具有终端保护装置的碳化硅JBS及其制备方法与流程

具有终端保护装置的碳化硅jbs及其制备方法
技术领域
1.本发明涉及半导体器件技术领域，具体涉及具有终端保护装置的碳化硅jbs及其制备方法。


背景技术：

2.碳化硅作为宽禁带材料，可以实现较低的导通损耗，同时具有优异的耐高温性和导热特性，可满足多种应用需求。碳化硅材料的高临界场特性，使碳化硅功率器件与相同电压下的常规硅器件相比，能有更高的掺杂浓度和更薄的漂移层厚度，从而实现更低的导通电阻。碳化硅jbs结构，可在满足较高的反向耐压前提下，保持较低的导通损耗，且具有独特的零反向恢复特性，适合高频应用。
3.当前大多数碳化硅jbs结构，为了提升终端耐压能力，都设计了终端保护结构，包括jte、场限环等。但对于反向耐压性能的提升依旧有限，实际使用过程中仍有部分器件发生了终端击穿现象。本发明通过二次外延，在终端结构下设置了能够优化电场分布的缓解机构，可以改善终端的电场分布，缓解电场尖峰的存在。


技术实现要素：

4.本发明提供了具有终端保护装置的碳化硅jbs及其制备方法，解决了现有技术存在的电场尖峰问题，其应用时可有效改善终端区的电场分布，缓解电场尖峰现象，提升器件的反向耐压以及可靠性。
5.为了解决该技术问题，本发明提供了如下技术方案：具有终端保护装置的碳化硅jbs，其特征在于，包括碳化硅衬底，在碳化硅衬底上生长有第一外延层，在第一外延层内间隔分布有多个改善设施，在第一外延层上表面生长有第二外延层，在第二外延层内设有注入区、过渡区、保护环，保护环与改善设施在纵向方向上分布一致，环间距依次递增，在碳化硅衬底背面覆盖有欧姆金属电极，第二外延层上方覆盖有肖特基金属电极和氧化层；其中，碳化硅衬底、第一外延层、第二外延层掺杂类型为第一导电类型，注入区、过渡区、保护环的掺杂类型都为第二导电类型。
6.优选的，第一导电类型为n型，第二导电类型为p型。
7.优选的，第一导电类型为p型，第二导电类型为n型。
8.本方案还提供了上述具有终端保护装置的碳化硅jbs的制备方法，包括以下步骤：s1,在碳化硅衬底上外延生长形成第一外延层；s2，在第一外延层上表面通过介质薄膜沉积、光刻和刻蚀，形成沟槽结构，再通过沉积的方式进行填充，形成改善设施；完成沉积工艺后对掩模层进行剥离；s3，在第一外延层上外延生长形成第二外延层；s4，通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，通过离子注入形成注入区；通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，通过注入形成过渡区；
使用s2相同的光刻板，通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，在第二外延层上通过离子注入形成保护环；每次离子注入完成后对掩模层进行剥离；s5，在第一外延层下表面通过欧姆接触方式形成欧姆金属电极，并进行退火；之后通过光刻生成的掩膜层，沉积氧化层，以保护终端结构；在第二外延层103上表面通过肖特基接触方式形成肖特基金属电极，并进行退火处理。
9.优选的，步骤s2填充材料选自多晶硅、金属、氧化物中的任意一种。
10.优选的，所述步骤s4通过铝或硼离子注入形成p型注入区，掺杂浓度为1
×
10
16 cm-3
～5
×
10
19 cm-3
；通过铝或硼离子注入形成p型过渡区，掺杂浓度为1
×
10
17 cm-3
～1
×
10
19 cm-3
；通过铝或硼离子注入形成p型保护环，掺杂浓度为1
×
10
18 cm-3
～1
×
10
20 cm-3
。
11.优选的，所述步骤s4通过氮或磷离子注入形成n型注入区，掺杂浓度为1
×
10
16 cm-3
～5
×
10
19 cm-3
；通过氮或磷离子注入形成n型过渡区，掺杂浓度为1
×
10
17 cm-3
～1
×
10
19 cm-3
；通过氮或磷离子注入形成n型保护环，掺杂浓度为1
×
10
18 cm-3
～1
×
10
20 cm-3
。
12.本发明的碳化硅jbs工作时，在肖特基金属电极上施加正压或负压即可实现器件的导通，注入区、过渡区、保护环与第一外延层、第二外延层形成pin结构，增强器件的反向耐压能力。氧化层为终端结构起到保护隔离作用，改善设施则可改善终端电场分布，使其更加均匀。
13.本发明和现有技术相比，具有以下优点：本发明提供了一种具有终端保护装置的碳化硅jbs，通过二次外延，在终端结构下方设计了改善设施，可有效改善终端区的电场分布，缓解电场尖峰现象，提升器件的反向耐压以及可靠性。
附图说明
14.此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本技术的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：图1为本发明步骤s1完成后的碳化硅jbs结构示意图；图2为本发明步骤s2完成后的碳化硅jbs结构示意图；图3为本发明步骤s3完成后的碳化硅jbs结构示意图；图4为本发明步骤s4完成后的碳化硅jbs结构示意图；图5为本发明步骤s5完成后的碳化硅jbs结构示意图；附图中标记及对应的零部件名称：101、碳化硅衬底；102、第一外延层；103、第二外延层；104、注入区；105、过渡区；106、保护环；107、改善设施；108、氧化层；109、肖特基金属电极；110、欧姆金属电极。
具体实施方式
15.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例，对本发明作
进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。
16.实施例1如图1所示，以第一导电类型为n，第二导电类型为p为例，本发明的具有终端保护装置的碳化硅jbs的制备方法包括以下步骤：s1,在碳化硅衬底101上外延生长形成第一外延层102，具体如图1所示；s2，在第一外延层102上表面通过介质薄膜沉积、光刻和刻蚀，形成沟槽结构，再通过沉积的方式进行填充，形成改善设施107。填充材料可为多晶硅、金属、氧化物，完成沉积工艺后对掩模层进行剥离，具体如图2所示；s3，在第一外延层102上外延生长形成第二外延层103，具体如图3所示；s4，通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，通过铝al或硼b离子注入形成p型注入区104，掺杂浓度为1
×
10
16 cm-3
～5
×
10
19 cm-3
。同样地，形成p型过渡区105，掺杂浓度为1
×
10
17 cm-3
～1
×
10
19 cm-3
。使用s2相同的光刻板，通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，在第二外延层103上通过铝al或硼b离子注入形成p型保护环106，掺杂浓度为1
×
10
18 cm-3
～1
×
10
20 cm-3
，该保护环与s2中的改善设施107在纵向方向上分部一致，一一对应，环间距依次递增。每次离子注入完成后都需要对掩模层进行剥离，具体如图4所示；s5，为了防止肖特基接触在高温下损伤，需要先在第一外延层102下表面通过欧姆接触方式形成欧姆金属电极110，并进行高温退火。之后通过光刻生成的掩膜层，沉积氧化层108，以保护终端结构。另外，在第二外延层103上表面通过肖特基接触方式形成肖特基金属电极109，并进行退火处理，具体如图5所示。
17.通过上述方法制备得到的具有终端保护装置的碳化硅jbs如图5所示，包括碳化硅衬底101，在碳化硅衬底101上生长有第一外延层102，在第一外延层102内间隔分布有多个改善设施107，在第一外延层102上表面生长有第二外延层103，在第二外延层103内设有注入区104、过渡区105、保护环106，保护环106与改善设施107在纵向方向上分布一致，环间距依次递增，在碳化硅衬底101背面覆盖有欧姆金属电极110，第二外延层103上方覆盖有肖特基金属电极109和氧化层108；在肖特基金属电极109上施加正压即可实现器件的导通，注入区104、过渡区105、保护环106与第一外延层102、第二外延层103形成pin结构，增强器件的反向耐压能力。氧化层108为终端结构起到保护隔离作用，改善设施107则可改善终端电场分布，使其更加均匀。
18.实施例2本实施例和实施例1的区别在于，第一导电类型为p，第二导电类型为n，具体的，本发明的具有终端保护装置的碳化硅jbs的制备方法包括以下步骤：s1,在碳化硅衬底101上外延生长形成第一外延层102，具体如图1所示；s2，在第一外延层102上表面通过介质薄膜沉积、光刻和刻蚀，形成沟槽结构，再通过沉积的方式进行填充，形成改善设施107。填充材料可为多晶硅、金属、氧化物，完成沉积工艺后对掩模层进行剥离，具体如图2所示；s3，在第一外延层102上外延生长形成第二外延层103，具体如图3所示；s4，通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，通过氮n或磷p离子注入形成n型注入区104，掺杂浓度为1
×
10
16 cm-3
～5
×
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19 cm-3
。同样地，形成n型过渡区105，掺杂浓度为1
×
10
17 cm-3
～1
×
10
19 cm-3
。使用s2相同的光刻板，通过介质薄膜沉积、光刻，形成掩膜氧化层，在第二外延层103上通过氮n或磷p离子注入形成n型保护环106，掺杂浓度为1
×
10
18 cm-3
～1
×
10
20 cm-3
，该保护环与s2中的改善设施107在纵向方向上分部一致，一一对应，环间距依次递增。每次离子注入完成后都需要对掩模层进行剥离，具体如图4所示；s5，为了防止肖特基接触在高温下损伤，需要先在第一外延层102下表面通过欧姆接触方式形成欧姆金属电极110，并进行高温退火。之后通过光刻生成的掩膜层，沉积氧化层108，以保护终端结构。另外，在第二外延层103上表面通过肖特基接触方式形成肖特基金属电极109，并进行退火处理，具体如图5所示。
19.在肖特基金属电极109上施加负压即可实现器件的导通，注入区104、过渡区105、保护环106与第一外延层102、第二外延层103形成pin结构，增强器件的反向耐压能力。氧化层108为终端结构起到保护隔离作用，改善设施107则可改善终端电场分布，使其更加均匀。
20.以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。