闪烁体面板和闪烁体面板的制造方法与流程

1.本发明涉及闪烁体面板和闪烁体面板的制造方法。


背景技术：

2.一直以来，使用底片的放射线影像被广泛用于医疗现场。但是，使用底片的放射线影像是模拟影像信息。因此，近年来开发出平板放射线检测器(flat panel detector：以下称为“fpd”)等的数字方式放射线检测器。fpd为了将放射线转换成可见光，而使用闪烁体面板。闪烁体面板含有放射线荧光体。对应于所照射的放射线，放射线荧光体会发出可见光。所发出的光通过tft(thin film transistor)或ccd(charge-coupled device)转换为电讯号，放射线的信息被转换成数字影像信息。但是，在闪烁体面板中，有由放射线荧光体所发出的光在含有荧光体的层(荧光体层)内散射，所得的影像的清晰度降低的课题。
3.因此，为了减小所发出的光的散射的影响，提出了在被间隔壁所区隔的空间内填充荧光体的方法。作为间隔壁的材料，提出了由玻璃(专利文献1)或树脂(专利文献2)而成的。由于从荧光体所出来的光的散射被间隔壁所抑制，所以可得到高清晰度的x射线影像。
4.现有技术文献
5.专利文献
6.专利文献1：日本特开2019-168348号公报
7.专利文献2：日本特开2004-340737号公报
8.专利文献3：日本特开2019-190870号公报
9.非专利文献
10.非专利文献1：j.h.daniel著「fabrication of high aspect－ratio polymer micros tructures forlarge－area electronic portal x－ray imagers」elsevier，2007年6月28日在线公开，p.185-193


技术实现要素：

11.发明要解决的课题
12.然而，这些方法，与不具有间隔壁的闪烁体面板比较，荧光体的量会减少相当于间隔壁体积的量。此外，光会被间隔壁所部分地吸收。由于这些原因，荧光体的发光量降低，虽然x射线影像的清晰度提高，但有影像的亮度降低的问题。
13.此外，非专利文献1所述的具有仅用环氧树脂的间隔壁的闪烁体面板，系力学强度不充分，在闪烁体面板的制程中，有在间隔壁发生断裂或缺损的课题。
14.因此，本发明鉴于如此的以往课题而完成，目的为使具有间隔壁的方式的闪烁体面板的力学强度充分，同时使亮度提高。
15.用以解决课题的手段
16.即，本发明为一种闪烁体面板，其具备基板、形成于前述基板上的间隔壁、以及被前述间隔壁所区隔的具有荧光体的闪烁体层的闪烁体面板，其中前述间隔壁包含选自聚酰
亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺和聚苯并唑中的一种以上的化合物(p)。
17.此外，本发明为一种闪烁体面板的制造方法，其包含：在基板上形成间隔壁，而区隔出单元室(cell)的间隔壁形成步骤；在前述间隔壁的表面形成金属反射层的反射层形成步骤；及在被前述间隔壁所区隔出的单元室内填充荧光体的填充步骤；其中，前述间隔壁具有选自聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺和聚苯并唑中的一种以上的化合物(p)以及源自环氧化合物的结构。
18.发的效果
19.根据本发明，能够使具有间隔壁的方式的闪烁体面板的间隔壁的力学强度充分，同时可使亮度提高。
附图说明
20.图1是示意地显示包含本发明的闪烁体面板的放射线检测器用构件的剖面图。
21.图2是示意地显示本发明的闪烁体面板的剖面图。
22.图3是示意地显示本发明的闪烁体面板的一例的俯视图。
具体实施方式
23.(闪烁体面板)
24.以下，使用附图来说明本发明的闪烁体面板的实施方式。另外，附图是示意性的。此外，本发明不受以下说明的实施方式所限定。
25.图1是示意地显示包含本发明的实施方式的闪烁体面板2的放射线检测器用构件1的剖面图。放射线检测器用构件1具有闪烁体面板2、输出基板3。闪烁体面板2具有基板4、间隔壁5与被间隔壁5区隔出的单元室内的荧光体层6。在间隔壁5的表面形成有金属反射层(以下也称为“第1反射层”)11，在其表面设置有保护层12。在保护层12的表面，进一步设置有第2反射层13。在荧光体层6中包含荧光体14与粘结剂树脂15。输出基板3具有基板10、形成于基板10上的输出层9、形成于输出层9上的具有光二极管的光电转换层8。在光电转换层8上，也可设置隔膜层7。闪烁体面板2的光射出面与输出基板3的光电转换层8优选为夹着隔膜层7接合或紧密接触。荧光体层6所发出的光到达光电转换层8而被光电转换、输出。以下，对各自进行说明。
26.(基板)
27.构成基板4的材料优选为具有放射线穿透性的材料。构成基板4的材料例如是各种的玻璃、高分子材料、金属等。玻璃为石英、硼硅酸玻璃、化学的强化玻璃等。高分子材料为纤维素乙酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、三乙酸酯、聚碳酸酯、碳纤维强化树脂等。金属为铝、铁、铜等。这些也可并用二种以上。在这些之中，构成基板4的材料，从放射线的穿透性、表面的平滑性的观点来看，优选为玻璃、高分子材料，更优选为高分子材料。在高分子材料之中优选聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺。
28.基板4的厚度，从闪烁体面板2的轻量化的观点来看，在玻璃基板的情况，优选为2.0mm以下，更优选为1.0mm以下。此外，基板4的厚度，在由高分子材料所构成的基板的情况，优选为3.0mm以下。
29.(间隔壁)
30.间隔壁5是为了至少形成被区隔开的空间(单元室)而设置的。因此，在闪烁体面板2中，通过使以格子状配置的光电转换组件的像素大小及间距与闪烁体面板2的单元室大小及间距一致，可使光电转换组件的各像素与闪烁体面板2的各单元室相对应。通过这样，如果使用闪烁体面板2，则得到高清晰度的影像。
31.间隔壁5包含选自聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺和聚苯并唑中的一种以上的化合物(p)(以下，也简称“化合物(p)”)。本发明的实施方式的闪烁体面板通过具备含有化合物(p)的间隔壁，而可使亮度提高。其原理主要考虑以下2点。但是，不受以下的推定原理所限定。此外，并非以下2点这两者都必须符合。
32.含有化合物(p)的间隔壁，与由玻璃等所构成的间隔壁相比，可成为微细且高宽比(aspect ratio)高的图案形状。因此，可使闪烁体层内的荧光体的填充量增加，可使亮度提高。
33.此外，具有化合物(p)的间隔壁的表面平滑性优异。推测这是因为化合物(p)的耐热性、力学特性及耐化学药品性优异，在后述的间隔壁的制造步骤及其它闪烁体面板的制造步骤中不易受到来自外部的化学及机械损伤，不易发生伴随该损伤的间隔壁的变形或断裂、缺损。另外，如果间隔壁的表面平滑性优异，则可提高间隔壁表面的光的反射率。或者，在间隔壁表面形成反射层时，可形成平滑性高的反射层。基于以上原因，荧光体的发光的取出效率提高，可使亮度提高。
34.在化合物(p)之中，从耐热性、耐化学药品性及力学强度的观点来看，优选为聚酰亚胺。
35.间隔壁的表面平滑性可通过既有的表面粗糙度计测方法进行评价。在表面粗糙度计测方法中，可列举出触针式的、光干涉的、激光显微镜的，但要评估像间隔壁的侧面那样错综复杂的构造的表面粗糙度，优选使用激光显微镜的方法。作为表面粗糙度的评价指标，优选使用将测定表面形状后的曲线的各微小部分所成的倾斜度(倾斜角)予以算术平均而得的算术平均倾斜角。算术平均倾斜角的值愈小，表面形状愈平滑。
36.在制作使用化合物(p)的感光性树脂组合物时，对于感光性材料的成分没有特别的限定。举出一例，可列举出在化合物(p)中添加有多官能丙烯酸单体与光自由基聚合引发剂的光自由基聚合性负型感光性树脂组合物、于化合物(p)中添加有环氧化合物与光阳离子性聚合引发剂的光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物、于化合物(p)中添加有萘醌系感光剂的光可溶化正型感光性树脂组合物等。在这些之中，尤其是含有环氧化合物的光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物，由于能形成具有高高宽比的间隔壁而优选。
37.化合物(p)优选为具有由选自下述通式(1)～(2)所示的结构中的至少1种重复单元结构的化合物。
[0038][0039]
通式(1)～(2)中，x1表示2～8价的有机基，x2表示4～8价的有机基，y1及y2各自独立地表示2～6价的有机基，r1表示氢原子或碳原子数1～20的烃基；q为0～2的整数，r、s、t及u各自独立为0～4的整数。
[0040]
y1及y2表示源自二胺的有机基。y1及y2优选含有烃基，更优选含有芳香族烃基或脂环式烃基。由于含有芳香族烃基或脂环式烃基，树脂的耐热性更加提高，所以即使于后述的闪烁体面板的制造步骤中，也能维持间隔壁的形状或平滑性。y1及y2所含有的烃基的碳原子数优选为5～40。
[0041]
y1及y2优选为具有源自酚性羟基的结构的二胺残基。含有具有源自酚性羟基的结构的二胺残基、也即含有化合物(p)的感光性树脂组合物，由于含有具有酚性羟基的二胺残基，而得到树脂在碱显影液中的适度溶解性，所以得到曝光部与未曝光部的高对比度，可形成所希望的图案。所谓源自酚性羟基的结构，具体而言，是指含有芳香环的醚基或氨基甲酸酯基，通过酚性羟基与环氧或氧杂环丁烷等的环状醚化合物、异氰酸酯化合物等反应而形成。
[0042]
作为具有酚性羟基的二胺的具体例，例如可列举出双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷、双(3-氨基-4-羟基苯基)砜、双(3-氨基-4-羟基苯基)丙烷、双(3-氨基-4-羟基苯基)甲烷、双(3-氨基-4-羟基苯基)醚、双(3-氨基-4-羟基)联苯、2,2
’‑
双三氟甲基-5,5
’‑
二羟基-4,4
’‑
二氨基联苯、双(3-氨基-4-羟基苯基)芴、2,2
’‑
双(三氟甲基)-5,5
’‑
二羟基联苯胺等的芳香族二胺，或它们的芳香族环或烃的氢原子的一部分被碳原子数1～10的烷基或氟烷基、卤素原子等所取代的化合物，或具有下述所示的结构的二胺等，但不受这些限定。此外，也可含有这些中2种以上的二胺成分。
[0043]
[0044][0045]
化合物(p)可包含这些以外的芳香族二胺残基。作为芳香族二胺的具体例，可列举出3,4
’‑
二氨基二苯基醚、4,4
’‑
二氨基二苯基醚、3,4
’‑
二氨基二苯基甲烷、4,4
’‑
二氨基二苯基甲烷、3,4
’‑
二氨基二苯基砜、4,4
’‑
二氨基二苯基砜、3,4
’‑
二氨基二苯基硫醚、4,4
’‑
二氨基二苯基硫醚、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、石油醚(benzine)、间苯二胺、对苯二胺、1,5-萘二胺、2,6-萘二胺、双(4-氨基苯氧基苯基)砜、双(3-氨基苯氧基苯基)砜、双(4-氨基苯氧基)联苯、双{4-(4-氨基苯氧基)苯基}醚、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、2,2
’‑
二甲基-4,4
’‑
二氨基联苯、2,2
’‑
二乙基-4,4
’‑
二氨基联苯、3,3
’‑
二甲基-4,4
’‑
二氨基联苯、3,3
’‑
二乙基-4,4
’‑
二氨基联苯、2,2’,3,3
’‑
四甲基-4,4
’‑
二氨基联苯、3,3’,4,4
’‑
四甲基-4,4
’‑
二氨基联苯、2,2
’‑
双(三氟甲基)-4,4
’‑
二氨基联苯等的芳香族二胺，或它们的芳香族环或烃的氢原子的一部分被碳原子数1～10的烷基或氟烷基、卤素原子等所取代了的化合物等，但不限于这些。此外，也可含有这些中2种以上的二胺成分而使用。
[0046]
x1及x2表示羧酸残基。x1及x2优选含有烃基，更优选含有芳香族烃基或脂环式烃
基。由于含有芳香族烃基或脂环式烃基，树脂的耐热性更加提高，所以即使于后述的闪烁体面板的制造步骤中，也可维持间隔壁的形状或平滑性。
[0047]
再者，从相对于后述间隔壁形成时所使用的波长，树脂的颜色为透明，厚膜且微细的图案加工成为可能的观点来看，更优选为含有脂环式烃基。
[0048]
x1及x2含有的烃基的碳原子数优选为5～40。作为含有烃基的羧酸，更优选列举出含有碳及氢作为必要的原子，可具有选自氮、氧及卤素中的一种以上的原子的羧酸。
[0049]
作为含有烃基的羧酸的具体例，例如可列举出对苯二甲酸、间苯二甲酸、二苯基醚二羧酸、双(羧基苯基)六氟丙烷、二羧酸基联苯、二苯基甲酮二羧酸、三苯基二羧酸、5-[2,2,2-三氟-1-羟基-1-(三氟甲基)乙基]-1,3-苯二羧酸、偏苯三酸、均苯三酸、二苯基醚三羧酸、三羧酸基联苯、苯均四酸、3,3’,4,4
’‑
联苯四羧酸、2,3,3’,4
’‑
联苯四羧酸、2,2’,3,3
’‑
联苯四羧酸、3,3’,4,4
’‑
二苯基甲酮四羧酸、2,2’,3,3
’‑
二苯基甲酮四羧酸、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷、双(3,4-二羧基苯基)甲烷、双(2,3-二羧基苯基)甲烷、双(3,4-二羧基苯基)醚、1,2,5,6-萘四羧酸、2,3,6,7-萘四羧酸、2,3,5,6-吡啶四羧酸、3,4,9,10-苝四羧酸、4,4
’‑
(六氟异丙叉基)二邻苯二甲酸、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、乙二醇双(偏苯三甲酸酐)酯、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、1,3,3a,4,5,9b-六氢-5(四氢-2,5-二氧杂-3-呋喃基)萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐及如下述所示的结构的芳香族四羧酸，或丁烷四羧酸、1,2,3,4-环戊烷四羧酸等的脂肪族四羧酸等，但不限于这些。此外，羧酸成分也可含有这些2种中以上的羧酸成分而使用。
[0050][0051]
此外，上述通式(1)中，r1表示氢原子或碳原子数1～20的烃基。作为烃基，可列举出脂肪族烃基、芳香族烃基。脂肪族烃基可为直链或具有分支，也可一部分或全体为环状。芳香族烃基的氢的至少一部分可被脂肪族烃所取代。
[0052]
通式(1)～(2)所示的结构的摩尔比可通过根据聚合时使用的单体的摩尔比来计算的方法，或使用核磁共振装置(nmr)检测所得的树脂、树脂组合物、固化膜中的聚酰胺结构或酰亚胺前体结构、酰亚胺结构、唑结构的波峰的方法而确认。
[0053]
化合物(p)的分子链末端优选为羧酸残基。由于化合物(p)的分子链末端为源自羧酸残基的结构，即使是在成为含有化合物(p)的阳离子聚合性树脂组合物时，与分子链末端
为源自二胺残基的结构比较，阳离子聚合也容易进行，容易形成所希望形状的间隔壁。结果，可使荧光体的填充量更增加，可使亮度更提高。如此的化合物(p)可通过相对于聚合时使用的二胺，增加酸酐的含量而获得。作为得到分子链末端为羧酸残基的化合物(p)的另一方法，一般也可通过使用从作为末端封闭剂使用的化合物之中选择的特定的化合物，具体而言酸酐、单羧酸、单酰氯化合物、单活性酯化合物而获得。
[0054]
此外，通过具有羟基、羧基、磺酸基、硫醇基、乙烯基、乙炔基或烯丙基的羧酸或酸酐的末端封闭剂来封闭化合物(p)的分子链末端，可将化合物(p)在碱水溶液中的溶解速度或所得的固化膜的力学特性容易地调整至优选的范围。此外，也可使多种末端封闭剂反应，而导入多个不同的末端基。
[0055]
作为末端封闭剂的酸酐、单羧酸、单酰氯化合物、单活性酯化合物，优选为邻苯二甲酸酐、马来酸酐、纳迪克酸酐、环己烷二羧酸酐、3-羟基邻苯二甲酸酐等的酸酐、3-羧基苯酚、4-羧基苯酚、3-羧基硫酚、4-羧基硫酚、1-羟基-7-羧基萘、1-羟基-6-羧基萘、1-羟基-5-羧基萘、1-巯基-7-羧基萘、1-巯基-6-羧基萘、1-巯基-5-羧基萘、3-羧基苯磺酸、4-羧基苯磺酸等的单羧酸类及它们的羧基进行酰氯化的单酰氯化合物、对苯二甲酸、邻苯二甲酸、马来酸、环己烷二羧酸、1,5-二羧基萘、1,6-二羧基萘、1,7-二羧基萘、2,6-二羧基萘等的二羧酸类的仅一个羧基进行酰氯化的单酰氯化合物，通过单酰氯化合物与n-羟基苯并三唑或咪唑、n-羟基-5-降冰片烯-2,3-二羧基酰亚胺之间的反应而得的活性酯化合物等。也可使用它们中的2种以上。
[0056]
导入有这些末端封闭剂的化合物(p)，成为分子链末端为羧酸残基的化合物。而且，可用于得到分子链末端为羧酸残基的化合物(p)的末端封闭剂，可通过以下的方法容易地检测出。例如，将导入有末端封闭剂的化合物(p)溶解于酸性溶液中，分解成作为构成单元的胺成分与酸酐成分，通过气相色谱法(gc)或nmr分析它，可容易检测出本发明所使用的末端封闭剂。除此之外，通过直接以热分解气相色谱(pgc)或红外光谱及
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c-nmr光谱来测定导入有末端封闭剂的树脂成分，也可容易地检测出。
[0057]
关于化合物(p)的合成方法，虽然以聚酰亚胺、聚苯并唑为例，可以通过以下的方法来合成，但不受此所限定，聚酰亚胺结构可以通过将二胺的一部分取代成作为末端封闭剂的伯单胺，或将四羧酸二酐取代成作为末端封闭剂的二羧酸酐，以公知的方法合成。例如，利用在低温下使四羧酸二酐、二胺化合物与单胺反应的方法，在低温下使四羧酸二酐、二羧酸酐与二胺化合物反应的方法，由四羧酸二酐与醇得到二酯，然后在二胺、单胺与缩合剂的存在下反应的方法等方法，而得到聚酰亚胺前体。然后，可利用公知的酰亚胺化反应法，合成聚酰亚胺。
[0058]
聚苯并唑结构可以通过使双氨基苯酚化合物与二羧酸进行缩合反应而合成。例如，利用使如二环己基碳二亚胺(dcc)那样的脱水缩合剂与酸反应，在其中添加双氨基苯酚化合物的方法，在加有吡啶等叔胺的双氨基苯酚化合物的溶液中滴加二羧酰氯(dicarboxylic acid dichloride)的溶液的方法等，而得到聚苯并唑前体。然后，可利用公知的缩合反应法来合成聚苯并唑。化合物(p)优选为在以上述方法使其聚合后，投入大量的水或甲醇及水的混合液等中，使其沉淀，过滤分离干燥，进行分离纯化。干燥温度优选为40～100℃，更优选为50～80℃。通过此操作，去除未反应的单体、或二聚物或三聚物
chemtex(株)制)等。
[0070]
从低温下的反应性的观点来看，优选为脂环式环氧化合物。作为脂环式环氧化合物，例如可列举出celloxide 2000、celloxide 2021p、celloxide 2081、celloxide 8081、epolead gt401(商品名，均为daicel(株)制)等。
[0071]
这些环氧化合物可单独使用，或可并用2种以上。
[0072]
环氧化合物的固化优选通过阳离子聚合进行。由于将环氧基的固化设为阳离子聚合，不易发生因加工时的氧阻碍所造成的固化不足，变得容易形成后述所希望形状的间隔壁。
[0073]
感光性树脂组合物中的环氧化合物的含量，从将化合物(p)当作100质量份时，显示充分的阳离子固化性，使图案加工性提高的观点来看，优选为30质量份以上，更优选为50质量份以上。另一方面，从不使化合物(p)的特性降低的观点来看，优选为200质量份以下，更优选为100质量份以下。
[0074]
此外，将间隔壁中的化合物(p)当作1mol时，源自环氧化合物的结构的含量优选为相当于3mol以上25mol以下。作为计算间隔壁中的环氧化合物相对于化合物(p)的含量的方法，可使用公知的方法，例如可通过使用核磁共振装置(nmr)，从间隔壁中源自化合物(p)的结构的波峰与源自环氧化合物的结构的波峰的积分值来计算的方法而确认。
[0075]
(其它成分)
[0076]
光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物中含有的光阳离子聚合引发剂，系因光而直接或间接地产生酸，发生阳离子聚合者，可无特别限定地使用公知的化合物。具体而言，例如可列举出芳香族碘配位化合物盐与芳香族锍配位化合物盐等。作为芳香族碘配位化合物盐的具体例，可列举出二苯基碘四(五氟苯基)硼酸盐、二苯基碘六氟磷酸盐、二苯基碘六氟锑酸盐、二(4-壬基苯基)碘六氟磷酸盐等。这些光阳离子聚合引发剂可单独使用，或也可并用2种以上。
[0077]
将环氧化合物当作100质量份时，光阳离子聚合引发剂的含量优选为0.3质量份以上，更优选为0.5质量份以上。通过这样，环氧化合物显示充分的固化性，可使图案加工性提高。另一方面，从感光性树脂组合物的保存稳定性提高的观点来看，优选为18重量份以下，更优选为15重量份以下。
[0078]
在光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物中，可使用增感剂，其用于吸收紫外线，将所吸收的光能量给予光产酸剂。作为增感剂，例如优选为在9位与10位具有烷氧基的蒽化合物(9,10-二烷氧基-蒽衍生物)。作为烷氧基，例如可列举出甲氧基、乙氧基、丙氧基等的c1～c4的烷氧基。9,10-二烷氧基-蒽衍生物可进一步具有取代基。作为取代基，例如可列举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等的卤素原子、甲基、乙基、丙基等的c1～c4的烷基或磺酸烷基酯基、羧酸烷基酯基等。作为磺酸烷基酯基或羧酸烷基酯中的烷基，例如可列举出甲基、乙基、丙基等的c1～c4的烷基。这些取代基的取代位置优选为2位。
[0079]
在光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物中，可含有热交联剂，优选为具有烷氧基甲基、羟甲基的化合物。
[0080]
作为具有烷氧基甲基或羟甲基的例，例如可列举出dml－pc、dml－pep、dml－oc、dml－oep、dml－34x、dml－ptbp、dml－pchp、dml－ochp、dml－pfp、dml－psbp、dml－pop、
dml－mboc、dml－mbpc、dml－mtrispc、dml－bisoc－z、dml－bisochp－z、dml－bpc、dml－bisoc－p、dmom－pc、dmom－ptbp、dmom－mbpc、triml－p、triml－35xl、tml－hq、tml－bp、tml－pp－bpf、tml－bpe、tml－bpa、tml－bpaf、tml－bpap、tmom－bp、tmom－bpe、tmom－bpa、tmom－bpaf、tmom－bpap、hml－tpphba、hml－tphap、hmom－tpphba、hmom－tphap(以上，商品名，本州化学工业(株)制)、nikalac(注册商标)mx－290、nikalac mx－280、nikalac mw－100lm、nikalac mx－750lm(以上，商品名，三和
ケミカル
(株)制)。
[0081]
在光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物中，可进一步含有硅烷化合物。通过含有硅烷化合物，而耐热性树脂被膜的密着性升高。作为硅烷化合物的具体例，可列举出n-苯基氨基乙基三甲氧基硅烷、n-苯基氨基乙基三乙氧基硅烷、n-苯基氨基丙基三甲氧基硅烷、n-苯基氨基丙基三乙氧基硅烷、n-苯基氨基丁基三甲氧基硅烷、n-苯基氨基丁基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)基丙基三甲氧基硅烷、3-(丙烯酰氧)基丙基三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)基丙基甲基二乙氧基硅烷等。
[0082]
此外，在光阳离子聚合性负型感光性树脂组合物中，视需要以提高与基材的涂布性为目的，可含有表面活性剂、乳酸乙酯或丙二醇单甲基醚乙酸酯等的酯类、乙醇等的醇类、环己酮、甲基异丁基酮等的酮类、四氢呋喃、二烷等的醚类。此外，以热膨胀系数的抑制或高介电常数化、低介电常数化等为目的，可含有二氧化硅、二氧化钛等的无机粒子或聚酰亚胺的粉末等。
[0083]
感光性树脂组合物优选为以含有有机溶剂的溶液(清漆)的形式使用，作为有机溶剂，具体而言可列举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇二丁基醚等的醚类、乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙酸丙基酯、乙酸丁基酯、乙酸异丁基酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、乙酰乙酸乙酯等的乙酸酯类、丙酮、甲基乙基酮、乙酰丙酮、甲基丙基酮、甲基丁基酮、甲基异丁基酮、环戊酮、2-庚酮等酮类、丁醇、异丁醇、戊醇、4-甲基-2-戊醇、3-甲基-2-丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二丙酮醇等的醇类、甲苯、二甲苯等的芳香族烃类，以及n-甲基-2-吡咯烷酮、n-环己基-2-吡咯烷酮、n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、二甲亚砜、γ-丁内酯等。
[0084]
此外，感光性树脂组合物的清漆可在涂布之前，使用滤纸或过滤器进行过滤。过滤方法没有特别的限定，但优选为使用保留粒径0.4μm～10μm的过滤器，通过加压过滤进行过滤的方法。
[0085]
感光性树脂组合物的清漆的粘度，可通过化合物(p)的分子量或溶液浓度而适宜调整，优选为2000mpa
·
s以上，更优选为5000mpa
·
s以上。此外，粘度优选为200000mpa
·
s以下，更优选为100000mpa
·
s以下。例如，以旋转涂布法涂布于基材时，粘度优选为2000～5000mpa
·
s，以刮板涂布法或模涂法涂布于基材时，优选为10000～50000mpa
·
s。
[0086]
(间隔壁的形状)
[0087]
图2是摘出图1中的闪烁体面板2的部分的示意剖面图。为了使以下的说明容易理解，省略第1反射层11。间隔壁5的高度l1优选为50μm以上，更优选为70μm以上。此外，间隔壁5的高度优选为3000μm以下，更优选为1000μm以下。由于l1为3000μm以下，不易发生荧光体
14本身所造成的发光光线的吸收，闪烁体面板2亮度更提高。另一方面，由于l1为50μm以上，闪烁体面板2可填充的荧光体14的量变成适当，亮度更提高。
[0088]
相邻间隔壁5的间隔l2优选为30μm以上，更优选为40μm以上。此外，间隔壁5的间隔l2优选为3000μm以下，更优选为2000μm以下。由于l2为30μm以上，闪烁体面板2容易将荧光体13填充到单元室内。另一方面，由于l2为3000μm以下，闪烁体面板2得到清晰度更优异的影像。
[0089]
间隔壁5的底部宽度l3优选为2μm以上，更优选为3μm以上。此外，底部宽度l3优选为150μm以下，更优选为80μm以下，特别优选为50μm以下。由于l3为2μm以上，闪烁体面板2不易发生图案的缺陷。另一方面，由于l3为150μm以下，闪烁体面板2可填充的荧光体13的量变成适当，亮度不易降低。
[0090]
间隔壁5的顶部宽度l4优选为2μm以上，更优选为3μm以上。此外，顶部宽度l4优选为80μm以下，更优选为50μm以下，特别优选为20μm以下。由于l4为2μm以上，闪烁体面板2的间隔壁5的强度变成适当，图案的缺陷不易发生。另一方面，由于l4为80μm以下，闪烁体面板2的取出荧光体14发出的光线的区域变成适当，亮度更提高。
[0091]
间隔壁5的高度l1相对于间隔壁5的底部宽度l3的高宽比(l1/l3)优选为5.0以上，更优选为10.0以上，特别优选为12.0以上。此外，高宽比(l1/l3)优选为100.0以下，更优选为50.0以下。由于高宽比(l1/l3)为5.0以上，闪烁体面板2上的荧光体14的填充量容易变成适当，x射线的吸收效率不易降低。此外，由于高宽比(l1/l3)为100.0以下，闪烁体面板2的间隔壁强度容易变成适当。
[0092]
间隔壁5的高度l1相对于间隔壁5的间隔l2的高宽比(l1/l2)优选为0.5以上，更优选为1.0以上。此外，高宽比(l1/l2)优选为20.0以下，更优选为10.0以下。由于高宽比(l1/l2)为0.5以上，闪烁体面板2的x射线的吸收效率不易降低。此外，由于高宽比(l1/l2)为20.0以下，闪烁体面板2的光线的取出效率不易降低，亮度更提高。如图3所示，间隔壁5的间隔l2在x轴方向的长度(l2(x))与y轴方向的长度(l2(y))不同时，不限于前述那样。以成为l2(x)＞l2(y)的方式规定x轴方向及y轴方向时，间隔壁5的高度l1的高宽比(l1/l2(x))优选为0.05以上，更优选为0.2以上。此外，高宽比(l1/l2(x))优选为10.0以下，更优选为5.0以下。
[0093]
间隔壁5的顶部宽度l4与底部宽度l3的比率(l4/l3)优选为0.5以上，更优选为0.7以上。由于是0.5以上，可一边保持间隔壁的强度，一边增加荧光体量。
[0094]
间隔壁5的高度l1及相邻间隔壁5彼此的间隔l2，可通过切出垂直于基板的剖面，或通过截面抛光机等的研磨装置使该剖面露出，以扫描式电子显微镜观察剖面而测定。此处，将间隔壁5与基板的接触部中的间隔壁5的宽度当作l3。此外，将间隔壁5的最顶部的宽度当作l4。
[0095]
(第1反射层)
[0096]
本发明的实施方式的闪烁体面板，间隔壁5优选为在其表面具有含有金属的反射层(第1反射层)11。第1反射层11只要设于间隔壁5的至少一部分即可。第1反射层11即使为薄膜也具有高的反射率。因此，通过设置薄膜的第1反射层11，荧光体13的填充量不易降低，闪烁体面板2的亮度更提高。
[0097]
构成第1反射层11的金属没有特别的限定。举出一例，第1反射层11优选含有银或
铝等反射率高的金属作为主成分，更优选含有银作为主成分。第1反射层11也可为合金。构成第1反射层11的金属特优选为含有钯与铜的银合金。如此的银合金所构成的第1反射层11，大气中的耐变色性优异。另外，在本发明的实施方式中，所谓“作为主成分含有”，是指含有特定成分50～100质量％。
[0098]
第1反射层11的厚度没有特别的限定。举出一例，第1反射层11的厚度优选为10nm以上，更优选为50nm以上。此外，第1反射层11的厚度优选为1000nm以下，更优选为500nm以下。由于第1反射层11的厚度为10nm以上，闪烁体面板2得到充分的光的遮蔽性，得到清晰度更提高的影像。由于第1反射层11的厚度为1000nm以下，第1反射层11的表面的凹凸不易变大，反射率不易降低。
[0099]
(保护层)
[0100]
本发明的实施方式的闪烁体面板，优选为在第1反射层11的表面上具有保护层12。第1反射层11，即使是使用大气中的耐变色性不足的合金等时，通过设置保护层12，可减少变色，抑制因第1反射层11与荧光体层6的反应所造成的第1反射层11的反射率降低，亮度更提高。保护层12可进一步设置于间隔壁5与第1反射层11之间。通过在间隔壁5与第1反射层11之间设置保护层12，而抑制因间隔壁5与第1反射层11的反应所造成的第1反射层11的反射率降低，亮度更提高。
[0101]
作为保护层12，无机保护层与有机保护层均为可适用。作为保护层12，也可层叠并用无机保护层与有机保护层。
[0102]
(无机保护层)
[0103]
无机保护层由于水蒸气的穿透性低而适合作为保护层12。无机保护层可通过溅镀法等公知的手法形成。无机保护层的材料没有特别的限定。作为无机保护层的材料，例如氧化硅、氧化铟锡、氧化镓锌等的氧化物、氮化硅等的氮化物、氟化镁等的氟化物等。在这些之中，作为无机保护层的材料，从水蒸气穿透性低，且于无机保护层形成中银的反射率不易降低来看，优选使用氧化硅或氮化硅。
[0104]
无机保护层的厚度没有特别的限定。举出一例，无机保护层的厚度优选为2nm以上，更优选为5nm以上。此外，无机保护层的厚度优选为300nm以下，更优选为100nm以下。由于厚度为2nm以上，闪烁体面板2可更增大高温
·
高湿环境下的亮度降低的抑制效果。由于厚度为300nm以下，可抑制无机保护层所致的着色，可使亮度更提高。无机保护层的厚度可通过与后述有机保护层的厚度同样的方法进行测定。
[0105]
(有机保护层)
[0106]
有机保护层优选为化学耐久性优异的高分子化合物，例如优选含有聚硅氧烷或非晶性氟树脂作为主成分。
[0107]
在闪烁体面板的实施方式中，聚硅氧烷包含(含有通式(3)所示的有机硅烷的)有机硅烷的水解
·
部分缩合物。
[0108][0109]
上述通式(3)中，r2表示具有环氧基及酸酐基中至少任一者的1价有机基；r3及r4各自表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数2～6的酰基或碳原子数6～16的芳基；m表示1～3的整数；n表示0～2的整数；m n为1～3；m为2以上时，多个r2彼此可相同或不同。此外，n为2时，多个r3彼此可相同或不同。另外，m n为2以下时，多个r4彼此可相同或不同。
[0110]
非晶性氟树脂由于溶剂溶解性，所以可通过溶液涂布或喷雾涂布等公知的手法容易地形成保护层12。此处，所谓“氟树脂为非晶性”，就是指通过粉末x射线绕射法测定含氟树脂时，实质上没有观察到因结晶构造所产生的波峰，仅观察到宽广的光晕的情况。
[0111]
非晶性氟树脂优选具有通式(4)所示的结构作为重复单元、或具有(包含通式(4)的结构的)互相不同的2种结构的共聚物。
[0112][0113]
非晶性氟树脂为共聚物时，可为交替共聚物、嵌段共聚物、无规共聚物中的任一者。
[0114]
上述通式(4)中，x表示氧，j及k各自独立地表示0或1，p表示1以上的整数。
[0115]
上述通式(4)中，r5～r8表示氢原子、卤素、有取代基或无取代基的烷基、有取代基或无取代基的烯基、有取代基或无取代基的炔基、羟基、有取代基或无取代基的烷氧基、有取代基或无取代基的芳基、氰基、醛基、有取代基或无取代基的酯基、酰基、羧基、有取代基或无取代基的氨基、硝基，或者有取代基或无取代基的环氧基。r5～r6的至少1个优选为氟。此外，r7～r8的至少1个优选为氟。
[0116]
上述通式(4)中，j及k表示氧的个数。但是，j或k为0时，xj或xk为单键。如果j与k的至少任一者为1时，玻璃化转变温度变成适当，所以优选。
[0117]
上述通式(4)中，p表示重复数，优选为1～4，更优选为1～3。此外，t为2以上时，多个r7及r8可互相相同，也可不同。
[0118]
上述通式(4)中，烷基的碳原子数优选为1～8。烯基的碳原子数优选为1～12。烷氧基的碳原子数优选为1～10。芳基的碳原子数优选为5～15。
[0119]
有机保护层的厚度优选为0.05μm以上，更优选为0.2μm以上。此外，有机保护层的厚度优选为10μm以下，更优选为5μm以下。由于有机保护层的厚度为0.05μm以上，闪烁体面板2可更增大亮度降低的抑制效果。另外，由于有机保护层的厚度为10μm以下，闪烁体面板2可增大单元室内的体积，通过填充充分量的荧光体14，可使亮度更提高。在本发明的实施方式中，有机保护层的厚度可通过扫描型电子显微镜观察进行测定。另外，后述有机保护层形成步骤所形成的有机保护层，有在间隔壁顶部附近的侧面形成厚度较薄，在底部附近的侧面形成厚度较厚的倾向。因此，如此地在厚度上具有差距时，上述有机保护层的厚度是指间隔壁5的高度方向的中央部侧面的厚度。
[0120]
(第2反射层)
[0121]
本发明的实施方式的闪烁体面板的保护层12优选为在其表面具有第二反射层(第2反射层)13。第2反射层13只要设在保护层12的至少一部分即可。通过设置第2反射层13，荧光体层6所发出的光变得更有效率地在表面轻易射出，闪烁体面板2的亮度更提高。
[0122]
第2反射层13优选包含金属氧化物，该金属氧化物没有特别的限定。举出一例，第2反射层13优选含有氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝等折射率高的金属氧化物作为主成分，更优选含有氧化钛作为主成分。另外，在本发明的实施方式中，所谓“作为主成分含有”，是指包含特定成分50～100质量％。
[0123]
金属氧化物的折射率优选为1.6以上，更优选为1.8以上。由于折射率为1.6以上，金属氧化物与空气的折射率差变大，在第2反射层13的反射率容易提高。
[0124]
金属氧化物的形状优选为粒子状。由于为粒子状，当荧光体层中所发光的光在反射层中反射时，不易发生反射率的偏差，所发光的光更有效率地在表面轻易射出，闪烁体面板2亮度更提高。
[0125]
金属氧化物为粒子状时，其平均粒径优选为100～1000nm，更优选为150～700nm。如果金属氧化物的平均粒径为100nm以上，则因为相对于荧光体所发出的光的波长，反射率更提高，所以亮度容易提高。另一方面，如果为1000nm以下，则第2反射层中的粒子的密度变大，即使作为薄膜，也反射率更提高，因此亮度容易提高。
[0126]
此处，本发明中所谓的金属氧化物的平均粒径，是相对于粒度的累积分布而言成为50％时的粒径，可使用粒度分布测定装置(例如mt3300；日机装(株)制)进行测定。更具体而言，在充满水的试样室内投入金属氧化物，进行300秒的超声波处理后，测定粒度分布，将相对于累积分布而言成为50％时的粒径当作平均粒径。
[0127]
第2反射层13中除了金属氧化物以外，可包含高分子化合物。由于第2反射层13包含高分子化合物，在后述的荧光体层的填充步骤中，容易抑制第2反射层13从保护层12的脱离及第2反射层13中的金属氧化物粒子的脱离。
[0128]
(荧光体层)
[0129]
本发明的实施方式的闪烁体面板，在被间隔壁所区隔出的单元室内具有荧光体。
[0130]
荧光体层6吸收所入射的x射线等放射线的能量，发出波长300nm～800nm的范围的电磁波，也即发出以可见光为中心，从紫外光到红外光的范围的光。荧光体层6所发出的光在光电转换层8中进行光电转换，透过输出层9作为电讯号输出。荧光体层6优选具有荧光体
14及粘结剂树脂15。
[0131]
(荧光体)
[0132]
荧光体14没有特别的限定。例如，荧光体14可列举出硫化物系荧光体、锗酸盐系荧光体、卤化物系荧光体、硫酸钡系荧光体、磷酸铪系荧光体、钽酸盐系荧光体、钨酸盐系荧光体、稀土类硅酸盐系荧光体、稀土类酸硫化物系荧光体、稀土类磷酸盐系荧光体、稀土类氧卤化物系荧光体、碱土类金属磷酸盐系荧光体、碱土类金属氟化卤化物系荧光体。作为稀土类硅酸盐系荧光体，可列举出铈活化稀土类硅酸盐系荧光体，作为稀土类氧硫化物系荧光体，可列举出镨活化稀土类氧硫化物系荧光体、铽活化稀土类氧硫化物系荧光体、铕活化稀土类氧硫化物系荧光体，作为稀土类磷酸盐系荧光体，可列举出铽活化稀土类磷酸盐系荧光体，作为稀土类氧卤荧光体.可列举出铽活化稀土类氧卤化物系荧光体、铥活化稀土类氧卤化物系荧光体，作为碱土类金属磷酸盐系荧光体，可列举出铕活化碱土类金属磷酸盐系荧光体，作为碱土类金属氟化卤化物系荧光体，可列举出铕活化碱土类金属氟化卤化物系荧光体。荧光体14也可并用。在这些之中，从发光效率高的观点来看，荧光体14优选为由卤化物系荧光体、镨活化稀土类氧硫化物系荧光体、铽活化稀土类氧硫化物系荧光体及铕活化稀土类氧硫化物系荧光体所选出的荧光体，更优选为由镨活化稀土类氧硫化物系荧光体及铽活化稀土类氧硫化物系荧光体所选出的荧光体。
[0133]
荧光体14的平均粒径优选为0.5～50μm，更优选为3.0～40μm，特别优选为4.0～30μm。如果荧光体的平均粒径为0.5μm以上，则从放射线到可见光的转换效率更提高，可使亮度更提高。此外，可抑制荧光体的凝聚。另一方面，如果荧光体的平均粒径为50μm以下，则荧光体层表面的平滑性优异，可抑制影像上亮点的发生。
[0134]
此处，本发明中所谓的荧光体14的平均粒径，是相对于粒度的累积分布而言成为50％时的粒径，可使用粒度分布测定装置(例如mt3300；日机装(株)制)进行测定。更具体而言，在充满水的试样室内投入荧光体，进行300秒的超声波处理后，测定粒度分布，将相对于累积分布而言成为50％的粒径当作平均粒径。
[0135]
(粘结剂树脂)
[0136]
粘结剂树脂15没有特别的限定。粘结剂树脂15例如为热塑性树脂、热固化性树脂、光固化性树脂等。更具体而言，粘结剂树脂15为丙烯酸树脂、缩醛树脂、纤维素衍生物、聚硅氧烷树脂、环氧化合物、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、氨基甲酸酯树脂、尿素树脂、氯乙烯树脂、聚乙烯醇缩醛、聚对苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚苯基苯等。在这些之中，粘结剂树脂15优选含有丙烯酸树脂、环氧树脂、纤维素衍生物、环氧树脂、聚乙烯醇缩醛及聚酯树脂中的至少任一种，更优选含有这些1～3种作为主成分。通过这样，闪烁体面板2可抑制单元室内的光衰减，容易将发光充分地取出。另外，所谓以丙烯酸树脂、纤维素衍生物、环氧树脂、聚乙烯醇缩醛及聚酯树脂中任一种作为主成分，是指丙烯酸树脂、纤维素衍生物、环氧树脂、聚乙烯醇缩醛及聚酯树脂的合计量为构成树脂的材料的50～100质量％。
[0137]
粘结剂树脂15优选为与保护层12接触。此时，粘结剂树脂15只要接触保护层12的至少一部分即可。通过这样，闪烁体面板2中的荧光体14不易从单元室内脱落。另外，粘结剂树脂15如图1所示，可在单元室内几乎无空隙地填充，也可以具有空隙的方式填充。
[0138]
以上，通过本发明的实施方式的闪烁体面板2，得到高亮度、高清晰度的影像。
[0139]
(闪烁体面板的制造方法)
[0140]
本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法，含有：在基板上形成间隔壁，而区隔出单元室的间隔壁形成步骤；在前述间隔壁的表面形成金属反射层的反射层形成步骤；以及，在被前述间隔壁所区隔出的单元室内填充荧光体的填充步骤；其中，前述间隔壁含有选自聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺和聚苯并唑中的一种以上的化合物(p)以及源自环氧化合物的结构。以下，说明各步骤。另外，在以下的说明中，对于与上述闪烁体面板的实施方式中说明的事项共通的事项适宜地省略说明。
[0141]
(间隔壁形成步骤)
[0142]
间隔壁形成步骤是在基板上形成间隔壁，而区隔出单元室的步骤。在基板上形成间隔壁的方法没有特别的限定。间隔壁含有前述化合物(p)及源自环氧化合物的结构。形成间隔壁的方法可利用各种公知的方法，从形状的控制容易的观点来看，优选为光刻法。
[0143]
作为形成含有化合物(p)的间隔壁的方法，例如可通过(在基板的表面涂布含有化合物(p)的感光性树脂组合物而得到涂膜的)涂布步骤和(将涂膜曝光及显影而得到间隔壁图案的)图案形成步骤来形成。
[0144]
涂布步骤是在基板的表面上全面或部分地涂布前述感光性树脂组合物而得到涂膜的步骤。涂布感光性树脂组合物的方法，例如可列举出网版印刷法、棒涂机、辊涂机、模涂机或刮板涂布机。所得的涂膜的厚度可通过涂布次数、网版的网眼大小或感光性树脂组合物的粘度等来调整。
[0145]
接着，在经由上述方法所形成的感光性树脂组合物涂膜上，通过具有所希望图案的掩模来照射化学线，进行曝光。作为曝光所用的化学线，有紫外线、可见光线、电子束、x射线等，本发明中优选为使用汞灯的i线(365nm)、h线(405nm)、g线(436nm)。
[0146]
为了形成图案，在曝光后，以显影液去除曝光部。作为显影液，优选为氢氧化四甲基铵的水溶液、二乙醇胺、二乙基氨基乙醇、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、二乙胺、甲胺、二甲胺、乙酸二甲基氨基乙酯、二甲基氨基乙醇、甲基丙烯酸二甲基氨基乙基酯、环己胺、乙二胺、六亚甲基二胺等的显示碱性的化合物的水溶液。此外根据情况，有时可在这些碱水溶液中含有n-甲基-2-吡咯烷酮、n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、二甲基丙烯酰胺等的极性溶剂、甲醇、乙醇、异丙醇等的醇类、乳酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等的酯类、环戊酮、环己酮、异丁基酮、甲基异丁基酮等酮类等中的单独一种或数种的组合。
[0147]
显影，可通过将上述的显影液喷洒到被膜面，在涂膜面覆盖显影液，在显影液中浸渍，或浸渍及施加超声波等的方法而进行。显影时间或显影步骤的显影液的温度等显影条件，只要能去除曝光部而形成图案的条件即可。
[0148]
显影后优选为以水进行冲洗处理。在此，也可将乙醇、异丙醇等的醇类、乳酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等的酯类等加到水中，进行冲洗处理。
[0149]
此外，视需要有时可在显影前进行烘烤处理。通过这样，显影后的图案的分辨率提高，有显影条件的容许度增大的情况。此烘烤处理温度优选为50～180℃的范围，特优选为60～120℃的范围。时间优选为5秒～数小时。
[0150]
图案形成后，在感光性树脂组合物的涂膜中，有未反应的阳离子聚合性化合物或阳离子聚合引发剂残存。因此，在后述的热交联反应时，这些会热分解而产生气体。为了避
免它，优选对图案形成后的树脂组合物被膜的整个面，照射上述曝光光线，预先从阳离子聚合引发剂产生酸。通过如此地进行，在热交联反应之际，未反应的阳离子聚合性化合物的反应进行，可抑制源自热分解的气体的发生。
[0151]
显影后，施加120℃～300℃的温度而使热交联反应进行。通过交联，可提高耐热性及耐化学药品性。此加热处理的方法可选择：选择温度，阶段地升温的方法，或选择某温度范围，边连续地升温边实施5分钟～5小时的方法。
[0152]
在本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法中，也可使用间隔壁形成时的基材作为闪烁体面板的基板，也可在支撑体上形成间隔壁，从支撑体剥离间隔壁后，将经剥离的间隔壁载置于基板上而使用。从基材剥离间隔壁的方法，可使用在基材与间隔壁之间设置剥离辅助层的手法等公知的手法。
[0153]
在本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法中，在间隔壁形成时可将基板固定于支撑体。通过将基板固定于支撑体，可保持基板的平滑性，因此于间隔壁的形成步骤中，可减少间隔壁的高度的偏差。
[0154]
基板，优选为在后述闪烁体面板的制造步骤之后可从支撑体剥离。由于可将基板从支撑体剥离，相对于向闪烁体面板的放射线的入射，可抑制支撑体的放射线的吸收。结果，可使入射至闪烁体面板的放射线量充分，亮度更提高。
[0155]
支撑体的材料，只要是力学强度比基板高，具有平滑性的，就没有特别的限定，但优选为玻璃。
[0156]
支撑体的厚度可按照需要而适宜调整，但从力学强度的观点来看，优选为0.3mm以上，更优选为0.5mm以上。
[0157]
将基板固定于支撑体的方法，只要是公知的方法就没有特别的限定。关于将由高分子材料构成的基板固定于玻璃的支撑体的方法，举出一例，例如可列举出：在基板的周围贴附粘合胶带的方法，在任一材料的表面上涂布液状树脂，使另一个与其接触的方法，将粘接薄膜贴附于任一材料上，然后压接另一个的方法，对任一材料施予表面处理，通过分子间相互作用而固定的方法等。其中，优选将粘接薄膜贴附于任一材料，然后压接另一个的方法。
[0158]
此外，关于将玻璃基板固定于玻璃的支撑体的方法，举出一例，例如可列举出对任一个材料施予表面处理，通过分子间相互作用而固定的方法，在任一个材料上形成低熔点玻璃含有层，通过烧结而与另一个固定的方法等。其中，优选在任一个材料上形成低熔点玻璃含有层，通过烧结而与另一个固定的方法。
[0159]
(反射层形成步骤)
[0160]
本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法，具有在间隔壁的表面形成金属反射层(第1反射层)的反射层形成步骤。第1反射层只要在间隔壁表面的至少一部分上形成即可。
[0161]
第1反射层的形成方法没有特别的限定。举出一例，第1反射层可通过真空蒸镀法、溅镀法或cvd法等的真空制膜法、镀敷法、糊剂涂布法或喷雾的喷射法而形成。在这些之中，通过溅镀法所形成的第1反射层与其它手法所形成的第1反射层相比，反射率的均匀性或耐蚀性高，所以优选。
[0162]
(无机保护层形成步骤)
[0163]
另外，本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法，可具有在反射层表面形成无机保护层的无机保护层形成步骤。无机保护层的形成方法没有特别的限定。举出一例，无机保护层可通过真空蒸镀法、溅镀法或cvd法等的真空制膜法、糊剂涂布法或喷雾的喷射法而形成。在这些之中，通过溅镀法所形成的无机保护层与其它手法所形成的无机保护层相比，均匀性或耐蚀性高，所以优选。
[0164]
(有机保护层形成步骤)
[0165]
本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法，可具有在反射层表面形成有机保护层的有机保护层形成步骤。有机保护层的形成方法没有特别的限定。举出一例，有机保护层可通过将聚硅氧烷或非晶性含氟树脂的溶液于真空下涂布于间隔壁基板上后，进行干燥、去除溶剂而形成。
[0166]
使用聚硅氧烷时，干燥后的基板优选在比干燥温度更高温下固化。通过进行固化，基板上聚硅氧烷的缩合进行而耐热性和耐化学药品性提高，闪烁体面板的初期亮度容易提高。
[0167]
(第2反射层形成步骤)
[0168]
本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法，可具有在无机保护层或有机保护层表面形成第2反射层的第2反射层形成步骤。第2反射层的形成方法没有特别的限定。作为一例，从制程简便，对于大面积可形成均质的第2反射层来看，可列举出将在溶剂中混合有金属氧化物粉末及树脂的第2反射层糊，在真空下涂布于间隔壁基板上后，干燥而去除溶剂的方法。
[0169]
(填充步骤)
[0170]
本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法，具有在被间隔壁所区隔出的单元室内填充荧光体的填充步骤。荧光体的填充方法没有特别的限定。举出一例，从制程简便，对大面积的均质荧光体填充为可能来看，填充方法优选为将在溶剂中混合有荧光体粉末及粘结剂树脂的荧光体糊，在真空下涂布于间隔壁基板上后，干燥而去除溶剂的方法。
[0171]
以上，通过本发明的实施方式的闪烁体面板的制造方法而得的闪烁体可得到高亮度、高清晰度的影像。
[0172]
实施例
[0173]
以下，举出实施例及比较例，更详细地说明本发明。但本发明不限于这些。各实施例及比较例所用的化合物是通过以下的方法合成的。
[0174]
(间隔壁材料)
[0175]
(合成例1)
[0176]
(聚酰亚胺a的原料)
[0177]
胺化合物：2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷(以下bahf，东京化成工业(株)制)
[0178]
酸酐：rikacid(注册商标)tda-100(新日本理化(株)制)
[0179]
溶剂：γ-丁内酯(以下gbl，富士
フイルム
和光純薬(株)制)。
[0180]
(聚酰亚胺a的合成)
[0181]
在干燥氮气流下，将29.30g(0.08mol)的bahf添加至80g的gbl，在120℃下搅拌溶解。接着，连同20g的gbl添加30.03g(0.1mol)的tda-100，在120℃下搅拌1小时，接着在200
℃下搅拌4小时而得到反应溶液。接着，将反应溶液投入3l的水中，收集白色沉淀。过滤收集该沉淀，以水洗净3次后，在80℃的真空干燥机中干燥5小时，得到聚酰亚胺a。
[0182]
(合成例2)
[0183]
(聚酰胺a的原料)
[0184]
胺化合物：bahf(东京化成工业(株)制)
[0185]
酰氯：4,4
’‑
二苯基醚二羧酸二氯化物(东京化成工业(株)制)
[0186]
溶剂：n-甲基-2-吡咯烷酮(以下nmp，富士
フイルム
和光純薬(株)制)。
[0187]
(聚酰胺a的合成)
[0188]
在干燥氮气流下，将29.3g(0.08mol)的bahf添加至100g的nmp，在室温下搅拌溶解。然后，一边将反应溶液的温度保持在-10～0℃，一边一点一点地添加29.5g(0.1mol)的4,4
’‑
二苯基醚二酰氯，添加结束后升温到室温为止，继续搅拌3小时。接着，将反应溶液投入3l的水中，收集白色沉淀。过滤收集该沉淀，以水洗净3次后，在80℃的真空干燥机中干燥5小时，得到聚酰胺a。
[0189]
(合成例3)
[0190]
(聚酰胺酰亚胺a的原料)
[0191]
胺化合物：bahf(东京化成工业(株)制)
[0192]
酸酐：rikacid(注册商标)tda-100(新日本理化(株)制)
[0193]
酰氯化合物：3-硝基苯甲酰氯(东京化成工业(株)制)
[0194]
反应性化合物：环氧丙烷(富士
フイルム
和光純薬(株)制)
[0195]
溶剂a：丙酮(东京化成工业(株)制)
[0196]
溶剂b：甲基溶纤剂(东京化成工业(株)制)
[0197]
溶剂c：gbl(富士
フイルム
和光純薬(株)制)。
[0198]
(含羟基的二胺化合物(a)的合成)
[0199]
使18.3g(0.05mol)的bahf溶解于100ml的丙酮、17.4g(0.3mol)的环氧丙烷中，冷却到-15℃。在其中滴加在100ml的丙酮中溶解有20.4g(0.11mol)的3-硝基苯甲酰氯的溶液。滴加结束后，在-15℃下反应4小时，然后恢复到室温。过滤分离所析出的白色固体，在50℃下真空干燥。
[0200]
将30g所得的白色固体置入300ml的不锈钢高压釜内，使其分散于250ml的甲基溶纤剂中，添加2g的5％钯-碳。用气球将氢气导入其中，在室温下进行还原反应。约2小时后，确认气球不再收缩而结束反应。反应结束后，过滤去除作为催化剂的钯化合物，用旋转式蒸发器进行浓缩，得到含羟基的二胺化合物(a)。
[0201]
(聚酰胺酰亚胺a的合成)
[0202]
在干燥氮气流下，将31.4g(0.08mol)的含羟基的二胺化合物(a)添加至80g的gbl，在120℃下搅拌。接着，连同20g的gbl添加30.0g(0.1mol)的tda-100，在120℃下搅拌1小时，接着在200℃下搅拌4小时而得到反应溶液。接着，将反应溶液投入3l的水中，收集白色沉淀。过滤收集该沉淀，以水洗净3次后，在80℃的真空干燥机中干燥5小时，得到聚酰胺酰亚胺a。
[0203]
(合成例4)
[0204]
(聚苯并唑前体a的原料)
[0205]
原料a：二苯基醚-4,4
’‑
二羧酸(东京化成工业(株)制)
[0206]
原料b：1-羟基-1,2,3-苯并三唑(东京化成工业(株)制)
[0207]
胺化合物：bahf(东京化成工业(株)制)
[0208]
酸酐：5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐(东京化成工业(株)制)
[0209]
溶剂a：n-甲基-2-吡咯烷酮(以下记作“nmp”，富士
フイルム
和光純薬(株)制)
[0210]
溶剂b：甲醇(东京化成工业(株)制)。
[0211]
(聚苯并唑前体a的合成)
[0212]
在干燥氮气流下，使41.3g(0.16mol)的二苯基醚-4,4
’‑
二羧酸与43.2g(0.32mol)的1-羟基-1,2,3-苯并三唑反应而得的二羧酸衍生物的混合物0.16摩尔与73.3g(0.20mol)的bahf溶解于570g的nmp中，然后在75℃下反应12小时。接着，添加已溶解于70g的nmp中的13.1g(0.08mol)的5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐，进一步搅拌12小时而结束反应。过滤反应混合物后，将反应混合物投入水/甲醇＝3/1(容积比)的溶液中，得到白色沉淀。过滤收集该沉淀，以水洗净3次后，在80℃的真空干燥机中干燥24小时，得到聚苯并唑前体a。
[0213]
(合成例5)
[0214]
(聚酰亚胺b的原料)
[0215]
胺化合物：bahf(东京化成工业(株)制)
[0216]
酸酐：rikacid(注册商标)tda-100(新日本理化(株)制)
[0217]
溶剂：gbl(富士
フイルム
和光純薬(株)制)。
[0218]
(聚酰亚胺b的合成)
[0219]
在干燥氮气流下，将36.63g(0.1mol)的bahf添加至80g的gbl，在120℃下搅拌溶解。接着，连同20g的gbl添加24.02g(0.08mol)的tda-100，在120℃下搅拌1小时，接着在200℃下搅拌4小时而得到反应溶液。接着，将反应溶液投入3l的水中，收集白色沉淀。过滤收集该沉淀，以水洗净3次后，在80℃的真空干燥机中干燥5小时，得到聚酰亚胺b。
[0220]
(感光性聚酰亚胺清漆的原料)
[0221]
聚酰亚胺a：分子链末端为羧酸残基的聚酰亚胺
[0222]
聚酰胺a：分子链末端为羧酸残基的聚酰胺
[0223]
聚酰胺酰亚胺a：分子链末端为羧酸残基的聚酰胺酰亚胺
[0224]
聚苯并唑前体a：分子链末端为羧酸残基的聚苯并唑前体
[0225]
聚酰亚胺b：分子链末端为胺残基的聚酰亚胺
[0226]
酚醛树脂a：“maruka lyncur”(注册商标)m(丸善石油化学(株)制)
[0227]
环氧树脂a：“jer”(注册商标)630(三菱
ケミカル
(株)制)
[0228]
环氧化合物a：“tepic”(注册商标)-vl(日产化学(株)制)
[0229]
环氧化合物b：“celloxide”(注册商标)2081(daicel(株)制)
[0230]
环氧化合物c：“shofree”(注册商标)petg(昭和电工(株)制)
[0231]
丙烯酸化合物a：bp-6em(共荣社化学(株)制)
[0232]
丙烯酸化合物b：“kayarad”(注册商标)dpha(日本化药(株)制)
[0233]
光产酸剂a：“cpi”(注册商标)-310b(sun-apro(株)制)
[0234]
光产酸剂b：“cpi”(注册商标)-410s(sun-apro(株)制)
[0235]
光自由基聚合引发剂a：oxe02(
チバスペシャリティケミカルズ
社制)
[0236]
硅烷偶联剂：kbm-403(信越化学(株)制)。
[0237]
(算术平均倾斜角的测定)
[0238]
切断反射层形成后的间隔壁基板，对于间隔壁侧面的反射层露出来的剖面，使用激光显微镜vk-x200(keyence(株)制)，以倍率50倍的物镜拍摄间隔壁侧面5处，以附属的解析软件，线粗糙度分析间隔壁侧面中央20μm的长度范围，求出5点的平均值，当作算术平均倾斜角。此处所谓算术平均倾斜角，是将测定表面形状后的曲线的各微小部分所成的倾斜度(倾斜角)进行算术平均而得的值。算术平均倾斜角的值愈小，表面形状愈平滑。
[0239]
(反射率的评价)
[0240]
在荧光体层填充前的各闪烁体面板表面，设置分光测色计cm-2600d(konica-minolta(株)制)，通过sci方式测定400～700nm中的反射率。对于所得的反射率，将550nm中的值当作第1反射层的反射率的值。此外，计算将比较例1的反射率当作100时的相对值，作为第1反射层的反射率。在实施例10中，将所得的反射率当作第2反射层的反射率的值，计算将比较例1的反射率当作100时的相对值，当作第2反射层的反射率。
[0241]
(亮度的评价)
[0242]
将荧光体层填充后的各闪烁体面板配置在x射线检测器paxscan2520v(varex公司制)的传感器表面中央，使闪烁体面板的单元室与传感器的像素以一对一对应的方式对准，以粘着胶带固定基板端部，制作放射线检测器。对该检测器照射来自x射线放射装置l9181-02(浜松
ホトニクス
(株)制)的x射线，且于管电压50kv、x射线管与检测器的距离30cm的条件下照射x射线而取得影像。将所得的影像中闪烁体面板的发光位置中央的256
×
256像素的数字值的平均值当作亮度值，测定亮度。由于亮度系以任意单位输出，所以计算将比较例1的值当作100时的相对值，作为亮度。
[0243]
(x射线吸收量的评价)
[0244]
将荧光体层填充后的各闪烁体面板配置于emf123型x射线分光器(emf
ジャパン
(株)制)的检测部上。对该闪烁体面板照射来自x射线放射装置l9181-02(浜松
ホトニクス
(株)制)的x射线，取得于管电压50kv、x射线管与检测器的距离30cm的条件下照射x射线时的光子数光谱。将所得的光谱的光子数的合计当作x射线穿透量，从没有闪烁体面板的条件下照射x射线时的光子数的合计，计算闪烁体面板的x射线吸收量。在实施例中计算将比较例1的值当作100时的相对值，作为x射线吸收量。
[0245]
(力学强度的测定)
[0246]
将荧光体层填充后的各闪烁体面板设置于光学显微镜optiphot300(nikon(株)制)的平台上，使荧光体层成为物镜侧。对于该闪烁体面板，观察闪烁体面板中央的500像素
×
500像素的间隔壁顶部的状态。在所观察的间隔壁顶部的状态，计算发生歪扭等变形、断裂、缺损之处的数目。在间隔壁顶部的状态，将有歪扭等变形、断裂、缺损之处的数目为10处以下当作a，将11～20处当作b，将21处以上当作c。
[0247]
(实施例1)
[0248]
(清漆的调制)
[0249]
将10g(2.0mmol)合成例1所得的聚酰亚胺a、10g(26.2mmol)作为环氧化合物的环氧化合物a(“tepic
”‑
vl)、0.6g作为光产酸剂的光产酸剂a(“cpi
”‑
310b)、0.8g作为硅烷偶
联剂的kbm-403溶解于gbl中。溶剂的添加量是将溶剂以外的添加物当作固体成分，以固体成分浓度成为60重量％的方式调整。然后，使用保留粒径1μm的过滤器进行加压过滤，得到感光性聚酰亚胺清漆。
[0250]
(间隔壁基板的制作)
[0251]
作为基板，使用125mm
×
125mm
×
0.05mm的pi薄膜。在基板的表面，以干燥后的厚度成为100μm的方式，用模涂机涂布感光性聚酰亚胺清漆并进行干燥，得到感光性聚酰亚胺清漆的涂膜。
[0252]
接着，隔着具有对应于所希望图案的开口部的光掩模(间距127μm、线宽10μm的具有格子状开口部的铬掩模)，使用超高压汞灯，以2000mj/cm2的曝光量将感光性聚酰亚胺清漆的涂膜曝光。将曝光后的涂膜在2质量％的氢氧化钾水溶液中显影，去除未曝光部分，得到格子状的图案。将所得的格子状图案在空气中于200℃下热交联固化60分钟，形成格子状间隔壁。通过切断而使间隔壁剖面露出，以扫描型电子显微镜s2400(日立制作所(株)制)拍摄，测定间隔壁的高度、底部宽度、顶部宽度、间隔。
[0253]
(第1反射层及无机保护层的形成)
[0254]
使用市售的溅镀装置及溅镀靶。溅镀时在间隔壁基板的附近配置玻璃平板，在使玻璃平板上的金属厚度成为300nm的条件下实施溅镀。作为溅镀靶，使用含有钯及铜的银合金的apc(furuya金属(株)制)。形成第1反射层后，在同一的真空批次中，作为保护层，将sin以在玻璃基板上的厚度成为100nm的方式形成。
[0255]
(有机保护层的形成)
[0256]
含氟树脂溶液
[0257]
相对于作为非晶性含氟树脂的“cytop”(注册商标)ctl-809m的1质量份，混合1质量份作为溶剂的氟系溶剂ct-solv180(agc(株)制)，制作树脂溶液。
[0258]
将此树脂溶液真空印刷至形成有第1反射层与无机保护层的间隔壁基板后，在90℃下干燥1小时，进一步在190℃下固化1小时，而形成有机保护层。使用三离子束研磨装置emtic3x(
トリプルイオンミリング
装置emtic3x，leica公司制)，使间隔壁剖面露出，以场发射型扫描电子显微镜(fe-sem)merlin(zeiss公司制)拍摄，进行测定，间隔壁基板中的间隔壁的高度方向中央部侧面的有机保护层的厚度为1μm。
[0259]
(荧光体)
[0260]
直接使用市售的gos：tb(掺杂tb的氧硫化钆)荧光体粉末。以粒度分布测定装置mt3300(日机装(株)制)测定而得的平均粒径d50为11μm。
[0261]
(荧光体层的粘结剂树脂)
[0262]
荧光体层的粘结剂树脂的制作中使用的原料如下。
[0263]
粘结剂树脂：ethocel(注册商标)7cp(
ダウケミカル
(株)制)
[0264]
溶剂：苯甲醇(富士
フイルム
和光純薬(株)制)。
[0265]
(荧光体层的形成)
[0266]
将10质量份的荧光体粉末与5质量份的浓度10质量％的粘结剂树脂溶液混合，制作荧光体糊。将此荧光体糊剂真空印刷至形成有反射层、无机保护层、有机保护层的间隔壁基板，以荧光体的体积分率成为65％的方式填充，在150℃下干燥15分钟，形成荧光体层。
[0267]
(实施例2)
[0268]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用合成例2所得的聚酰胺a以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0269]
(实施例3)
[0270]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用合成例3所得的聚酰胺酰亚胺a以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0271]
(实施例4)
[0272]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用合成例4所得的聚苯并唑前体a以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0273]
(实施例5)
[0274]
除了于实施例1中，不使用环氧化合物a，而是使用环氧化合物b以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0275]
(实施例6)
[0276]
除了于实施例1中，不使用环氧化合物a，而是使用环氧化合物c以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0277]
(实施例7)
[0278]
除了于实施例1中，不使用光产酸剂a，而是使用光产酸剂b以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0279]
(实施例8)
[0280]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用合成例5所得的聚酰亚胺b，将10g的环氧化合物a(“tepic
”‑
vl)变更为5.0g的丙烯酸化合物a(bp-6em)及0.6g的丙烯酸化合物b(“kayarad”dpha)，将0.6g的光产酸剂a(“cpi
”‑
310b)变更为1.4g的光自由基聚合引发剂a(oxe02)以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0281]
(实施例9)
[0282]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用合成例5所得的聚酰亚胺b以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0283]
(实施例10)
[0284]
除了于实施例1中，以后述方法形成第2反射层以外，与实施例1同样地制作间隔壁基板。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0285]
(第2反射层糊的原料)
[0286]
第2反射层糊的制作中使用的原料如下。
[0287]
金属氧化物：氧化钛(平均粒径0.25μm)
[0288]
高分子化合物：ethocel(注册商标)100cp(
ダウケミカル
(株)制)
[0289]
溶剂：萜品醇。
[0290]
(第2反射层的形成)
[0291]
相对于作为粘结剂树脂的“ethocel”(注册商标)100cp的1质量份，混合90质量份的溶剂(萜品醇)，在80℃下加热溶解，得到树脂溶液。在所得的树脂溶液中，添加9质量份的氧化钛及进行混练，得到第2反射层糊。
[0292]
将此第2反射层糊真空印刷至实施例1中形成有第1反射层、无机保护层及有机保
护层的间隔壁基板后，在90℃下干燥1小时而形成第2反射层。使用三离子束研磨装置emtic3x(leica公司制)，使间隔壁剖面露出，以场发射型扫描电子显微镜(fe-sem)merlin(zeiss公司制)拍摄，进行测定，间隔壁基板中的间隔壁的高度方向中央部侧面的第2反射护层的厚度为5μm。
[0293]
(实施例11)
[0294]
除了将光掩模变更为间距127μm、线宽7μm的具有格子状开口部的铬掩模以外，与实施例1同样地制作间隔壁基板。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0295]
(比较例1)
[0296]
(间隔壁基板的形成)
[0297]
(感光性丙烯酸树脂的调制)
[0298]
使用以下的原料，调制感光性丙烯酸树脂。
[0299]
感光性单体m-1：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯
[0300]
感光性单体m-2：四丙二醇二甲基丙烯酸酯
[0301]
感光性聚合物：相对于由甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯＝40/40/30的质量比所构成的共聚物的羧基，使0.4当量的甲基丙烯酸缩水甘油基酯加成反应而得的(重均分子量43000；酸值100)
[0302]
光自由基聚合引发剂b：2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1(basf公司制)
[0303]
聚合抑制剂：1,6-己二醇-双[(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯])
[0304]
紫外线吸收剂溶液：sudan iv(东京应化工业(株)制)的γ-丁内酯0.3质量％溶液
[0305]
粘度调整剂：flownon ec121(共荣社化学(株)制)
[0306]
溶剂：γ-丁内酯(富士
フイルム
和光純薬(株)制)。
[0307]
将4质量份的感光性单体m-1、6质量份的感光性单体m-2、24质量份的感光性聚合物、6质量份的光自由基聚合引发剂b、0.2质量份的聚合抑制剂及12.8质量份的紫外线吸收剂溶液，在温度80℃下加热溶解于38质量份的溶剂中，得到感光性丙烯酸树脂溶液。
[0308]
作为基板，使用125mm
×
125mm
×
0.05mm的pi薄膜。在基板的表面，以干燥后的厚度成为100μm的方式，用模涂机涂布感光性丙烯酸树脂溶液并进行干燥，得到感光性丙烯酸树脂溶液的涂膜。接着，隔着具有对应于所希望图案的开口部的光掩模(间距127μm、线宽10μm的具有格子状开口部的铬掩模)，使用超高压汞灯，以300mj/cm2的曝光量，将感光性丙烯酸树脂溶液的涂膜曝光。曝光后的涂膜在0.5质量％的乙醇胺水溶液中显影，去除未曝光部分，得到格子状图案。将所得的格子状图案在空气中于150℃下干燥30分钟，形成格子状间隔壁。通过切断而使间隔壁剖面露出，以扫描型电子显微镜s2400(日立制作所(株)制)拍摄，测定间隔壁的高度、底部宽度、顶部宽度、间距。
[0309]
使用所得的间隔壁基板，与实施例1同样地进行第1反射层与无机保护层及有机保护层的形成，填充荧光体，进行评价。
[0310]
(比较例2)
[0311]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用酚醛树脂a以外，与实施例1同样地调制清漆。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0312]
(比较例3)
[0313]
除了于实施例1中，不使用聚酰亚胺a，而是使用环氧树脂a以外，与实施例1同样地调制清漆。此外，在间隔壁基板的形成步骤中，在涂膜的显影中不使用氢氧化钾水溶液，使用丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯，除此以外，与实施例1同样地制作间隔壁基板。制作间隔壁基板后，测定反射率与亮度、x射线吸收量。
[0314]
(比较例4)
[0315]
(含有玻璃粉末的糊的制作)
[0316]
在比较例1所制作的感光性丙烯酸树脂50质量份1中，添加低软化点玻璃粉末50质量份后，以三辊混练机进行混练，得到含有玻璃粉末的糊。
[0317]
(低软化点玻璃粉末)
[0318]
sio227质量％、b2o331质量％、zno 6质量％、li2o 7质量％、mgo2质量％、cao 2质量％、bao 2质量％、al2o323质量％、折射率(ng)1.56、玻璃软化温度588℃、热膨胀系数70
×
10-7
(k-1
)、平均粒径2.3μm。
[0319]
作为基板，使用125mm
×
125mm
×
0.7mm的钠玻璃板。在基板的表面，以干燥后的厚度成为100μm的方式，用模涂机涂布含有玻璃粉末的糊及进行干燥，得到含有玻璃粉末的糊的涂膜。接着，隔着具有对应于所希望图案的开口部的光掩模(间距127μm、线宽10μm的具有格子状开口部的铬掩模)，使用超高压汞灯，以300mj/cm2的曝光量，将含有玻璃粉末的糊的涂膜曝光。曝光后的涂膜系在0.5质量％的乙醇胺水溶液中显影，去除未曝光部分，得到格子状烧成前图案。将所得的格子状烧成前图案在空气中于580℃下烧成15分钟，形成以玻璃作为主成分的格子状间隔壁。通过切断而使间隔壁剖面露出，以扫描型电子显微镜s2400(日立制作所(株)制)拍摄，测定间隔壁的高度、底部宽度、顶部宽度、间距。
[0320]
使用所得的间隔壁基板，与实施例1同样地进行第1反射层与无机保护层及有机保护层的形成，填充荧光体，进行评价。
[0321]
表1、2中显示实施例1～11、比较例1～4的评价结果。
[0322]
[0323][0324]
以含有化合物(p)的材料构成间隔壁的实施例1～11，均为反射率与亮度高。通过以化合物(p)的一种且耐热性、力学特性及耐化学药品性优异的聚酰亚胺形成间隔壁，反射
层形成用的溅镀步骤中的加温等所造成的损伤少，或不发生荧光体填充步骤中的溶剂或热所造成的间隔壁的表面的平滑性降低，推断因此得到平滑性优异的第1反射层。再者，认为由于力学强度充分，所以在荧光体填充步骤等中的真空印刷时，抑制间隔壁的断裂或缺损。
[0325]
此外，间隔壁含有化合物(p)与源自环氧化合物的结构时，加工性更优异，相对于间隔壁顶部，间隔壁底部的宽度变更细，可认为是因此荧光体的填充量上升，亮度变更高。特别是化合物(p)的分子链末端为羧酸残基的实施例1～7及10～11，可认为是由于阳离子聚合系充分地进行，可形成平滑性优异的间隔壁，而亮度变更高。
[0326]
另一方面，在比较例1中，由于以不含化合物(p)的丙烯酸树脂形成间隔壁，所以间隔壁侧面的算术平均倾斜角变差，平滑性降低，而反射率、亮度降低。此外，由于耐化学药品性差，看到荧光体填充步骤中的间隔壁的变形。在比较例2中，由于以不含化合物(p)的具有酚性羟基的酚醛树脂形成间隔壁，所以间隔壁侧面的算术平均倾斜角变差，平滑性降低，而反射率、亮度降低。在比较例3中，由于以不含化合物(p)的环氧树脂形成间隔壁，虽然反射率或亮度为适当，但是间隔壁的力学强度低，在闪烁体面板的制作步骤中看到间隔壁的断裂或缺损。在比较例4中，由于使用低软化点玻璃形成间隔壁，所以发生因玻璃粉末的熔融所造成的间隔壁侧面的凹凸，间隔壁的平滑性降低。此外，因玻璃的熔融而间隔壁底部的宽度变粗，看到因荧光体的填充量的降低所造成的x射线吸收量的降低。它们的结果，看到反射率的降低与伴随其的亮度的降低。
[0327]
附图符号说明
[0328]
1:放射线检测器用构件
[0329]
2:闪烁体面板
[0330]
3:输出基板
[0331]
4:基板
[0332]
5:间隔壁
[0333]
6:荧光体层
[0334]
7:隔膜层
[0335]
8:光电转换层
[0336]
9:输出层
[0337]
10:基板
[0338]
11:第1反射层
[0339]
12:有机保护层
[0340]
13:第2反射层
[0341]
14:荧光体
[0342]
15:粘结剂树脂
[0343]
l1:间隔壁的高度
[0344]
l2:相邻间隔壁的间隔
[0345]
l2(x):相邻间隔壁的x轴方向的间隔
[0346]
l2(y):相邻间隔壁的y轴方向的间隔
[0347]
l3:间隔壁的底部宽度
[0348]
l4:间隔壁的顶部宽度