放电加工装置的制作方法

技术特征：
1.一种放电加工装置，其特征在于，包含：一载台，该载台系设有一治具，该治具包含一承载板，用以承载至少一待加工物，其中该待加工物系定义有一加工目标区；以及一放电加工单元，该放电加工单元系经由至少一放电电极以一非均匀电场分布施加一放电能量予该待加工物之该加工目标区，借以沿着该加工目标区加工该待加工物。2.如权利要求1所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极之两侧包覆有一电性遮蔽结构，借以使得该放电能量形成该非均匀电场分布。3.如权利要求1所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极具有一凹陷区，借以使得该放电能量形成该非均匀电场分布。4.如权利要求1或2所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极之剖面形状为t字形、l字形或椭圆形，借以使得该放电能量形成该非均匀电场分布。5.如权利要求2所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极之剖面形状为圆形，借以使得该放电能量形成该非均匀电场分布。6.如权利要求1所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极为线状或板状。7.如权利要求2所述之放电加工装置，其特征在于，其中该电性遮蔽结构系一支撑结构。8.如权利要求7所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极或该支撑结构具有一导凸块，该导凸块系对应于该放电加工单元之一滑轮之一导槽，借以利用该导槽导引该导凸块。9.如权利要求1所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极为一磁性组件，当该放电电极沿着该加工目标区加工该待加工物时，该放电加工单元系以一磁吸力非接触式作用于该磁性组件，借以固定该放电电极之一位向。10.如权利要求1所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极系包含一第一导电线及一第二导电线，该第一导电线之厚度和/或所施加之电压系不同于该第二导电线。11.如权利要求1所述之放电加工装置，其特征在于，还包含一微波或射频源，用以经由该放电加工单元之该放电电极供应一微波或射频能量予该待加工物之该加工目标区。12.一种放电加工装置，其特征在于，包含：一载台，该载台设有一治具，该治具包含一承载板，用以承载至少一待加工物，其中该待加工物定义有一加工目标区，且该待加工物之该加工目标区之位置系位于该承载板之上方；以及一放电加工单元，用以经由至少一放电电极施加一放电能量予该待加工物之该加工目标区，借以沿着该加工目标区加工该待加工物。13.如权利要求12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该治具更具有两侧板设于该承载板之两端，该两侧板系用以分别位于该待加工物之两侧。14.如权利要求12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该治具具有一黏胶层设于该承载板上，该待加工物之周缘系局部黏贴于该治具之该黏胶层上。15.如权利要求14所述之放电加工装置，其特征在于，其中该黏胶层为一导电胶层。16.如权利要求14所述之放电加工装置，其特征在于，其中该黏胶层为非连续式设于该承载板上。
17.如权利要求14所述之放电加工装置，其特征在于，其中该黏胶层系从该承载板向上延伸至该待加工物之至少一侧边。18.如权利要求14所述之放电加工装置，其特征在于，其中该黏胶层系渗入该待加工物中。19.如权利要求12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该治具具有一导电板设于该承载板上。20.如权利要求14、15、16、17或18所述之放电加工装置，其特征在于，其中该治具具有一导电板设于该承载板上，且该黏胶层系设于该导电板上。21.如权利要求19所述之放电加工装置，其特征在于，其中该导电板为功函数4.5ev以下的导电金属结构。22.如权利要求12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极系以一非均匀电场分布施加该放电能量予该待加工物之该加工目标区。23.如权利要求12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该载台系调整该治具相对于该放电电极之倾斜度或该放电加工单元系调整该放电电极相对于该待加工物之倾斜度，借以调整该待加工物之该加工目标区相对于该治具之该承载板之夹角。24.如权利要求1或12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该待加工物和/或该治具更具有一导电增益层，借以提高该待加工物与该治具间的电性接触。25.如权利要求1或12所述之放电加工装置，其特征在于，还包含一热源，用以加热该承载板上之该待加工物，借以提高该待加工物与该治具间的电性接触。26.如权利要求1或12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极系于一流体中切割该待加工物之该加工目标区。27.如权利要求1或12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极系于一真空环境中切割该待加工物之该加工目标区。28.如权利要求1或12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该放电电极之数量为一或复数个。29.如权利要求1或12所述之放电加工装置，其特征在于，其中该待加工物之数量为一或复数个。

技术总结
本发明公开了一种放电加工装置，包含一载台以及一放电加工(EDM)单元。载台系设有一治具，治具包含一承载板用以承载一待加工物，待加工物系定义有加工目标区。其中，放电加工(EDM)单元系经由一放电电极以一非均匀电场分布施加一放电能量予待加工物之加工目标区，借以使得电场集中于行进方向上。此外，承载板具有黏胶层可黏固待加工物，可避免待加工物在放电加工程序过程中所产生的抖动现象，还能避免放电加工程序结束前产生毛边现象，且使其加工目标区例如位于承载板之上方，可避免治具妨碍待加工物进行放电加工程序。待加工物进行放电加工程序。待加工物进行放电加工程序。


技术研发人员：寇崇善 叶文勇
受保护的技术使用者：日扬科技股份有限公司
技术研发日：2022.05.11
技术公布日：2022/11/15