低反射遮光层用树脂组合物、以及使用其的低反射遮光层及低反射遮光层层叠体的制作方法

1.本发明涉及新颖组成的低反射遮光层用树脂组合物、以及使用其的低反射遮光层及低反射遮光层层叠体等。


背景技术：

2.在单反照相机、小型照相机、摄像机、智能手机等各种光学设备中，从去除不需要的入射光、反射光，抑制光晕、镜头光晕、重影等的发生等的观点来看，使用遮光性高且低光泽的遮光构件。例如，将用于截断不需要光的遮光板、遮光环等介于透镜间的透镜单元、照相机模块等搭载在各种光学设备。另外，在单反照相机、小型照相机、摄像机等各种光学设备的快门、光圈构件等中，从防止因外光导致的光晕、重影的发生等等的观点来看，使用具有遮光性的构件。
3.另一方面，通过近年来的传感技术显著的进步，在汽车、列车、火车、电车、船舶、货物船、航空机、飞船、火箭、输送机器、交通工具等各种移动体(以下，有称为“移动载体”的情况)中，正研究高度的传感技术的导入。列举一例，为了检测存在于自车辆前方的障碍物(例如其他车辆、行人、护栏、房屋等)，将具备摄像元件的透镜单元(照相机模块)、红外线传感器等光学传感器设置在车室内的汽车的开发正在进展中。
4.以往，作为各种光学设备的遮光构件，已使用在金属薄膜涂布黑色涂料而得者。然而，近年来，正研究向轻量的塑料材料的代替。
5.作为这样的非金属制的遮光构件，本技术人提案了一种光学设备用遮光构件，其特征在于，其是具有膜基材、和形成在所述基材的至少单面的遮光膜的光学设备用遮光构件，所述遮光膜含有粘结剂树脂、碳黑、粒子状的润滑剂及微粒，所述粘结剂树脂及所述润滑剂的含有率分别为70重量％以上、5～15重量％，所述润滑剂的密度比所述微粒更大(参照专利文献1)。
6.现有技术文献
7.专利文献
8.专利文献1：日本特开2011-123255号公报


技术实现要素：

9.发明要解决的问题
10.在专利文献1的技术中，设为在遮光膜中含有70重量％以上的粘结剂树脂及2～5重量％左右的二氧化硅等微粒，并且进一步含有密度疏的特定的润滑剂5～15重量％的处方。然而，在此处方中，遮光膜的包含正反射的扩散反射率(550nm)及包含正反射的扩散反射率(905nm)均大到5％以上，在表面反射率的方面尚有改善的余地。另外，近年来，从设计性的观点等来看，具有高级感的低光泽且深黑的设计的人气不断高涨，正寻求与其的调和。然而，在专利文献1的技术中，例如cie 1976l*a*b*色空间的l*值为25以上，即使在黑色度
的方面，尚有改善的余地。
11.另外，一般而言，遮光膜的表面反射率有遮光膜的表面粗糙度(ra、rz等)越大则表面反射率越变小的倾向。另一方面，有遮光膜的表面粗糙度(ra、rz等)越大，则cie 1976l*a*b*色空间的l*值越变大的倾向。即，在专利文献1所记载的设计指南中，为了减小遮光膜的表面反射率而增大遮光膜的表面粗糙度(ra、rz等)时，导致与此同时l*值也会增大，无法同时达成低表面反射率、低l*值、低表面粗糙度这3者。因此，寻求可同时达成这3者的新的设计指南。
12.本发明是鉴于上述课题而完成的。即，本发明的目的是，提供一种可实现表面反射率及l*值小的低反射遮光层的新颖组成的树脂组合物等。另外，本发明的另一目的是，提供一种可实现表面反射率、l*值及表面粗糙度小的低反射遮光层的新颖组成的树脂组合物等。
13.而且，本发明的另一目的是，提供一种表面反射率及l*值小的低反射遮光层以及低反射遮光层层叠体等。另外，本发明的另一目的是，提供一种表面反射率、l*值及表面粗糙度小的低反射遮光层以及低反射遮光层层叠体。而且，进而本发明是以提供一种使用上述低反射遮光层以及低反射遮光层层叠体等的、高性能的低反射构件、光学设备用低反射构件、及光学设备用遮光低反射构件等作为更优选的目的。
14.用于解决问题的手段
15.本发明人们为了解决上述课题，深入研究了膜表面形状、光学特性等，结果发现与现有技术不同的树脂组成，发现根据该新颖的树脂组成，可解决上述课题，而终至完成本发明。
16.[1]一种低反射遮光层用树脂组合物，其至少含有粘结剂树脂、着色材料、树脂粒子及分散介质，所述粘结剂树脂的含有比例以相对于固体成分总量的固体成分换算计，合计为1～30质量％，所述着色材料的含有比例以相对于固体成分总量的固体成分换算计，合计为0.1～35质量％，所述树脂粒子的含有比例以相对于固体成分总量的固体成分换算计，合计为50～95质量％。
[0017]
[2]根据上述[1]所述的低反射遮光层用树脂组合物，其中，所述树脂粒子具有3～20μm的平均粒径d
50
。
[0018]
[3]根据[1]或[2]所述的低反射遮光层用树脂组合物，其中，所述树脂粒子含有着色树脂粒子。
[0019]
[4]一种低反射遮光层，其至少含有粘结剂树脂、分散在所述粘结剂树脂中的着色材料、及分散在所述粘结剂树脂中的树脂粒子，所述粘结剂树脂的含有比例以固体成分换算计，相对于总量，合计为1～30质量％，所述着色材料的含有比例以固体成分换算计，相对于总量，合计为0.1～35质量％，所述树脂粒子的含有比例以固体成分换算计，相对于总量，合计为50～95质量％。
[0020]
[5]根据上述[4]所述的低反射遮光层，其中，所述树脂粒子含有着色树脂粒子。
[0021]
[6]根据上述[4]或[5]所述的低反射遮光层，其中，所述树脂粒子具有3～20μm的平均粒径d
50
。
[0022]
[7]根据上述[4]～[6]中任一项所述的低反射遮光层，其中，一个表面侧的表面粗糙度ra为0.2～0.7μm。
[0023]
[8]根据上述[4]～[7]中任一项所述的低反射遮光层，其中，一个表面侧的表面粗糙度rz为2.0～5.0μm。
[0024]
[9]根据上述[4]～[8]中任一项所述的低反射遮光层，其中，一个表面侧的550mn扩散反射率(包含正反射)为0.0％以上且小于3.0％。
[0025]
[10]根据上述[4]～[9]中任一项所述的低反射遮光层，其中，一个表面侧的905nm扩散反射率(包含正反射)为0.0％以上且小于3.0％。
[0026]
[11]根据上述[4]～[10]中任一项所述的低反射遮光层，其中，一个表面侧的cie 1976l*a*b*色空间的l*值为0～18。
[0027]
[12]根据上述[4]～[11]中任一项所述的低反射遮光层，其具有0.5以上的光密度od。
[0028]
[13]根据上述[4]～[12]中任一项所述的低反射遮光层，其具有1～30μm的厚度。
[0029]
[14]一种低反射遮光层层叠体，其特征在于，其具备基材、和设置在所述基材的至少一个主面侧的上述[4]～[13]中任一项所述的低反射遮光层。
[0030]
[15]一种低反射遮光层层叠体，其特征在于，其具备基材膜、设置在所述基材膜的一个主面侧的[4]～[13]中任一项所述的低反射遮光层、和设置在所述基材膜的另一个主面侧的[4]～[13]中任一项所述的低反射遮光层。
[0031]
发明效果
[0032]
根据本发明，可提供一种可实现表面反射率及表面光泽度小的低反射遮光层的新颖组成的树脂组合物等。另外，根据本发明的优选的方案，可提供一种可实现表面反射率、l*值及表面粗糙度小的低反射遮光层的新颖组成的树脂组合物等。而且，根据本发明，可提供一种表面反射率及表面光泽度小的低反射遮光层以及低反射遮光层层叠体等，根据本发明的优选的方案，可提供一种表面反射率、l*值及表面粗糙度小的低反射遮光层以及低反射遮光层层叠体。因此，例如可抑制光学传感器类的拍摄图像、检测精度的劣化或低下，能够进一步提高拍摄图像、检测精度。另外，由于可实现具有更深黑外观的低反射遮光层等，因此也可提升搭载其的各种光学设备的设计性。而且，根据本发明，也可实现以往并不存在的新颖设计的高性能的低反射构件、光学设备用低反射构件、及光学设备用遮光低反射构件等。
附图说明
[0033]
图1是表示一个实施方式的低反射遮光层21及低反射遮光层层叠体100的概略截面图。
具体实施方式
[0034]
以下，针对本发明的实施的方式，参照附图进行详细说明。需要说明的是，上下左右等的位置关系，除非另有说明，为根据附图所示的位置关系。另外，附图的尺寸比率并非被限定于图示的比率。其中，以下的实施的方式是用于说明本发明的例示，本发明并非被限定于此。需要说明的是，在本说明书，例如为“1～100”的数值范围的表述包含其上限值“100”及下限值“1”双方。另外，其他数值范围的表述也相同。
[0035]
本发明的第一实施方式的低反射遮光层用树脂组合物(以下，有简称为“树脂组合
物”的情况)至少含有粘结剂树脂、着色材料、树脂粒子及分散介质。粘结剂树脂、着色材料及树脂粒子只要在分散介质中分散即可，但也可以它们的一部分溶解在分散介质中。
[0036]
作为粘结剂树脂，可使用本领域内公知的粘结剂树脂，其种类并未特别限定。具体而言，可列举聚(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚乙烯醇缩丁醛系树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯系树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、不饱和聚酯系树脂、环氧酯系树脂、环氧系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚醛系树脂、三聚氰胺系树脂、尿素系树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯系树脂等热塑性树脂或热固化性树脂，但并非特别限定于这些。另外，也可使用热塑性弹性体、热固化性弹性体、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。需要说明的是，粘结剂树脂可根据要求性能及用途来适当选择使用。例如在要求耐热性的用途中，优选为热固化性树脂。
[0037]
树脂组合物中的粘结剂树脂的含量(总量)可以膜形成所必要的程度来适当设定，并未特别限定。从考虑与其他必须成分及任意成分的配混平衡，实现具有更为优异的表面反射率及l*值进而根据需要具有更低的表面粗糙度的低反射遮光层的观点来看，粘结剂树脂的含量(总量)以相对于树脂组合物的固体成分总量的固体成分换算计，优选为合计为1～30质量％，更优选为合计为2～25质量％，进一步优选为合计为3～20质量％，特别优选为合计为5～15质量％。需要说明的是，在着色材料、树脂粒子包含粘结剂树脂成分时，这些粘结剂树脂成分也在此处提及的含有比例中纳入粘结剂树脂的合计量。
[0038]
作为着色材料，可使用本领域内公知的颜料、染料，其种类并未特别限定。通过适当选择着色材料的种类、粒子尺寸、使用量，可调整遮光性、光透过性。具体而言，可列举磁铁矿系黑、铜/铁/锰系黑、钛黑、碳黑、苯胺黑等，但并非特别限定于这些。作为着色材料，从遮光性、光透过性、色调等的调整的容易性等的观点来看，优选为使用黑色的无机颜料、黑色的有机颜料。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。这些之中，作为着色材料，期望为无机颜料，具体而言，优选为钛黑、碳黑、苯胺黑，更优选为碳黑、苯胺黑。作为碳黑，已知有油炉黑、灯黑、槽法碳黑、煤气炉黑、乙炔黑、热法碳黑、科琴黑等以各种公知的制法制作而得者，但并未特别限制其种类。从赋予导电性并防止因静电导致的带电的观点来看，作为着色材料，特别优选为使用导电性碳黑。碳黑的历史悠久，例如从三菱化学株式会社、asahicarbon corporation、御国色素株式会社、resinocolor工业株式会社、cabot公司、degussa公司等，市售有各种等级的碳黑单体及碳黑分散液，根据要求性能、用途，从这些之中适当选择即可。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。
[0039]
需要说明的是，着色材料的粒子尺寸可根据使用的着色材料的种类、要求性能等适当设定，并未特别限定。例如着色材料为碳黑时，平均粒径d
50
优选为0.01～2.0μm，更优选为0.05～1.0μm，进一步优选为0.08～0.5μm。需要说明的是，本说明书中的平均粒径d
50
意指以激光衍射式粒度分布测定装置(例如岛津制作所公司：sald-7000等)测定的体积基准的中值粒径(d
50
)。
[0040]
树脂组合物中的着色材料的含量(总量)可根据遮光性、低光泽性等的要求性能来适当设定，并未特别限定。从考虑与其他必须成分及任意成分的配混平衡，实现具有更为优异的表面反射率及l*值进而根据需要具有更低的表面粗糙度的低反射遮光层的观点来看，
着色材料的含量(总量)以相对于树脂组合物的固体成分总量的固体成分换算计，优选为合计为0.1～35质量％，更优选为合计为1～30质量％，进一步优选为合计为3～20质量％，特别优选为合计为5～15质量％。需要说明的是，作为树脂粒子使用经着色的树脂粒子时的着色材料的含量，设为上述的着色材料的质量与树脂粒子所包含的着色材料的质量的合计(组合物中的着色材料总量)。
[0041]
作为树脂粒子，可使用本领域内公知的树脂粒子，其种类并未特别限定。具体而言，可列举聚甲基丙烯酸甲酯系、聚苯乙烯系、聚酯系、聚氨酯系、有机硅树脂系、聚偏二氟乙烯等氟树脂系、橡胶系等的树脂粒子，但并非特别限定于这些。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。另外，树脂粒子的外观可为透明、半透明、不透明中的任一种，并未特别限定。另外，树脂粒子可为无色，也可为着色。例如通过使用着色成黑色、灰色、紫色、蓝色、茶色、红色、绿色等的树脂粒子(着色树脂粒子)，即使着色材料的使用量比较少，也可实现光密度、色彩度高的低反射遮光层。另外，通过使用着色树脂粒子，特别是与使用二氧化硅等无机粒子的情况相比较，可大幅减低l*值。
[0042]
从得到上述的表面反射率及l*值的观点来看，优选为树脂粒子具有比较粗大的粒径。具体而言，树脂粒子的平均粒径d
50
的下限优选为1μm以上，更优选为2μm以上，进一步优选为4μm以上，特别优选为5μm以上。另外，作为上限，为30μm以下，更优选为20μm以下，特别优选为15μm以下。需要说明的是，从生产性、操作性等的观点来看，有时要求使用具有在涂布时抑制树脂粒子的聚集、或者即使在假定树脂粒子聚集的情况下聚集物的粒径也不会过度变大程度的平均粒径d
50
的树脂粒子。
[0043]
树脂组合物中的树脂粒子的含量(总量)可根据遮光性、低光泽性等的要求性能来适当设定，并未特别限定。从考虑与其他必须成分及任意成分的配混平衡，实现具有更为优异的表面反射率及l*值进而根据需要具有更低的表面粗糙度的低反射遮光层的观点来看，树脂粒子的含量(总量)以相对于树脂组合物的固体成分总量的固体成分换算计，优选为合计为50～95质量％，更优选为合计为55～90质量％，进一步优选为合计为60～85质量％。需要说明的是，在作为树脂粒子使用经着色的树脂粒子时的树脂粒子的含量，是将包含树脂粒子所包含的着色材料的树脂粒子的质量作为基准。
[0044]
需要说明的是，本实施方式的树脂组合物为了控制色调，除了上述的着色材料、树脂粒子以外，可以含有公知的色材。作为该色材，可列举二芳基甲烷系；三芳基甲烷系；噻唑系；部花青、吡唑啉酮次甲基等次甲基系；靛苯胺、苯乙酮甲亚胺、吡唑并甲亚胺、咪唑甲亚胺、咪唑并甲亚胺等甲亚胺系；呫吨系；噁嗪系；二氰基苯乙烯、三氰基苯乙烯等氰基亚甲基系；噻嗪系；吖嗪系；吖啶系；苯偶氮系；吡啶酮偶氮、噻吩偶氮、异噻唑偶氮、吡咯偶氮、咪唑偶氮、噻二唑偶氮、三唑偶氮、双偶氮等偶氮系；螺吡喃系；吲哚啉并螺吡喃系；荧烷系；萘醌系；蒽醌系；喹啉黄系等，但并非特别限定于这些。例如可将黑色系、蓝色系、绿色系、黄色系、红色系的公知的色材单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。使用色材时，色材的含量(总量)可根据要求性能来适当设定，并未特别限定，但考虑与其他必须成分及任意成分的配混平衡，以相对于树脂组合物的固体成分总量的固体成分换算计，优选为合计为0.1～10质量％，更优选为合计为0.5～5质量％，进一步优选为合计为1～3质量％。
[0045]
另外，树脂组合物为了调整树脂组合物的光泽度、色调等，可以含有公知的消光剂(哑光剂)。作为消光剂，例如可列举高岭土、煅烧高岭土、煅烧粘土、未煅烧粘土、二氧化硅
(例如天然二氧化硅、熔融二氧化硅、无定形二氧化硅、中空二氧化硅、湿式二氧化硅、合成二氧化硅、气相二氧化硅等)、铝化合物(例如勃姆石、氢氧化铝、氧化铝、水滑石、硼酸铝、氮化铝等)、镁化合物(例如硅酸铝镁、碳酸镁、氧化镁、氢氧化镁等)、钙化合物(例如碳酸钙、氢氧化钙、硫酸钙、亚硫酸钙、硼酸钙等)、钼化合物(例如氧化钼、钼酸锌等)、滑石(例如天然滑石、煅烧滑石等)、云母(云母)、氧化钛、氧化锌、氧化锆、硫酸钡、硼酸锌、偏硼酸钡、硼酸钠、氮化硼、聚集氮化硼、氮化硅、氮化碳、钛酸锶、钛酸钡、锡酸锌等锡酸盐等，但并非特别限定于这些。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。使用消光剂时，消光剂的含量(总量)可根据要求性能来适当设定，并未特别限定，但从考虑与其他必须成分及任意成分的配混平衡，实现具有更为优异的表面反射率及表面光泽度的低反射遮光层的观点来看，以相对于树脂组合物的固体成分总量的固体成分换算计，优选为合计为0.1～10质量％，更优选为合计为0.5～5质量％，进一步优选为合计为1～3质量％。
[0046]
进而，树脂组合物可以含有本领域内公知的各种添加剂。作为其具体例，可列举润滑剂、导电剂、阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、增塑剂、树脂固化剂、固化剂、固化促进剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂等，但并非特别限定于这些。作为润滑剂，可列举聚乙烯、石蜡、蜡等烃系润滑剂；硬脂酸、12-羟基硬脂酸等脂肪酸系润滑剂；硬脂酸酰胺、油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂；硬脂酸丁酯、硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂；醇系润滑剂；金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂；聚四氟乙烯蜡等，但并非特别限定于这些。这些之中，特别是优选为使用有机系润滑剂。另外，使用紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂作为粘结剂树脂的情况下，例如可以使用正丁基胺、三乙基胺、三-正丁基膦等增感剂、紫外线吸收剂等。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。它们的含有比例并未特别限定，以相对于树脂组合物的固体成分总量的固体成分换算计，一般而言，优选为分别为0.01～5质量％。
[0047]
作为分散介质，并未特别限定，可列举水；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等醚系溶剂；甲基醇、乙基醇、异丙基醇等醇系溶剂、以及它们的混合溶剂等，但并非特别限定于这些。分散介质的使用量只要为能够进行低反射遮光层的膜形成的程度即可，并未特别限定，但从操作性、作业性等的观点来看，一般而言，以树脂组合物的固体成分总量成为10～90质量％、优选为成为20～80质量、进一步优选为成为25～70质量％的方式调整即可。
[0048]
通过将上述的树脂组合物涂布成规定形状，可得到本实施方式的低反射遮光层21。图1是表示具备该低反射遮光层21的低反射遮光层层叠体100的关键部位的截面图。该低反射遮光层层叠体100具备：基材11、设置在该基材11的一个主面11a侧的低反射遮光层21、和设置在基材11的另一个主面11b侧的粘合层31。即，本实施方式的低反射遮光层层叠体100具有其中低反射遮光层21、基材11及粘合层31至少以该顺序排列的层叠结构(3层结构)。需要说明的是，在该层叠结构中，低反射遮光层21配置在表侧的最外表面，并且粘合层31配置在内侧的最外表面，低反射遮光层21及粘合层31以分别露出在表侧及内侧的最外表面的状态配置。需要说明的是，在低反射遮光层21的表面21a，在不脱离本发明的主旨的范围内，根据需要可以设置抗静电层、保护层、防污层、抗菌层、抗反射膜、印刷层等任意的层。另外，低反射遮光层21的表面21a在不脱离本发明的主旨的范围内，根据需要可以实施抗静电处理、防污处理、抗菌处理、抗反射处理等任意的表面处理。
[0049]
此处，在本说明书中，所谓“设置在～的一个(另一个)面侧”，意指不仅包含如本实施方式所示地在基材11的表面(例如主面11a、主面11b)直接载置低反射遮光层21、粘合层31的方案，也包含在基材11的主面11a与低反射遮光层21之间、在基材11的主面11b与粘合层31之间隔着未图示的任意的层(例如底漆层、粘接层、导电层等)，从而低反射遮光层21、粘合层31与基材11分隔开而配置的方案。另外，所谓至少具备低反射遮光层21及粘合层31的层叠结构，意指不仅包含仅低反射遮光层21及粘合层31直接层叠在基材11上的结构，也包含在3层结构的层间进一步设置如上所述的任意的层的结构。
[0050]
基材11只要为可支承低反射遮光层21及粘合层31者，则其种类并未特别限定。作为基材11的具体例，例如可列举金属、合金、树脂成形体、树脂膜、无纺布及玻璃等，但并非特别限定于这些。作为金属、合金，优选为使用包含铝、镁、铁及它们的合金的金属材料。另外，从尺寸稳定性、机械强度及轻量化等观点来看，作为基材11，优选为使用合成树脂。作为合成树脂的具体例，可列举聚酯；abs(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)；聚酰亚胺；聚酰胺；聚酰胺酰亚胺；聚苯乙烯；聚碳酸酯；(甲基)丙烯酸系；尼龙系；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系；降冰片烯类与α-烯烃的加成共聚物、降冰片烯类的氢化开环复分解聚合物、环戊烯、环己烯、3-甲基环己烯、环辛烯等环烯烃系；纤维素系；聚砜系；聚苯硫醚系；聚醚砜系；聚醚醚酮系的树脂，但并非特别限定于这些。需要说明的是，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸基”是包含丙烯酸基、甲基丙烯酸基双方的概念。它们可单独使用1种，另外也可以2种以上的任意组合使用。另外，也能适合使用以任意的组合使用它们而得的多层成形体(多色成形体)、层叠膜。这些之中，作为基材11，从尺寸稳定性、机械强度及轻量化等观点来看，优选为合成树脂的基材膜，更适合使用聚酯膜、聚酰亚胺膜、聚碳酸酯膜、(甲基)丙烯酸系膜、及任意组合它们而得的层叠膜。特别是，单轴或双轴拉伸膜，尤其是双轴拉伸聚酯膜，由于机械强度及尺寸稳定性优异，因此为特别优选。另外，在耐热用途中，特别优选为聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜、聚酰胺膜，最优选为聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜。
[0051]
基材11的厚度可根据要求性能及用途来适当设定，并未特别限定。通过在基材11上设置低反射遮光层21，例如可对作为成形体的基材11、或对作为膜状的基材11的基材膜、或对膜状或者层状的基材11，赋予表面反射率及表面光泽度小的表面。需要说明的是，使用作为膜状的基材11的基材膜时，从轻量化及薄膜化的观点来看，以基材11的厚度为0.5μm以上且小于250μm作为目标。从强度、刚性等观点来看，基材11的厚度优选为36μm以上且小于250μm。另一方面，从进一步轻量化及薄膜化的观点来看，基材11的厚度优选为1μm以上且50μm以下，更优选为1μm以上且25μm以下，进一步优选为4μm以上且10μm以下，特别优选为5μm以上且7μm以下。需要说明的是，从提升与低反射遮光层21、粘合层31的粘接性的观点来看，根据需要也可对基材11表面进行锚定处理、电晕处理、抗静电等各种公知的表面处理。
[0052]
需要说明的是，基材11的外观可为透明、半透明、不透明中的任一种，并未特别限定。例如也可使用发泡聚酯膜等经发泡的合成树脂膜、含有各种颜料的合成树脂膜。例如，通过使用含有1种以上的黑色、灰色、紫色、蓝色、茶色、红色、绿色等暗色系的颜料或染料的合成树脂膜，可成为光密度高的膜。作为此处使用的颜料、染料，可从本领域内公知的颜料、染料中适当选择使用，其种类并未特别限定。例如作为黑色系的颜料，可列举黑色树脂粒子、磁铁矿系黑、铜/铁/锰系黑、钛黑、碳黑等。这些之中，由于隐蔽性优异，因此优选为黑色树脂粒子、钛黑、碳黑。它们可单独使用1种，另外也可组合使用2种以上。基材11含有颜料或
染料时，其含有比例可根据要求性能及用途来适当设定，并未特别限定。从尺寸稳定性、机械强度、轻量化等观点来看，颜料及染料的合计的含有比例相对于基材11的总量，优选为0.3～15质量％，更优选为0.4～12质量％，进一步优选为0.5～10质量％。
[0053]
作为低反射遮光层21的形成方法，可适当适用公知的制法，并未特别限定。通过在基材11上以上述的树脂组合物成为规定的厚度的方式进行涂布并干燥，根据需要进行电离放射线处理、热处理和/或加压处理等，从而可得到低反射遮光层21。从在基材11上可再现性良好且简易且低成本制造高性能的低反射遮光层21的观点来看，适合使用刮涂、浸涂、辊涂、棒涂、模具涂布、刮刀涂布、气刀涂布、吻合涂布、喷涂、旋涂等涂布方法。
[0054]
低反射遮光层21的厚度可根据要求性能及用途来适当设定，并未特别限定，但从高光密度、轻量化及薄膜化的平衡的观点来看，优选为1μm以上，更优选为2μm以上，进一步优选为3μm以上，特别优选为4μm以上，上限侧优选为30μm以下，更优选为25μm以下，进一步优选为20μm以下，特别优选为15μm以下。
[0055]
另外，本实施方式的低反射遮光层21的遮光性根据要求性能适当设定即可，并未特别限定。从具备更高遮光性的观点来看，低反射遮光层21优选为具有0.5以上的光密度od，更优选为具有1.0以上的光密度od，进一步优选为具有1.7以上的光密度od，特别优选为具有2.0以上的光密度od。需要说明的是，在本说明书中，光密度(od)设为依照iso 5-2，使用光密度计(x-rite361t：x-rite公司)及正交滤波器测定所得的值。
[0056]
粘合层31设置在上述的基材11的主面11b侧，是与未图示的被粘物粘合接合的层。如此地，通过将粘合层31侧与被粘物粘合接合，可对被粘物赋予低反射率且低光泽的表面。构成粘合层31的材料可使用本领域内公知的材料，另外，根据被粘物的表面材料(树脂成形体、使用该树脂成形体的多层层叠体、无纺布及表皮材料等、金属、合金等)适当选择即可，其种类并未特别限定。例如优选为使用橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、烯烃系粘合剂、有机硅系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂。
[0057]
粘合层31的厚度可根据要求性能及用途来适当设定，并未特别限定，但从轻量化及薄膜化的平衡的观点来看，优选为0.1μm以上，更优选为0.2μm以上，进一步优选为0.5μm以上，特别优选为1.0μm以上，最优选为3.0μm以上，上限侧优选为40μm以下，更优选为30μm以下，进一步优选为25μm以下，特别优选为20μm以下，最优选为10μm以下。
[0058]
如以上所详述，通过本实施方式的低反射遮光层层叠体100具备由上述的特定的树脂组合物所制膜的低反射遮光层21，从而作为表面反射率及l*值小的层叠膜发挥功能，在更优选的方案中，作为表面反射率、l*值及表面粗糙度中的任一种均小的层叠膜发挥功能。因此，通过将本实施方式的低反射遮光层层叠体100作为低反射构件、光学设备用低反射构件及光学设备用遮光构件等使用，可抑制例如光学传感器类的拍摄图像、检测精度的劣化或低下。
[0059]
此处，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面反射率可根据要求性能来适当设定，并未特别限定。从减小表面反射率及l*值，另外，减小镜面光泽度的观点来看，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的550nm扩散反射率(包含正反射)优选为小于3.0％，更优选为小于2.8％，进一步优选为小于2.6％，特别优选为小于2.4％。此处，同550nm扩散反射率的下限侧并未特别限定，但越低越好，因此，只要为0.0％以上即可。另外同样，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的
表面21a侧的905nm扩散反射率(包含正反射)优选为小于3.0％，更优选为小于2.8％，进一步优选为小于2.6％，特别优选为小于2.4％。此处，同905nm扩散反射率的下限侧并未特别限定，但越低越好，因此，只要为0.0％以上即可。需要说明的是，在本说明书中，550nm扩散反射率、905nm扩散反射率(包含正反射)意指使用分光光度计(例如solidspec-3700(岛津制作所公司制))，测定在入射各波长的光时的扩散反射率(包含正反射)(％)所得的值。
[0060]
另外，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的cie 1976l*a*b*色空间的l*值根据要求性能适当设定即可，并未特别限定。从寻求更深黑外观的观点来看，另外，从低光泽、低反射性、光吸收性等的平衡的观点来看，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的l*值优选为0～18，更优选为16以下，进一步优选为14以下，特别优选为13以下。此处，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的l*值可以为与现有技术的低反射膜、遮光膜的l*值为相同程度(例如19～30)，但通过由上述的特定的树脂组合物制膜从而可调整成比较小的值，这可以说是现有技术所没有的特征之一。需要说明的是，在本说明书中，l*a*b*色空间的l*值意指依照jis z 8720：2012，使用cie标准光源d
65
，以分光测色计(例如ze6000(日本电色公司制))测定的值。
[0061]
另一方面，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面粗糙度ra(算术平均粗糙度)可根据要求性能适当设定，并未特别限定，但从减小表面反射率及l*值，另外，减小镜面光泽度的观点来看，优选为0.2～0.7μm，更优选为0.2～0.6μm，进一步优选为0.2～0.5μm，特别优选为0.3～0.5μm。需要说明的是，表面粗糙度ra如本领域内所周知，为表面凹凸的高度方向的参数，表示在基准长度中粗糙度曲线的高度zx的绝对值的平均。此处，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面粗糙度ra可以为与现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度ra为相同程度(例如1.0～2.0μm)，但通过由上述的特定的树脂组合物制膜从而可调整成比较小的值，这可以说是现有技术所没有的特征之一。
[0062]
另外，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面粗糙度rz(最大高度)可根据要求性能适当设定，并未特别限定，但从减小表面反射率及l*值，另外，减小镜面光泽度的观点来看，优选为2.0～5.0μm，更优选为2.1～4.8μm，进一步优选为2.2～4.6μm，特别优选为2.5～4.5μm。需要说明的是，低反射遮光层21的表面粗糙度rz如本领域内所周知，为表面凹凸的高度方向的参数，表示在基准长度中粗糙度曲线的凸部高度zp与凹部深度zv的最大值的和。此处，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面粗糙度rz可以为与现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度rz为相同程度(例如6～12μm)，但通过由上述的特定的树脂组合物制膜从而可调整成比较小的值，这可以说是现有技术所没有的特征之一。
[0063]
另一方面，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面粗糙度rsm可根据要求性能适当设定，并未特别限定，但从减小表面反射率及l*值的观点来看，优选为20～70μm，更优选为30～65μm，进一步优选为35～60μm。此处，表面粗糙度rsm是表面凹凸的长度方向(横向方向)的参数，表示在基准长度中粗糙度曲线要素的长度xs的平均。即，可以将其理解为表面凹凸的平均波长。有表面粗糙度rsm越大，则表面反射率及表面光泽度越小，并且，广角侧的镜面光泽度越小的倾向。需要说明的是，表面凹凸的长度方向意指表面粗糙度rsm的测定时所确定的低反射遮光层21的面内的一个方向，例如在
俯视观察时为矩形状的低反射遮光层21时，可以为纵向方向、面内的横向方向中的任一种，其方向并未特别限定。
[0064]
另外，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面粗糙度表面粗糙度rsk可根据要求性能适当设定，并未特别限定，但从减小表面反射率及l*值的观点来看，优选为0.1～3.0μm，更优选为0.2～2.0μm，进一步优选为0.3～1.0μm。此处，表面粗糙度rsk为表面凹凸的高度方向(深度方向)的参数，表示在基准长度中粗糙度曲线的偏斜(偏度)。即，可以将其理解为表示将平均线作为中心时的凸部与凹部的对称性。有表面粗糙度rsk的绝对值越大，则表面反射率及表面光泽度越小，并且，广角侧的镜面光泽度越小的倾向。
[0065]
需要说明的是，上述的表面粗糙度ra、rz、rsm及rsk，意指依照jis标准(jis b 0601-2001及jis b 0651-2001)所测定的值及所算出的值。具体而言，根据“制品的几何学特性规格(gps)-表面性状：轮廓曲线方式-用语、定义及表面性状参数、jis b 0601：2001”，例如可使用触针式表面粗糙度测定机(surfcom 1500sd2-3df：东京精密公司)等的3维表面粗糙度计测定，另外，表面粗糙度rsm等根据需要可使用附带的分析软件、通用的分析软件算出。更详细的测定条件如以下。
[0066]
测定长度：4.0mm
[0067]
截止波长：0.8mm
[0068]
测定速度：0.6mm/s
[0069]
触针：前端半径2μm、顶角60
°
圆锥型的单晶金刚石制
[0070]
需要说明的是，本实施方式的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的表面光泽度可根据要求性能适当设定，并未特别限定。从实现更高的哑光性及低表面光泽性等的观点来看，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的60度镜面光泽度(jis-z8741：1997)优选为0.0％以上且小于1.0％，更优选为0.0％以上且小于0.5％，进一步优选为0.0％以上且小于0.4％，特别优选为0.0％以上且小于0.3％。同样，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的45度镜面光泽度(jis-z8741：1997)优选为0.0％以上且小于1.0％，更优选为0.0％以上且小于0.5％，进一步优选为0.0％以上且小于0.4％，特别优选为0.0％以上且小于0.3％。另外同样，低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的20度镜面光泽度(jis-z8741：1997)优选为0.0％以上且小于0.5％，更优选为0.0％以上且小于0.3％，进一步优选为0.0％以上且小于0.2％，特别优选为0.0％以上且小于0.1％。需要说明的是，在本说明书中，镜面光泽度意指依照jis-z8741：1997，使用数字变角光泽计(gloss meter vg7000：日本电色公司)，分别测定在规定的入射受光角(45
°
、60
°
)的低反射遮光层层叠体100(低反射遮光层21)的表面21a侧的光泽度(镜面光泽度)(％)所得的值。
[0071]
从具备作为遮光构件的高遮光性的观点来看，低反射遮光层层叠体100整体的光密度(od)优选为1.5以上，更优选为2.0以上，进一步优选为2.5以上，特别优选为3.0以上，最优选为4.0以上。需要说明的是，光密度(od)的上限值当然为6.0。
[0072]
(变形例)
[0073]
需要说明的是，本发明在不脱离其要旨的范围内，可任意变更而实施。在上述第一实施方式中，示出在基材11上设置低反射遮光层21的层叠结构的低反射遮光层层叠体100，
但本发明即使为省略基材11、粘合层31的方案也可实施。例如，能作为从上述的基材11剥离低反射遮光层21，仅由低反射遮光层21构成的单层结构的低反射遮光层来实施。另外，同样，能作为不设置粘合层31，而在基材11上设置低反射遮光层21的2层层叠结构的低反射遮光层层叠体来实施。进而，在上述第一实施方式中，示出在基材11上仅设置1层低反射遮光层21的方案，但即使为在基材11的一个主面11a侧及另一主面11b侧分别设置低反射遮光层21的方案也可实施。另外，可以在基材11与低反射遮光层21之间设置导电层。
[0074]
实施例
[0075]
以下，列举实施例及比较例，详细说明本发明，但本发明并非因这些实施例而受到任何限定。本发明只要不脱离本发明的要旨，可达成本发明的目的，则可采用各种条件。需要说明的是，在以下除非另有说明，“份”表示“质量份”。
[0076]
(实施例1)
[0077]
在作为基材的厚度50μm的双轴拉伸pet膜(总透光率(550nm)：89.1％)的单面，将以表1所记载的质量比例制备的下述的树脂组合物通过棒涂法涂布并使其干燥，在基材上形成表2所记载的低反射遮光层，由此，制作实施例1的低反射遮光层及低反射遮光层层叠体。
[0078]
《树脂层用涂布液》
[0079]
·
粘结剂树脂
[0080]
(异氰酸酯固化型丙烯酸类树脂、树脂固体成分：25质量％)
[0081]
·
着色材料
[0082]
(碳黑树脂分散液、平均粒径d
50
：25nm)
[0083]
·
树脂粒子
[0084]
(黑色丙烯酸类珠、平均粒径d
50
：4.0μm)
[0085]
·
树脂固化剂
[0086]
(聚异氰酸酯系固化剂、固体成分：60质量％)
[0087]
·
流平剂
[0088]
(有机硅系、固体成分：10质量％)
[0089]
·
分散介质100质量份
[0090]
(mek∶甲苯＝50∶50的混合溶剂)
[0091]
[表1]
[0092][0093]
(实施例2～3)
[0094]
如表1所示，变更各成分的质量比例，除此以外，与实施例1同样进行，在基材上形成表2所记载的低反射遮光层，由此，制作实施例2及3的低反射遮光层及低反射遮光层层叠体。
[0095]
(比较例1)
[0096]
如表1所示，变更树脂粒子的使用量，除此以外，与实施例1同样进行，制作比较例1的低反射遮光层及低反射遮光层层叠体。
[0097]
(比较例2)
[0098]
如表1所示，替代树脂粒子而使用平均粒径d
50
为9.5μm的不定形二氧化硅，并变更各成分的质量比例，除此以外，与实施例1同样进行，制作比较例2的低反射遮光层及低反射遮光层层叠体。
[0099]
针对所得的实施例1～3及比较例1～2的低反射遮光层层叠体(低反射遮光层)，用以下的条件进行各物性的测定及评价。将评价结果一并示于表1。
[0100]
(1)表面粗糙度ra、rz、rsm及rsk
[0101]
依照jis-b0601(2001)的算术平均粗糙度(ra)的测定方法，使用触针式表面粗糙度测定机(surfcom 1500sd2-3df：东京精密公司)，分别测定遮光层的表面的表面粗糙度ra、rz、rsm、rsk(单位：μm)。
[0102]
(2)550nm反射率及905nm反射率
[0103]
使用分光光度计(例如solidspec-3700(岛津制作所公司制))，针对波长550nm及波长905nm的光，测定入射各波长的光时的遮光层的表面的扩散反射率(包含正反射)(％)。
[0104]
(3)l*
[0105]
使用分光测色计(例如ze6000(日本电色公司制))，依照jis z 8720：2012，使用cie标准光源d
65
，测定遮光层的表面的l*。
[0106]
(4)镜面光泽度
[0107]
依照jis-z8741：1997，使用数字变角光泽计(gloss meter vg7000：日本电色公司)，分别测定在规定的入射受光角(20
°
、45
°
、60
°
)的遮光层的表面的表面光泽度(镜面光泽度)(％)。
[0108]
(5)光密度od
[0109]
根据iso 5-2，使用光密度计(x-rite361t：x-rite公司)，测定第一树脂层21的光密度。需要说明的是，测定时使用正交滤波器。
[0110]
[表2]
[0111][0112]
产业上的可利用性
[0113]
本发明在例如精密机械领域、半导体领域、光学设备领域、车载用途、剧院室用途等的要求低表面反射率及深黑外观的用途中，作为低反射遮光构件可被广泛且有效利用。尤其是，可作为高性能单反照相机、小型照相机、摄像机、移动电话、智能手机、pda信息终端、投影机等各种光学设备的遮光构件(例如遮光板、遮光环等)、滑动构件(例如快门、光圈构件等)而特别有效利用。
[0114]
附图标记说明
[0115]
100
ꢀꢀꢀꢀ
低反射遮光层层叠体
[0116]
11
ꢀꢀꢀꢀꢀ
基材
[0117]
11a
ꢀꢀꢀꢀ
面(主面)
[0118]
11b
ꢀꢀꢀꢀ
面(主面)
[0119]
21
ꢀꢀꢀꢀꢀ
低反射遮光层
[0120]
21a
ꢀꢀꢀꢀ
表面
[0121]
31
ꢀꢀꢀꢀꢀ
粘合层