一种储液槽及设有该储液槽的清洗机的制作方法

1.本实用新型属于清洗用辅助设备技术领域，尤其是涉及一种硅片清洗用储液槽及设有该储液槽的清洗机。


背景技术：

2.清洗硅片是硅片加工的重要工序之一，在清洗过程中有一工序是快排清洗，就是需要在1-2s中快速向清洗槽内喷淋一定温度的溶液进行消泡，同时还要持续地对清洗槽进行溢流换水。现有储水箱只有一个内腔，加热、蓄水一体设置，喷淋和溢流同步工作时，储水箱中的溶液被快速排出，造成加热装置干烧，有时还会造成溢流断水，不仅会产生安全风险，而且影响硅片清洗效果。


技术实现要素：

3.本实用新型提供一种储液槽及设有该储液槽的清洗机，解决了现有储液槽中容易干烧加热装置、溢流断水的技术问题。
4.为解决至少一个上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：
5.一种储液槽，包括具有内腔的本体，所述本体内构设有储液区一和储液区二，所述储液区一与所述储液区二之间设有隔板；
6.在所述储液区一中构造有用于加热溶液的加热装置；
7.所述储液区二中设置有排液口。
8.进一步的，所述加热装置配置在所述储液区一的端部并插值于所述储液区一内。
9.进一步的，所述储液区二中也配置有所述加热装置，且所述储液区二中的所述加热装置与所述储液区一中的所述加热装置均构设在所述本体的同一端面。
10.进一步的，所述加热装置包括若干加热管，所述储液区二中的所述加热管的数量不大于所述储液区一中的所述加热管的数量；
11.所有所述加热装置的位置均低于所述隔板的高度；
12.且所述隔板的高度低于所述本体的壁面高度。
13.进一步的，所述储液区一和所述储液区二内均设有液位控件；
14.所述储液区一中的所述液位控件的高度高于所述储液区一中的所述加热装置的高度且低于所述隔板的高度；
15.所述储液区二中的所述液位控件的高度高于所述储液区二中的所述加热装置的高度且低于所述隔板的高度。
16.进一步的，所述本体仅构造有一个进液口，且该进液口被置于所述储液区一的内腔中；
17.配置于所述储液区一中的进液口和排液口均位于其底面；
18.且所述储液区一中的进液口的直径大于其排液口的直径。
19.进一步的，所述储液区二中构设有两个排液口且均位于所述储液区二的底面；
20.在所述储液区二内腔中，其中一个排液口的高度低于另一个排液口的高度。
21.进一步的，还包括构设于所述本体中远离所述加热装置一端的储液区三；
22.所述储液区三横跨所述储液区一和所述储液区二的宽度设置，并通过连扳与所述储液区一和所述储液区二连接；
23.且所述连扳的高度高于所述隔板的高度。
24.进一步的，在所述储液区三的底面和侧壁面均设有排液口。
25.一种清洗机，配置有如上任一项所述的储液槽。
26.采用本实用新型设计的一种储液槽，采用分区设置的储液方式，使加热和喷淋分开设置，同时改进具有喷淋功能的储液区二的结构，保证溢流时持续有水使用，同时还可对储液区二的溶液进行二次增温加热，提高清洗质量；同时还增设储液区三，以防止储液位过高而溢出储液槽。本实用新型还提出一种配置有该储液槽的清洗机。
附图说明
27.图1是本实用新型一实施例中的一种储液槽的立体图；
28.图2是储液槽的前侧立体图；
29.图3是储液槽中储液区一和储液区二的横截面示意图；
30.图4是储液槽的后侧立体图；
31.图5是本实用新型另一实施例中配设有盖帽的储液槽的立体图。
32.图中：
33.100、储液槽
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10、本体
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11、隔板
34.20、储液区一
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21、加热装置
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22、安装孔
35.23、液位控件
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24、进液口
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25、排液口一
36.30、储液区二
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31、排液口二
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32、排液口三
37.40、储液区三
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41、连扳
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42、排液口四
38.50、盖帽
具体实施方式
39.下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。
40.本实施例提出一种储液槽100，如图1所示，包括具有内腔的本体10，本体10内构设有具有加热功能的储液区一20和能够快速给水进行喷淋和溢流的储液区二30，储液区一20与储液区二30之间设有隔板11；至少在储液区一20中构造有用于加热溶液的加热装置21，且在储液区二30中设置有用于排液的排液口。在同一个储液槽100中，划分两个不同区域，以使加热和快给水的喷淋分开，储液区一20中持续蓄液、加热，且不会造成加热装置21干烧；储液区二20主要用于快速喷淋和缓冲溢流，当储液区一20中的溶液蓄满后会漫过隔板11进入储液区二30；在储液区二30中持续进行缓速溢流，当储液区二30中的水量达到可以快速喷淋的状态时，快速启动喷淋且同时溢流仍在进行；由于溢流的速度较小、喷淋的速度较大，则储液区二30中的溶液足矣对硅片进行快冲清洗，以确保清洗质量，保证清洗效率。
41.在本实施例中，本体10为长方体结构，这一结构不仅加工简单且对于同一上端口的其它类型的结构，长方体所承载的溶液体积较大；同时，也易于分割区域，各个区域有足
够的空间插置加热装置21；也有足够的平面来安装加热装置21。隔板11沿本体10的长度方向设置，也就是，隔板11使本体10分割成两个长方体的储液区一20和储液区二30。隔板11的设置使得储液区一20中始终蓄有溶液，因储液区一20中只有在清理其内溶液时才打开排液口一25，储液区一20始终是持续地进液而不排液，也就是始终存有溶液，故，隔板11的设置可保证储液区一20中的加热装置21不会出现干烧问题。
42.进一步的，如图2所示，加热装置21包括若干长条形且独立设置的加热管，所有加热管都被配置在储液区一20的端部并插值于储液区一20内；由于加热管长度较长，则加热装置21需要沿储液区一20的长度方向设置。由于作为加热区的储液区一20的温度基于不同工艺要求而不同，则加热的温度不一，故需至少在储液区一20内设置一组加热管；也可以设置若干组并排设置的加热管。在本体10的一端加工若干个安装孔22，当需要配置多个加热管时，即可打开安装孔22使加热管与其配合；当不需要配置过多的加热管时，则封堵部分安装孔22，仅打开部分安装孔22与加热管配合即可。这些都可以基于实际工况而定，在此不具体限制。
43.进一步的，对于快速给水的储液区二30中的溶液，在喷淋使用的时候，其内中的溶液温度会有所降低，需要在储液区二30二次加热，为在储液区二30中进行二次加热，在加热储液区二中也增设可以安装加热装置21的备用的安装孔22，以配置安装加热管。为了保证对这个加热管的安装和维护，要求储液区二30中的加热管与储液区一20中的加热管均构设在本体10的同一端面。当然，在储液区二30中，加热管可以在二次加热使用时安装在安装孔22上；不需要二次加热时，仅需将安装孔22封堵即可，储液区二30仍然为一个封闭的区域。
44.由于在储液区二30中的二次加热的温度幅度没有在储液区一20中的首次加热的温度幅度大，则，在储液区二30中的加热管的数量不大于储液区一20中的加热管的数量。
45.进一步的，为了保证储液区一20和储液区二30中的加热管的安装位置不影响溶液的流动，要求所有加热装置21的位置均低于隔板11的高度。也就是，储液区一20中最上端的加热管的位置和储液区二30中最上端的加热管的位置均低于隔板11的高度，防止影响溶液的流动。同时，为了防止储液槽100中溶液承载的安全性，隔板11的高度低于本体10的壁面高度。
46.进一步的，如图3所示，在储液区一20和储液区二30内均设有用于监控溶液位置的液位控件23，该液位控件23可以为监控浮球，亦可以为液位传感器。储液区一20中的液位控件23的位置高度高于储液区一20中的最上端的加热管的位置高度且低于隔板11的位置高度；且储液区二30中的液位控件23的位置高度高于储液区二30中的最上端的加热管的位置高度且低于隔板11的位置高度。这一结构设置的目的是在防止所有加热管出现干烧现象；同时还能保证储液区一20和储液区二30中的溶液能持续使用。
47.具体地，储液区一20中的液位控件23用于监控可对溶液进行加热的位置，也就是储液区一20中的可加热的液位限制。当储液区一20中的液位控件23监控到溶液位置时，则表示可以对储液区一20中的溶液进行加热了，储液区一20中的溶液就对储液区一20中的加热管进行保护的。当低于该位置时，则加热装置21中的所有加热管都不能工作，避免出现干烧加热管的情况。当然，储液区一20中还设有温度监控计，以监控其内的溶液温度的稳定性，若溶液温度不合格，则会通知外置的控制器通知加热装置21对溶液进行加热；若溶液温度合格，则经控制器通知加热装置21对溶液进行保温。
48.对于储液区二30中的液位控件23是用于监控是否可以喷淋，当储液区二30中的液位到达液位控件23的位置时，则可以具备快速喷淋的指令；当储液区二30中的液位还没到达液位控件23的位置时，则需要继续向储液区二30蓄水。同时，在储液区二30中，液位控件23亦可用于监控是否可以进行二次加热，也就是，只有当储液区二30中溶液面超出液位控件23的位置时，才可控制储液区二30中的加热管对溶液进行二次加热；当液位低于液位控件23的位置时，则不能进行二次加热。储液区二30中的液位控件23的位置高度高于储液区二30中的最上端的加热管的位置高度亦可防止在储液区二30中出现加热管干烧现象。
49.优选地，由于储液区一20中的溶液量要始终大于储液区二30中的溶液量，要求储液区一20中的体积大于储液区二30中的体积，为了进一步保证储液区一20和储液区二30中的溶液的持续流通，要求储液区一20中的液位控件23的高度高于储液区二30中的液位控件23的高度。
50.进一步的，整个储液槽100只有一个进液口24，且该进液口24仅设置在储液区一20，在储液区一20中还设有用于排液的排液口一25，进液口24和排液口一25均位于本体10的底面，目的是为了便于布线的排设；同时，排液口一25在本体10的底面的设置，有利于储液区一20中的杂质的排出。且在储液区一20中的进液口24的直径大于其排液口一25的直径，因为需要持续地向储液区一20中持续进行储液，且储液区一20仅用于加热储液，只有当不用储液时，才会使用排液口一25。
51.进一步的，储液区二30中的底面上配设有一个用于喷淋的排液口二31和用于溢流的排液口三32，在储液区二30内腔中，用于溢流的排液口三32的高度低于用于喷淋的排液口二31的高度。因为，喷淋时用时短且用量多，溢流是持续且缓慢流通；当液位低于喷淋的排液口二31的高度时，则无法从储液区二30中进行喷淋，剩余的溶液还可以继续溢流且不会出现断流。在喷淋完毕后，储液区一20中的溶液已开始经隔板11继续向储液区二30进行续液，从而可保证对硅片持续性的溢流和间断性的喷淋。
52.进一步的，如图4所示，为了防止储液区一20和储液区二30中的溶液过多而溢出本体10之外，则在本体10远离加热装置21的一端设有用于存储从储液区一20和储液区二30溢出的溶液混放的储液区三40。其中，储液区三40仅仅作为过渡区将多余的溶液排出，而不蓄存任何溶液，故储液区三40的高度无需设置过高，只需保证储液区三40的上端面与本体10的上端面齐平设置，且储液区三40的高度小于储液区一20和储液区二30高度。其中，储液区三30横跨储液区一20和储液区二30的宽度设置，并通过连扳41与储液区一20和储液区二30连接设置；且连扳41的高度高于隔板11的高度，防止储液区三30中的溶液返回至储液区一20和储液区二30。
53.进一步的，储液区三40的排液口四42有两个排液口四42，一个设置在储液区三40的底面，一个设置在其远离储液区二30一侧的侧壁面上，目的是保证若一旦有一个排液口四42堵着，则另一个排液口四42则可继续工作。
54.在本实施例中，储液槽100中的溶液可以是药液、也可以是纯水溶液。
55.如图5所示，本实用新型中的另一实施例，在本体10上还设置一与其相适配的盖帽50，以保证整个储液槽100处于一个封闭的空间内循环，防止溶液外溢或泄露，避免出现资源浪费，提高生产效率，降低生产成本。
56.一种清洗机，配置有如上任一项所述的储液槽100。
57.采用本实用新型设计的一种储液槽，采用分区设置的储液方式，使加热和喷淋分开设置，同时改进具有喷淋功能的储液区二的结构，保证溢流时持续有水使用，同时还可对储液区二的溶液进行二次增温加热，提高清洗质量；同时还增设储液区三，以防止储液位过高而溢出储液槽。本实用新型还提出一种配置有该储液槽的清洗机。
58.以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。