正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法与流程

技术特征：
1.一种正型抗蚀剂组合物，其含有：(a)离子性化合物；及(b)树脂，其含有具有与所述离子性化合物中的离子性基团相互作用的相互作用性基团的重复单元(b1)，并且主链通过x射线、电子束或极紫外线的照射而分解。2.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述树脂(b)具有由羟基、氨基、酰胺基及硫醇基组成的组中的至少一种作为所述相互作用性基团。3.根据权利要求1或2所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述树脂(b)具有由下述通式(1)表示的重复单元，通式(1)中，x表示卤原子或氟化烷基，r表示氢原子或一价的有机基团。4.根据权利要求3所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述通式(1)中，x表示氟原子、氯原子或溴原子。5.根据权利要求1至4中任一项所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述离子性化合物(a)及所述树脂(b)为相同的化合物。6.根据权利要求5所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述树脂(b)具有作为所述重复单元(b1)的由下述通式(3)表示的重复单元及选自由下述通式(4)表示的重复单元及由下述通式(5)表示的重复单元组成的组中的至少一种重复单元，通式(3)中，a表示氢原子、卤原子或烷基，l表示2价的连接基团，b表示单键或(m 1)价的连接基团，c表示所述相互作用性基团，m表示1以上的整数，
当m表示2以上的整数时，多个c任选相同或不同，通式(4)中，a1表示氢原子、卤原子或烷基，l1表示单键或2价的连接基团，b1表示单键或(p 1)价的连接基团，d1表示阴离子性基团，e1表示阳离子，p表示1～2的整数，当p表示2的整数时，多个d1及多个e1分别任选相同或不同，通式(5)中，a2表示氢原子、卤原子或烷基，l2表示2价的连接基团，b2表示单键或(q 1)价的连接基团，d2表示阴离子，e2表示阳离子性基团，q表示1～2的整数，当q表示2的整数时，多个d2及多个e2分别任选相同或不同。7.根据权利要求1至6中任一项所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述重复单元(b1)为由通式(2)表示的重复单元，通式(2)中，r’表示氢原子或烷基，c1表示所述相互作用性基团，j表示0或1，k表示0或1，n表示1～9的整数，当n表示2～9的整数时，多个c1任选相同或不同。8.根据权利要求1至7中任一项所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述重复单元(b1)的含量相对于所述树脂(b)的所有重复单元为20摩尔％以下。9.根据权利要求1至8中任一项所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述树脂(b)具有由下述通式(7)表示的重复单元，其中，相当于由所述通式(2)表示的重复单元的重复单元除外，
通式(7)中，r
31
表示氢原子或烷基，r
32
表示一价的有机基团，s表示0或1，t表示0或1，w表示0～9的整数，当w表示2～9的整数时，多个r
32
任选相同或不同。10.根据权利要求1至9中任一项所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述离子性化合物(a)为由下述通式(6)表示的化合物，通式(6)中，m
3
表示通过x射线、电子束或极紫外线的照射而分解的有机阳离子，a
3-表示阴离子性基团，r
a
表示氢原子或1价的有机基团，l
a
表示单键或2价的连接基团。11.根据权利要求10所述的正型抗蚀剂组合物，其中，所述离子性化合物(a)及所述树脂(b)为相同的化合物，由所述通式(6)表示的化合物中作为r
a
的1价的有机基团包含树脂的主链结构。12.根据权利要求10或11所述的正型抗蚀剂组合物，其中，由所述通式(6)表示的化合物中的a
3-为选自由下述通式(b-1)～(b-14)表示的基团组成的组中的基团，
式(b-1)～(b-14)中，*表示键合位置，式(b-1)～(b-5)及(b-12)中，r
x1
分别独立地表示一价的有机基团，式(b-7)、(b-11)中，r
x2
分别独立地表示氢原子或除氟原子及全氟烷基以外的取代基，式(b-7)中的2个r
x2
任选相同或不同，式(b-8)中，r
xf1
表示氢原子、氟原子或全氟烷基，其中，多个r
xf1
中至少一个表示氟原子或全氟烷基，式(b-8)中的2个r
xf1
任选相同或不同，通式(b-9)中，r
x3
表示氢原子、卤原子或一价的有机基团，n1表示0～4的整数，当n1表示2～4的整数时，多个r
x3
任选相同或不同，通式(b-10)中，r
xf2
表示氟原子或全氟烷基，通式(b-14)中，r
x4
表示氢原子、卤原子或一价的有机基团，n2表示0～4的整数，当n2表示2～4的整数时，多个r
x4
任选相同或不同。13.根据权利要求12所述的正型抗蚀剂组合物，其中，由所述通式(6)表示的化合物中的a
3-为选自由所述通式(b-6)、(b-7)、(b-8)、(b-9)及(b-14)表示的基团组成的组中的基团。14.一种抗蚀剂膜，其是使用权利要求1至13中任一项所述的正型抗蚀剂组合物而形成的。
15.一种图案形成方法，其具有：使用权利要求1至13中任一项所述的正型抗蚀剂组合物，在基板上形成抗蚀剂膜的工序；用x射线、电子束或极紫外线对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；及使用显影液对所述经曝光的抗蚀剂膜进行显影并形成图案的工序。16.一种电子器件的制造方法，其包括权利要求15所述的图案形成方法。

技术总结
本发明提供一种正型抗蚀剂组合物、使用上述正型抗蚀剂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述正型抗蚀剂组合物含有(A)离子性化合物及(B)树脂，所述(B)树脂含有具有与上述离子性化合物中的离子性基团相互作用的相互作用性基团的重复单元(b1)，并且主链通过X射线、电子束或极紫外线的照射而分解。分解。


技术研发人员：高田晓 后藤研由 八木一成 白川三千纮 丸茂和博
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2021.01.22
技术公布日：2022/9/6