光致抗蚀剂面漆组合物及图案形成方法与流程

技术特征：
1.一种面漆组合物，其包含：包括衍生自一种或多种式(1)的单体的重复单元的聚合物；和溶剂，其中，在式(1)中，z1和z2各自独立地是单键或包含以下中的一个或多个的二价连接基团：取代或未取代的c
1-30
亚烷基、取代或未取代的c
1-30
亚杂烷基、取代或未取代的c
3-30
亚环烷基、取代或未取代的c
2-30
亚杂环烷基、取代或未取代的c
6-30
亚芳基、取代或未取代的c
1-30
杂亚芳基、-o-、-c(o)-、-n(r3)-、-s-、或-s(o)
2-，其中r3是氢、取代或未取代的c
1-30
烷基、取代或未取代的c
3-30
环烷基、取代或未取代的c
2-30
杂环烷基、取代或未取代的c
6-30
芳基、取代或未取代的c
7-30
芳基烷基、取代或未取代的c
1-30
杂芳基、或取代或未取代的c
2-30
杂芳基烷基，任选地，z1和z2通过z1和z2之间的单键或双键一起形成环，r1和r2各自独立地是取代或未取代的c
1-30
烷基、取代或未取代的c
1-30
杂烷基、取代或未取代的c
3-30
环烷基、取代或未取代的c
2-30
杂环烷基、取代或未取代的c
2-30
烯基、取代或未取代的c
6-30
芳基、取代或未取代的c
7-30
芳基烷基、取代或未取代的c
7-30
烷基芳基、取代或未取代的c
1-30
杂芳基、取代或未取代的c
2-30
杂芳基烷基、取代或未取代的c
2-30
烷基杂芳基、-or4、或-n(r5)2，其中r4和r5各自独立地是取代或未取代的c
1-30
烷基、取代或未取代的c
1-30
杂烷基、取代或未取代的c
3-30
环烷基、取代或未取代的c
2-20
杂环烷基、取代或未取代的c
6-30
芳基、取代或未取代的c
7-30
芳基烷基、取代或未取代的c
7-30
烷基芳基、取代或未取代的c
1-30
杂芳基、取代或未取代的c
2-30
杂芳基烷基、或取代或未取代的c
2-30
烷基杂芳基，任选地，r1和r2通过单键或二价连接基团一起形成环，l是单键或多价连接基团，任选地，l是多价连接基团，其进一步包括下式的附加基团：并且p是可聚合基团。2.如权利要求1所述的面漆组合物，其中，所述聚合物包括衍生自一种或多种式(1a)的单体的重复单元：
其中，r
a
是氢、氟、氰基、取代或未取代的c
1-10
烷基、或取代或未取代的c
1-10
氟烷基；l是单键或多价连接基团；任选地，l是多价连接基团，其进一步包括下式的附加基团：z1和z2相同，其中z1和z2选自单键、-o-、包括式-c(o)-的基团的二价连接基团、或包括式-c(o)-o-的基团的二价连接基团；r1和r2各自独立地是取代或未取代的c
1-30
烷基；以及任选地，r1和r2通过单键或二价连接基团一起形成环。3.如权利要求1或2所述的面漆组合物，其中，l是单键或选自以下中的一个或多个的二价连接基团：取代或未取代的c
1-30
亚烷基、取代或未取代的c
3-30
亚环烷基、取代或未取代的c
2-30
亚杂环烷基、取代或未取代的c
6-30
亚芳基、取代或未取代的二价c
7-30
芳基烷基、取代或未取代的c
1-30
杂亚芳基、或取代或未取代的二价c
2-30
杂芳基烷基、-o-、-c(o)-、-c(o)-o-、-c(o)-n(r
2b
)-、-s-、-s(o)
2-、或-n(r
2b
)-s(o)
2-，其中r
2b
是氢、直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、或单环或多环的c
2-20
杂环烷基。4.如权利要求1至3中任一项所述的面漆组合物，其中，l是式-c(o)-c
1-10
亚烷基-o-的基团；z1和z2各自是-o-；以及r1和r2各自独立地是取代或未取代的c
1-30
烷基。5.如权利要求1至4中任一项所述的面漆组合物，其进一步包含：具有衍生自一种或多种式(2a)、(2b)、(2c)、(2d)或(2e)的单体的重复单元的聚合物：
其中，r
a
是氢、氟、氰基、取代或未取代的c
1-10
烷基、或取代或未取代的c
1-10
氟烷基；r7至r
12
各自独立地是氢、直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、单环或多环的c
2-20
杂环烷基、直链或支链的c
2-20
烯基、单环或多环的c
3-20
环烯基、单环或多环的c
3-20
杂环烯基、单环或多环的c
6-20
芳基、或单环或多环的c
1-20
杂芳基，其中的每一个是取代或未取代的；其前提是r7至r9中仅一个能是氢并且r
10
至r
12
中仅一个能是氢；r7至r9中的任何两个一起任选地形成环，并且r7至r9中的每一个任选地进一步包括作为其结构的一部分的选自-o-、-c(o)-、-c(o)-o-、-s-、-s(o)
2-、和-n(r
19
)-s(o)
2-中的一个或多个基团，其中r
19
是氢、直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、或单环或多环的c
2-20
杂环烷基；r
10
至r
12
中的任何两个一起任选地形成环，并且r
10
至r
12
中的每一个任选地进一步包括作为其结构的一部分的选自-o-、-c(o)-、-c(o)-o-、-s-、-s(o)
2-、和-n(r
20
)-s(o)
2-的一个或多个基团，其中r
20
是氢、直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、或单环或多环的c
2-20
杂环烷基；l1是包括至少一个碳原子、至少一个杂原子或其组合的二价连接基团；r
13
至r
14
各自独立地是氢、直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、单环或多环的c
2-20
杂环烷基、单环或多环的c
6-20
芳基、或单环或多环的c
1-20
杂芳基，其中的每一个除氢以外是取代或未取代的；r
15
是直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、或单环或多环的c
2-20
杂环烷基，其中的每一个是取代或未取代的，其中r
13
或r
14
之一任选地与r
15
一起形成杂环；r
16
至r
18
各自独立地是直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、单环或多环的c
2-20
杂环烷基、单环或多环的c
6-20
芳基、或单环或多环的c
1-20
杂芳基，其中的每一个是取代或未取代的；r
16
至r
18
中的任何两个一起任选地形成环，并且r
16
至r
18
中的每一个任选地进一步包括作为其结构的一部分的选自-o-、-c(o)-、-c(o)-o-、-s-、-s(o)
2-、和-n(r
21
)-s(o)
2-的一个或多个基团，其中r
21
是氢、直链或支链的c
1-20
烷基、单环或多环的c
3-20
环烷基、或单环或多环的c
2-20
杂环烷基；x
a
是选自降冰片基和乙烯基的可聚合基团；n是0或1；以及l2是单键或二价连接基团，其前提是当x
a
是乙烯基时，l2不是单键。6.如权利要求1至5中任一项所述的面漆组合物，其中，所述聚合物进一步包括衍生自式(iii)的单体、式(iv)的单体、或其组合的重复单元：
其中，r
a
是氢、氟、氰基、取代或未取代的c
1-10
烷基、或取代或未取代的c
1-10
氟烷基；r
200
是取代或未取代的c
1-20
烷基、取代或未取代的c
3-30
环烷基；或取代或未取代的聚(c
1-3
环氧烷)；r
201
是直链、支链或环状的c
1-20
氟烷基；l
201
是单键或多价连接基团；以及m是1至5的整数。7.如权利要求1至6中任一项所述的面漆组合物，其中，基质聚合物包括衍生自一种或多种式(1)的单体的重复单元；表面活性聚合物包括衍生自一种或多种式(1)的单体的重复单元；或其组合。8.如权利要求1至7中任一项所述的面漆组合物，其进一步包含：光酸产生剂或热酸产生剂。9.一种经涂覆的基底，其包括：在基底上的光致抗蚀剂层；和形成在所述光致抗蚀剂层上的面漆层，其中所述面漆层衍生自如权利要求1至8中任一项所述的面漆组合物。10.一种图案形成方法，其包括：在基底之上形成光致抗蚀剂层；在所述光致抗蚀剂层之上形成面漆层，其中所述面漆层由如权利要求1至8中任一项所述的面漆组合物形成；将所述面漆层和所述光致抗蚀剂层以图案方式暴露于活化辐射；以及使经暴露的面漆层和经暴露的光致抗蚀剂层与显影剂接触以形成抗蚀剂图案。

技术总结
一种面漆组合物，其包含包括衍生自一种或多种式(1)的单体的重复单元的聚合物；和溶剂，其中，Z1、Z2、R1、R2、和L是如本文所描述的，并且P是可聚合基团。并且P是可聚合基团。


技术研发人员：J
受保护的技术使用者：杜邦电子公司
技术研发日：2021.12.27
技术公布日：2022/7/1