半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统的制作方法

1.本发明涉及半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量及分析系统，更具体地，涉及如下的半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统：基于半导体及显示器工艺中的温室气体排出量计算方法(韩国产业标准ks h new2017)中规定的半导体及显示器行业中使用的温室气体减排设施的减排效率测量方法准则(国立环境科学院)而能够自动执行校准和测量方法。


背景技术：

2.目前，以国际标准制定了用于对温室气体的排出及去除进行定量及报告的条规层面的使用规则及指南、用于对温室气体的减排及去除进行定量、监视及报告的项目层面的使用规则及指南、用于对温室气体宣言进行妥当性评价及验证的使用规则及指南。
3.特别地，温室气体排出量及浓度的正确的评价为所有气候变化对应研究的基石，可靠性高的温室气体排出浓度的评价不仅可被用作所有气候变化预测及模型研究的实质性基础资料，而且如果想要进行气候变化应对技术研发、温室气体减排技术研发、减排政策及计划树立等而有效地应对气候变化，则必然需要确保对温室气体产生量的实质且可靠性高的温室气体监视资料。
4.为此，研发了关于温室气体排出量及浓度测量的各种测量系统，在韩国注册专利10-0696163(注册日期2007年03月12日)中研发出如下的对温室气体的排出量进行监视的远程管理系统：其作为能够远程自动管理用于测量地球温室气体(ghg；greenhouse gas)排出量的各种数据的程度管理、不确定性管理、排出量测量等与温室气体排出量测量相关的一系列事项的管理系统，其特征在于，分为监视项目设定步骤、基本环境管理(测量系统管理)步骤、实际温室气体排出量计算步骤、不确定性管理(qa/qc)步骤的4个步骤而执行，为了执行各个步骤，包括具备通信协议的接口部、存储有各种基线方法论及测量数据的数据库服务器、从上述数据库服务器寻找信息并以符合上述信息的方式进行计算的运营服务器，上述运营服务器由提供温室气体排出量计算程序及各种测量程序的程序提供部和对所输入的信息进行处理的运营处理部构成，其通过互联网与一般计算机连接而供使用者在网上接收服务。
5.另外，在韩国注册专利10-1359940(注册日期2014年02月03日)中研发出一种对烟囱排出气体的在线监视系统，其特征在于，其包括：排出气体流入口110，其供排出气体流入；试料收集部200，其通过物理或化学反应而收集吸收液及排出气体；离子分析部400，其将由上述试料收集部200收集的试料内离子性物质通过离子色谱法分离而测量离子成分的浓度；及控制部600，其控制烟囱排出气体的在线监视作业和事先的校准作业，通过标准溶液而在各种浓度范围内生成多点校准曲线，然后针对通过标准气体可测量的范围而测量浓度并存储，根据对存储于上述控制部的程序中的标准气体的浓度测量结果及标准溶液的浓度测量结果进行比较而获得的相关式而生成基于标准气体的校准曲线，从而执行校准。
6.另外，在韩国注册专利10-1662609(注册日期2016年09月28日)中公开了一种具备多个腔的排出气体浓度实时连续监视系统，其特征在于，其包括：多个腔100，它们包括盖、风扇、试料采取口及试料还原口；腔管理部200，其与上述多个腔100连接而控制各个腔100的盖和风扇，监视温度及压力；第一传输线150，其一侧与各个腔100的试料采取口连接；第二传输线160，其一侧与各个腔100的试料还原口连接；多个气体光谱分析部300，它们包括气体入口及气体出口，上述气体入口与上述第一传输线150的另一侧连接而分析从上述第一传输线150流入的气体的成分；多个流量计400，其一侧与上述气体光谱分析部300的气体出口连接，测量从上述气体光谱分析部300排出的气体的流量；多个泵500，它们包括吸入部及喷出部，上述吸入部与上述流量计400的另一侧连接，上述喷出部与上述第二传输线160的另一侧连接；管理部600，其与上述腔管理部200及多个气体光谱分析部300、流量计400及泵500连接而对从上述腔管理部200、气体光谱分析部300及流量计400传送的信息进行管理，并对各个泵500进行控制而控制从试料采取口连接到试料还原口的流路上的气体的流动；及使用者终端部700，其与上述管理部600连接，向上述管理部600传递控制命令，并对从上述管理部600接收的信息进行实时监视，上述多个腔100分为多个腔组，各个腔组具备相同的周期，在彼此不同的时间段密封腔，对相同的腔组内的排出气体在相同的时间段测量排出气体浓度，通过上述使用者终端部700而可进行24小时的连续监视，利用测量腔内气体的摩尔分数的数据而在密封腔的时间期间计算气体排出浓度，根据腔内的气体摩尔分数的变化量而分析腔的密封性能，打开腔并根据腔内的气体摩尔分数与大气中的摩尔分数类似的时间而分析风扇的性能，在一定时间，使各个腔组关闭的时间重叠之后分析关闭腔的时间重叠的区间的数据，在关闭腔的初始时间期间，对腔内的气体摩尔分数的变化量和关闭腔的末期时间期间的腔内气体的摩尔分数的变化量进行比较而判断气体排出浓度测量的可靠性。
7.另外，在韩国公开专利10-2019-0008771(公开日期2019年01月25日)中公开了一种温室气体减排设施的效率测量系统，其作为与qms(quadrupole mass spectrometer，四极杆质谱仪)连接的温室气体减排设施的效率测量系统，其特征在于，上述温室气体减排设施的效率测量系统包括：气体注入口，其注入测量成分；自动校准装置(auto calibration system)，其与上述气体注入口的分支的管路连接，对上述注入的各个测量成分的浓度进行校准；针孔(pin-hole)，其位于将上述气体注入口和上述自动校准装置连接的管路；及自动计算软件(auto calculation s/w)，其分别连接到上述qms及自动校准装置，基于上述各个测量成分的浓度而自动计算减排设施的去除效率(dre)。
8.但是，上述测量系统存在如下问题：无法测量为了生产半导体及显示器而使用的室温中为气体状态的cf4、c2f6、c3f8、c-c4f8、c-c4f8o、c4f6、c5f8、chf3、ch2f2、nf3、sf6等氟化合物和它们的副产物即cf4、c2f6、chf3、c3f8。
9.由此，为了计算对上述cf4、c2f6、c3f8、c-c4f8、c-c4f8o、c4f6、c5f8、chf3、ch2f2、nf3、sf6等氟化合物和n2o等non-co2温室气体的温室气体排出量，2017年12月1日制定了半导体及显示器工艺中的温室气体排出量计算方法(韩国产业标准ks h new2017)。
10.特别地，在上述半导体及显示器工艺中的温室气体排出量计算方法(韩国产业标准ks h new2017)中，应用在国立环境科学院制定的半导体及显示器行业中使用的温室气体减排设施的减排效率测量方法准则而测量温室气体减排设施的减排效率。
11.上述半导体及显示器行业中使用的温室气体减排设施的减排效率测量方法准则适用于测量在半导体及显示器生产工艺中用于蒸镀(cvd)和蚀刻(etch)的各种温室气体(pfcs、hfcs、sf6及n2o等)减排设施的处理效率，如图1所示，规定了如下方式：半导体及显示器工艺设备的正常生产工艺中为了测量流入口及流出口的总流量，向流入口注入kr气体(在工艺中不使用he的情况下，代替kr而可使用he气体)，在减排设施的流入口、流出口使用qms而测量kr气体浓度，利用ft-ir而测量氟系温室气体(f-ghg)的浓度，从而测量减排设施的去除效率(dre)。
12.但是，在基于半导体及显示器行业中使用的温室气体减排设施的减排效率测量方法准则的减排效率测量方法的情况下，目前为止除了qms及ft-ir的相关测量装置之外，qms及ft-ir的校准和减排效率的测量是依靠相应测量方程式及通过手动的手工作业而进行的，对于用于实现自动测量的自动化系统未进行任何研发。


技术实现要素：

13.技术课题
14.本发明是为了解决上述以往问题而研发的，本发明的技术课题在于，提供一种如下的半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统：在半导体及显示器工艺中，基于温室气体排出量计算方法(韩国产业标准ks h new2017)中规定的半导体及显示器行业中使用或产生的温室气体的减排设施的减排效率测量方法准则(国立环境科学院)而自动进行校准和测量方法。
15.用于解决课题的手段
16.本发明为了解决上述课题，作为技术解决方案，提供一种半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统，其特征在于，为了测量半导体及显示器生产工艺中的蒸镀(cvd)和蚀刻(etch)时使用或产生的选自cf4、c2f6、c3f8、c-c4f8、c-c4f8o、c4f6、c5f8、chf3、ch2f2、nf3、sf6的氟化合物或n2o的温室气体的减排设施的减排效率，包括：kr气体供给装置，其用于测量上述减排设施的流入量及流出量；流量控制器(mfc)，其控制上述kr气体的注入量；qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)，其在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量kr气体的浓度，并测量包括上述温室气体的全部气体流量；及ft-ir(fourier transform infrared spectrophotometer；傅立叶变换红外分光光度计)，其在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量上述温室气体的浓度，上述qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)包括显示器单元，通过用于实时(real time)在线分析的自动分析控制软件而向该显示器单元输出分析数据且控制该显示器单元，上述显示器单元包括：模拟扫描(analog sacn)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和离子流(ion current)的实时测量结果；校准(calibration)画面，其利用标准物质而输出校准曲线，相关系数r2为0.98以上，将上述校准曲线中央浓度反复测量5次以上，以相对误差σ小于
±
5％的方式输入校准条件且输出校准曲线；流量监视(flow monitoring)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果；及浓度监视(concentration monitoring)画面，其输出上述全部气体的各个成分的浓度变化曲线图及上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果。
17.作为技术解决方案，上述模拟扫描(analog sacn)画面包括：曲线图输出部，其示出相对于包括上述温室气体的全部气体流量(x轴)的离子流(ion current)(y轴)；流量显示部，其显示包括上述温室气体的全部气体流量；及包括上述温室气体的全部气体的离子流(ion current)显示部。
18.作为技术解决方案，上述校准(calibration)画面包括：上述标准物质浓度控制输入部；流量控制器(mfc)控制输入部；校准曲线输出部，其示出相对于上述标准物质浓度(x轴)的离子流(ion current)(y轴)；校准基准显示部，其示出相关系数r2为0.98以上且相对误差σ为小于
±
5％；及曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的上述标准物质的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
19.作为技术解决方案，上述标准物质是将在上述半导体及显示器生产工艺中产生的废气成分的各个成分以特定浓度混合而制造的气体。
20.作为技术解决方案，上述流量监视(flow monitoring)画面包括：各个时间的流量曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体流量(y轴)；及曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
21.作为技术解决方案，上述浓度监视(concentration monitoring)画面包括：浓度变化曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的浓度(y轴)的变化；及曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
22.发明效果
23.本发明的半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统能够基于半导体及显示器工艺中的温室气体排出量计算方法(韩国产业标准ks h new2017)中规定的半导体及显示器行业中使用或产生的温室气体的减排设施的减排效率测量方法准则(国立环境科学院)而自动执行校准和测量方法，因此与以往的通过测量方程式及手动而进行手工作业的方式相比，具备能够迅速且正确地测量温室气体减排设施的减排效率的优异的效果。
附图说明
24.图1是温室气体减排设施的处理效率测量工序的流程图。
25.图2是示出本发明的模拟扫描(analog sacn)画面的图。
26.图3是示出本发明的校准(calibration)画面的图。
27.图4是示出本发明的流量监视(flow monitoring)画面的图。
28.图5是示出本发明的浓度监视(concentration monitoring)画面的图。
具体实施方式
29.本发明的技术方案的特征在于，一种半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统，为了测量半导体及显示器生产工艺中的蒸镀(cvd)和蚀刻(etch)时使用或产生的选自cf4、c2f6、c3f8、c-c4f8、c-c4f8o、c4f6、c5f8、chf3、ch2f2、nf3、sf6的氟化合物或n2o的温室气体的减排设施的减排效率，包括：kr气体供给装
置，其用于测量上述减排设施的流入量及流出量；流量控制器(mfc)，其控制上述kr气体的注入量；qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)，其在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量kr气体的浓度，并测量包括上述温室气体的全部气体流量；及ft-ir(fourier transform infrared spectrophotometer；傅立叶变换红外分光光度计)，其在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量上述温室气体的浓度，上述qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)包括显示器单元，通过用于实时(real time)在线分析的自动分析控制软件而向该显示器单元输出分析数据且控制该显示器单元，上述显示器单元包括：模拟扫描(analog sacn)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和离子流(ion current)的实时测量结果；校准(calibration)画面，其利用标准物质而输出校准曲线，相关系数r2为0.98以上，将上述校准曲线中央浓度反复测量5次以上，以相对误差σ小于
±
5％的方式输入校准条件且输出校准曲线；流量监视(flow monitoring)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果；及浓度监视(concentration monitoring)画面，其输出上述全部气体的各个成分的浓度变化曲线图及上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果。
30.技术方案的特征在于，上述模拟扫描(analog sacn)画面包括：曲线图输出部，其示出相对于包括上述温室气体的全部气体流量(x轴)的离子流(ion current)(y轴)；流量显示部，其显示包括上述温室气体的全部气体流量；及包括上述温室气体的全部气体的离子流(ion current)显示部。
31.技术方案的特征在于，上述校准(calibration)画面包括：上述标准物质浓度控制输入部；流量控制器(mfc)控制输入部；校准曲线输出部，其示出相对于上述标准物质浓度(x轴)的离子流(ion current)(y轴)；校准基准显示部，其示出相关系数r2为0.98以上且相对误差σ为小于
±
5％；及曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的上述标准物质的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
32.技术方案的特征在于，上述标准物质是将在上述半导体及显示器生产工艺中产生的废气成分的各个成分以特定浓度混合而制造的气体。
33.技术方案的特征在于，上述流量监视(flow monitoring)画面包括：各个时间的流量曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体流量(y轴)；及曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
34.技术方案的特征在于，上述浓度监视(concentration monitoring)画面包括：浓度变化曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的浓度(y轴)的变化；及曲线图输出部，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
35.下面，通过实施例及附图而对本发明进行详细说明，以本领域的技术人员容易实施本发明。但是，本发明可以各种不同的形态来体现，在此不限于所说明的实施例及附图。
36.首先，如图1所示，本发明的半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统为了测量半导体及显示器生产工艺中的蒸镀(cvd)和蚀刻(etch)时使用或产生的选自cf4、c2f6、c3f8、c-c4f8、c-c4f8o、c4f6、c5f8、chf3、ch2f2、
nf3、sf6的氟化合物或n2o的温室气体的减排设施的减排效率，包括：kr气体供给装置，其用于测量上述减排设施的流入量及流出量；流量控制器(mfc)，其控制上述kr气体的注入量；qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)，其在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量kr气体的浓度，并测量包括上述温室气体的全部气体流量；及ft-ir(fourier transform infrared spectrophotometer；傅立叶变换红外分光光度计)，其在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量上述温室气体的浓度，上述qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)包括显示器单元，通过用于实时(real time)在线分析的自动分析控制软件而向该显示器单元输出分析数据且控制该显示器单元。
37.此时，上述显示器单元包括：模拟扫描(analog sacn)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和离子流(ion current)的实时测量结果；校准(calibration)画面，其利用标准物质而输出校准曲线，相关系数r2为0.98以上，将上述校准曲线中央浓度反复测量5次以上，以相对误差σ小于
±
5％的方式输入校准条件且输出校准曲线；流量监视(flow monitoring)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果；及浓度监视(concentration monitoring)画面，其输出上述全部气体的各个成分的浓度变化曲线图及上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果。
38.在此，关于利用上述qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)的标准物质的校准，在基于在半导体及显示器行业中使用或产生的温室气体的减排设施的减排效率测量方法准则(国立环境科学院)而进行的校准和测量方法中，ft-ir和qms校准均以利用校准装置和标准物质(最少为二次标准物质以上)而测量8点校准点(calibration point)之后生成校准曲线为原则，该校准方法在unfccc lcd产业sf 6减排相关cdm事业认可方法论即am0078(point of use abatement deviceto reduce sf6 emissions in lcd manufacturing operations)中使用。(如果，以5点校准点进行测量，只要满足相关系数r2为0.98以上，则可使用)。
39.对上述校准步骤简单地概括如下：校准点的浓度是控制校准装置内的流量控制器的流量而调整的，最高的浓度的校准点为未稀释的标准物质的浓度。其以下校准点的浓度是提高稀释气体(balance gas n2，5n)的流量并均等地降低来测量8点，由此实施对直线性的校准。
40.此时，关于各个校准点的测量数据，使用最少20点以上的测量平均值。当完成直线性校准，将校准曲线的正中央浓度反复测量5次以上而使相对误差σ小于
±
5％。
41.但是，如上述，准备校准曲线依赖于数学式及手工作业的方式，因此存在不能迅速、正确地测量温室气体减排设施的减排效率的问题，因此本发明为了解决该问题，本发明中使用的qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)包括显示器单元，通过用于进行实时(real time)在线分析的自动分析控制软件而向该显示器单元输出分析数据且控制该显示器单元，上述显示器单元包括：模拟扫描(analog sacn)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和离子流(ion current)的实时测量结果；校准(calibration)画面，其利用标准物质而输出校准曲线，相关系数r2为0.98以上，将上述校准曲线中央浓度反复测量5次以上而以相对误差σ小于
±
5％的方式输入校准条件及输出校准曲线；流量监视(flow monitoring)画面，其输出包括上述温室气体的全部气体流量和上述全部气体的各
个成分的离子流(ion current)的实时测量结果；浓度监视(concentration monitoring)画面，其输出上述全部气体的各个成分的浓度变化曲线图及上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)的实时测量结果，由此，作为特征性结构及效果，能够进行qms的自动校准、包括上述温室气体的全部气体流量的自动测量及减排效率的自动测量。
42.在此，上述qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)进行qms的自动校准、包括上述温室气体的全部气体流量的自动测量及减排效率的自动测量，并通过用于进行实时(real time)在线分析的自动分析控制软件而执行。
43.另外，关于上述减排效率，将在减排设施的流入口和流出口在工艺周期期间同时测量的包括温室气体的气体总量用qms累计的同时，分别计算通过ft-ir而测量的各个温室气体的总量，其计算算法如下，这是通过自动分析控制软件而执行的。
44.减排效率(dre)＝(1-vout/vin)*100％
45.vin:在正常运行的工艺周期期间流入减排设施的各个温室气体的总量(sl-standard liter(标准公升))
46.vout:在正常运行的工艺周期期间由减排设施流出的各个温室气体的总量(sl-standard liter(标准公升))
47.在上述公式中，vin和vout为在一定时间期间在流入口/流出口处测量的f-ghg(氟化温室气体)的总累计流量，通过下面的公式而进行计算。
[0048][0049]
(vi:通过in和out表示(sl)，δt:ft-it的测量周期，fi:总流量(slm)，ci:fghf气体测量浓度(ppmv))
[0050]
特别地，在本发明中，通过测量温室气体的量的ft-ir和测量包括该气体的整个流量的qms系统的组合构成，例如，虽然测量了90％的温室气体减排量，但如果稀释量增加到10倍，则只能实现9％的减排。
[0051]
因此，在本发明中，通过上述qms(quadrupole mass spectrometer；四极杆质谱仪)而测量为了校正通过稀释而导致的减排而使用的示踪气体(tracer gas)的总量并反映到减排量的测量，此时使用于稀释量测量的示踪气体(tracer gas)使用于整个工艺或使用无法产生副产物的气体(gas)(代表性的为kr)，因此使用可测量单原子分子气体的qms。
[0052]
另一方面，参照图2，在本发明中，上述模拟扫描(analog sacn)画面包括：曲线图输出部101，其示出相对于包括上述温室气体的全部气体流量(x轴)的离子流(ion current)(y轴)；流量显示部102，其示出包括上述温室气体的全部气体流量；包括上述温室气体的全部气体的离子流(ion current)显示部103。
[0053]
即，在上述模拟扫描(analog sacn)画面中，一律地测量包括温室气体的全部气体流量及离子流(ion current)的总量而输出。
[0054]
另外，如图3所示，上述校准(calibration)画面包括：上述标准物质浓度控制输入部201；流量控制器(mfc)控制输入部202；校准曲线输出部203，其示出相对于上述标准物质浓度(x轴)的离子流(ion current)(y轴)；校准基准显示部204，其示出相关系数r2为0.98以上且相对误差σ小于
±
5％；曲线图输出部205，其示出相对于测量时间(x轴)的上述标准
物质的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
[0055]
即，上述校准(calibration)画面为了验证从上述模拟扫描(analog sacn)画面输出的包括温室气体的全部气体流量及离子流(ion current)的总量，利用标准物质而输出校准曲线，自动运算上述校准曲线的直线性(相关系数，r2)和校准曲线点值的相对标准偏差σ，当直线性(相关系数，r2)值为0.98以上，即r2≥0.98，相对标准偏差σ值为
±
5％以下时，即满足σ≤
±
5％时，执行以下说明的流量监视(flow monitoring)，在未达到水平时，重新输入校准条件而重新测量。
[0056]
此时，关于所使用的上述标准物质，使用将上述半导体及显示器生产工艺中产生的废气成分的各个成分以特定浓度混合而制造的气体。
[0057]
另外，如图4所示，上述流量监视(flow monitoring)画面包括：各个时间的流量曲线图输出部301，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体流量(y轴)；曲线图输出部302，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
[0058]
即，当满足输出到校准(calibration)画面的校准曲线的直线性(相关系数，r2)值为0.98以上、相对标准偏差σ值为
±
5％以下的校准基准时，测量包括上述温室气体的全部气体流量和上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)。
[0059]
另外，如图5所示，上述浓度监视(concentration monitoring)画面包括：浓度变化曲线图输出部401，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的浓度(y轴)的变化；及曲线图输出部402，其示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的离子流(ion current)(y轴)。
[0060]
此时，上述浓度监视(concentration monitoring)画面中，示出相对于测量时间(x轴)的包括上述温室气体的全部气体的各个成分的浓度(y轴)的变化的浓度变化曲线图表示几乎均匀的趋势的情况下，可测量到均匀的减排效率。
[0061]
如上所述，在上述减排设施的流入口及流出口处分别测量包括上述温室气体的全部气体流量和上述全部气体的各个成分的离子流(ion current)、基于ft-ir的温室气体的浓度而测量减排效率。
[0062]
以上的说明仅为对本发明的技术思想的例示性的说明，本领域的技术人员可在不脱离本发明的本质特性的范围内进行各种修改及变形。因此，本发明所公开的实施例及附图并非限定本发明的技术思想，而是对本发明进行说明，本发明的技术思想的范围不限于这样的实施例及附图。本发明的保护范围应通过下面的权利要求书来进行解释，与此相同的范围内的所有技术思想均包括在本发明的权利范围中。
[0063]
产业上的利用可能性
[0064]
本发明的半导体及显示器工艺中排出的温室气体的减排设施的减排效率自动测量分析系统能够基于半导体及显示器工艺中的温室气体排出量计算方法(韩国产业标准ks h new2017)中规定的半导体及显示器行业中使用或产生的温室气体的减排设施的减排效率测量方法准则(国立环境科学院)而自动执行校准和测量方法，因此与以往的通过测量方程式及手动而进行手工作业的方式相比，具备能够迅速且正确地测量温室气体减排设施的减排效率的优异的效果，因此可在产业上进行利用。