射线的照射产生pka比由所述化合物(a)产生的酸(ac1)高的酸(ac2)；及碱性化合物(c)。2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述酸(ac2)的pka比所述酸(ac1)的pka高1以上。3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述化合物(b)的含量相对于所述碱性化合物(c)的含量之比即(b)/(c)以摩尔比计为1.1以上且10以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述化合物(b)的含量与所述碱性化合物(c)的含量之和相对于所述化合物(a)的含量与所述化合物(b)的含量之和之比即[(b) (c)]/[(a) (b)]以摩尔比计为0.3以上且1.0以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述化合物(a)的含量相对于所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分为5质量％以上且60质量％以下。6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述化合物(a)由下述通式(b1)表示，通式(b1)中，l表示单键或二价的连接基，当存在多个l时，多个l相同或不同，a表示通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团(a)，当存在多个a时，多个a相同或不同，n表示1至5的整数，x表示n 1价的连接基，m

表示锍离子或碘鎓离子。7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述化合物(a)由下述通式(b3)表示，
通式(b3)中，l表示单键或二价的连接基，当存在多个l时，多个l相同或不同，a表示通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团(a)，当存在多个a时，多个a相同或不同，o、p及q分别独立地表示0至5的整数，其中，o、p和q的总和为1以上且5以下，m

表示锍离子或碘鎓离子。8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团(a)为由下述通式(t-1)表示的基团，通式(t-1)中，r
11
表示氢原子或烷基，r
12
表示氢原子、烷基、环烷基或芳基，所述烷基及环烷基任选地包含醚键或羰基键，r
13
表示烷基、环烷基或芳基，所述烷基及环烷基任选地包含醚键或羰基键，r
11
及r
12
任选地彼此键合而形成环，r
12
及r
13
任选地彼此键合而形成环，*表示连结键。9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，所述化合物(a)的含量相对于所述化合物(b)的含量之比即(a)/(b)以摩尔比计为0.2以上且2.0以下。10.一种感光化射线性或感放射线性膜，其是使用权利要求1至9中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的。11.一种图案形成方法，其包括：抗蚀剂膜形成工序，使用权利要求1至9中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成抗蚀剂膜；
曝光工序，对所述抗蚀剂膜进行曝光；及显影工序，使用显影液对经曝光的所述抗蚀剂膜进行显影。12.一种电子器件的制造方法，其包括权利要求11所述的图案形成方法。13.一种光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其将权利要求1至9中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物用于光掩模制造。14.一种光掩模的制造方法，其使用权利要求13所述的光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。

技术总结
根据本发明，提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物及光掩模的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有通过酸的作用在显影液中的溶解性发生变化的树脂、具有通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团的光产酸剂(A)、产生pKa比由光产酸剂(A)产生的酸高的酸的光产酸剂(B)及碱性化合物。物。


技术研发人员：石原英幸 高桥年哉 三好太朗 福崎英治
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2021.03.12
技术公布日：2022/11/18