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低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法

2022-11-13 15:05:06 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,包括:在线路基板的内层线路(2)表面真空压合第一abf层(3);对所述第一abf层(3)进行烘烤,使所述第一abf层(3)的固化度高于50%;在烘烤后的第一abf层(3)上制造第一外层线路(5);重复上述三个步骤,得到多层印刷线路板;在所述多层印刷线路板表面依次真空压合第二abf层和铜箔(6);将压合后的第二abf层置于烘箱中烘烤以完成预固化,使所述第二abf层的固化度高于50%;对预固化后的第二abf层进行真空加温加压,使所述第一abf层(3)和第二abf层完全固化,得到完全固化后的多层印刷线路板。2.根据权利要求1所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述在线路板的内层线路(2)表面真空压合第一abf层(3)之前,还包括:对所述内层线路(2)表面进行粗化处理。3.根据权利要求1所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述在烘烤后的第一abf层(3)上制造第一外层线路(5),包括:对所述烘烤后的第一abf层(3)进行激光钻孔,使第一abf层(3)中形成与所述内层线路(2)连通的第一盲孔(4);在所述第一abf层(3)表面和所述第一盲孔(4)中形成所述第一外层线路(5)。4.根据权利要求1所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述在烘烤后的第一abf层(3)上制造第一外层线路(5)之后,还包括:在130℃下烘烤30min,以去除水汽。5.根据权利要求1所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述多层印刷线路板中的最外层第一abf层(3)的固化度为50%-80%。6.根据权利要求1所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述对预固化后的第二abf层进行真空加温加压,使所述第一abf层(3)和第二abf层完全固化,具体包括:将预固化后的第二abf层置于真空条件,在层压机的镜面隔离钢板夹持下,通过加温和加压,使所述第一abf层(3)和第二abf层完全固化。7.根据权利要求1所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述得到完全固化后的多层印刷线路板之后,还包括:将所述完全固化后的多层印刷线路板表面的铜箔(6)减薄;去除所述铜箔(6),在完全固化后的第二abf层上制造第二外层线路(11),得到低翘曲印刷线路板。8.根据权利要求7所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述减薄后的铜箔(6)厚度小于3μm。9.根据权利要求7所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述去除所述铜箔(6),在完全固化后的第二abf层上制造第二外层线路(11),具体包括:对所述第二abf层和铜箔(6)进行激光钻孔,使第二abf层和铜箔(6)中形成与所述第一外层线路(5)连通的第二盲孔(7);
去除激光钻孔残留胶渣;去除表面的铜箔(6);在所述第二abf层和所述第二盲孔(7)中化学镀铜,形成电镀种子层(8);在所述电镀种子层(8)上光刻形成图形电镀掩膜(9);在所述电镀种子层(8)中未被所述图形电镀掩膜(9)覆盖的区域电镀形成电路图形(10)并填充所述第二盲孔(7);去除所述图形电镀掩膜(9);去除所述图形电镀掩膜(9)覆盖的所述电镀种子层(8),形成所述第二外层线路(11)。10.根据权利要求7所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述得到低翘曲印刷线路板之后,还包括:在所述低翘曲印刷线路板的最外层制造阻焊层(12)。11.根据权利要求10所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述制造阻焊层(12)之后,还包括:在所述低翘曲印刷线路板的最外层未被所述阻焊层(12)覆盖的区域涂覆表面涂敷层(13)。12.根据权利要求11所述的低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,其特征在于,所述涂覆表面涂敷层(13)之后,还包括:在所述表面涂敷层(13)上制作焊球(14),再将所述焊球(14)压平。

技术总结
本发明提供一种低翘曲高密度多层印刷线路板制造方法,涉及封装基板制造技术领域。该方法包括:在线路基板的内层线路表面真空压合第一ABF层;对第一ABF层进行烘烤,使第一ABF层的固化度高于50%;在烘烤后的第一ABF层上制造第一外层线路;重复上述三个步骤,得到多层印刷线路板;在多层印刷线路板表面依次真空压合第二ABF层和铜箔;将压合后的第二ABF层置于烘箱中烘烤以完成预固化,使第二ABF层的固化度高于50%;对预固化后的第二ABF层进行真空加温加压,使第一ABF层和第二ABF层完全固化,得到完全固化后的多层印刷线路板。本发明可降低基板翘曲和不需要除气孔,在高密度封装基板的设计中具有极其重要的作用。的设计中具有极其重要的作用。的设计中具有极其重要的作用。


技术研发人员:于中尧
受保护的技术使用者:中国科学院微电子研究所
技术研发日:2022.08.24
技术公布日:2022/11/11
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