一种阵列基板及其制备方法、显示设备与流程

技术特征：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板包括显示区和位于所述显示区四周的外围区；所述显示区至少包括多个阵列排布的像素单元，其中，所述像素单元至少包括：设置在所述衬底基板的显示区表面上的第一遮光层；设置在所述第一遮光层远离所述衬底基板一侧的第一绝缘层；设置在所述第一绝缘层远离所述第一遮光层一侧的有源层；设置在所述有源层远离所述第一绝缘层一侧的第二绝缘层，所述第二绝缘层上开设有第一过孔和第二过孔；设置在所述第二绝缘层远离所述有源层的一侧的第一栅极层和第一数据线，所述第一数据线基于所述第一过孔与所述有源层连接；设置在所述第一栅极层远离所述第二绝缘层一侧的平坦层，所述平坦层上开设有第三过孔，所述第三过孔的位置与所述第二过孔的位置重合；设置在所述平坦层远离所述第一栅极层一侧的像素电极，所述像素电极基于所述第三过孔和所述第二过孔与所述有源层连接。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一过孔贯穿所述第二绝缘层、所述有源层以及所述第一绝缘层；所述阵列基板在第一方向上相邻的两个所述像素单元之间还设置有与所述第一遮光层同层的第二遮光层，所述第二遮光层的两端在第二方向上的正投影分别与两个所述像素单元的所述第一过孔在第二方向上的正投影重合，以使两个所述像素单元的第一数据线分别基于各自像素单元中的所述第一过孔与所述第二遮光层连接；其中，所述第一方向为所述阵列基板所在平面内与所述第一栅极层的延伸方向垂直的方向，所述第二方向为垂直与所述阵列基板所在平面的方向。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述外围区包括至少一个驱动tft结构，其中，所述驱动tft结构至少包括：所述有源层以及同层设置的第一极、第二极以及第二栅极层；其中，所述有源层和所述衬底基板之间设置有第一绝缘层，所述第二栅极层和所述有源层之间设置有第二绝缘层，所述第二绝缘层上开设有贯穿所述第二绝缘层、所述有源层以及所述第一绝缘层的第四过孔和第五过孔，所述第一极基于所述第四过孔与所述有源层连接，所述第二极基于所述第五过孔与所述有源层连接；所述第一极还基于所述第四过孔与第三遮光层连接，并基于所述第三遮光层与其他驱动tft结构的第一极或第二极连接，所述第二极还基于所述第五过孔与第四遮光层连接，并基于所述第四遮光层与其他驱动tft结构的第一极或第二极连接；其中，所述第三遮光层和所述第四遮光层设置在所述衬底基板和所述第一绝缘层之间，所述第三遮光层和所述第四遮光层之间不连通，并且所述第四过孔在第二方向上的正投影被所述第三遮光层在所述第二方向上的正投影完全覆盖，所述第五过孔在第二方向上的正投影被所述第四遮光层在所述第二方向上的正投影完全覆盖，所述第二方向为垂直与所述阵列基板所在平面的方向。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一过孔、所述第二过孔、所述第四过孔和所述第五过孔均基于所述第二绝缘层的同一个掩膜板刻蚀而成。5.根据权利要求1至4中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第三过孔的孔径大
于所述第二过孔的孔径。6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板的显示区基于如下步骤制备多个按照阵列排布的像素单元：在所述衬底基板的显示区表面上设置第一遮光层；在所述第一遮光层远离所述衬底基板一侧设置第一绝缘层；在所述第一绝缘层远离所述第一遮光层一侧设置有源层；在所述有源层远离所述第一绝缘层一侧设置第二绝缘层，并且在所述第二绝缘层上开设第一过孔和第二过孔；在所述第二绝缘层远离所述有源层的一侧设置第一栅极层和第一数据线，以使所述第一数据线基于所述第一过孔与所述有源层连接；在所述第一栅极层远离所述第二绝缘层一侧设置平坦层，并且在所述平坦层上开设第三过孔，所述第三过孔的位置与所述第二过孔的位置重合；在所述平坦层远离所述第一栅极层一侧设置像素电极，以使所述像素电极基于所述第三过孔和所述第二过孔与所述有源层连接。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在所述第一遮光层远离所述衬底基板一侧设置第一绝缘层之前，还包括：在所述衬底基板的显示区表面上设置第二遮光层，使所述第二遮光层位于所述阵列基板在第一方向上相邻的两个所述像素单元之间，其中，所述第二遮光层的两端在第二方向上的正投影分别与两个所述像素单元的所述第一过孔在第二方向上的正投影重合；其中，所述第一方向为所述阵列基板所在平面内与所述第一栅极层的延伸方向垂直的方向，所述第二方向为垂直与所述阵列基板所在平面的方向。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述第二绝缘层上开设第一过孔，包括：在所述第二绝缘层上开设贯穿所述第二绝缘层、所述有源层以及所述第一绝缘层的第一过孔，以使两个所述像素单元的第一数据线分别基于各自像素单元中的所述第一过孔与所述第二遮光层连接。9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，还包括：在所述衬底基板的显示区表面上设置第一遮光层的同时，在所述衬底基板的外围区表面上设置第三遮光层和第四遮光层，所述第三遮光层和所述第四遮光层不连接；在所述第二绝缘层上开设第一过孔和第二过孔的同时，在所述第二绝缘层上开设第四过孔和第五过孔，其中，所述第四过孔在第二方向上的正投影被所述第三遮光层在所述第二方向上的正投影完全覆盖，所述第五过孔在第二方向上的正投影被所述第四遮光层在所述第二方向上的正投影完全覆盖，所述第四过孔和所述第五过孔均贯穿所述第二绝缘层、所述有源层以及所述第一绝缘层；在所述第二绝缘层远离所述有源层的一侧设置第一栅极层和第一数据线的同时，在所述第二绝缘层远离所述有源层一侧设置第二栅极、第一极和第二极，以使所述第一极基于所述第四过孔与所述第三遮光层连接，并基于所述第三遮光层与其他驱动tft结构的第一极或第二极连接，所述第二极基于所述第五过孔与所述第四遮光层连接，并基于所述第四遮光层与其他驱动tft结构的第一极或第二极连接；
其中，所述第二方向为垂直与所述阵列基板所在平面的方向。10.一种显示设备，其特征在于，至少包括如权利要求1至5中任一项所述的tft阵列基板。

技术总结
本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示设备，该阵列基板包括：设置在衬底基板上的第一遮光层；设置在第一遮光层上的第一绝缘层；设置在第一绝缘层上的有源层；设置在有源层上的第二绝缘层，其上开设有第一过孔和第二过孔；设置在第二绝缘层上的第一栅极层和第一数据线，第一数据线基于第一过孔与有源层连接；设置在第一栅极层上的平坦层，其开设有第三过孔，第三过孔的位置与第二过孔的位置重合；设置在平坦层上的像素电极，像素电极基于第三过孔和第二过孔与有源层连接。本公开减少了像素单元内TFT结构其中一侧的源漏极以及相应绝缘层的设计，在确保产品性能的同时，降低了阵列基板的制作工艺步骤和制作成本。了阵列基板的制作工艺步骤和制作成本。了阵列基板的制作工艺步骤和制作成本。


技术研发人员：李伟 徐敬义 刘鹏
受保护的技术使用者：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
技术研发日：2022.04.29
技术公布日：2022/10/25