1.本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体为一种真空镀膜机腔体冷却装置。
背景技术：
2.真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
3.现有的真空镀膜机腔体内的工件盘，而放置在工件盘上的基片在镀膜完成后，基片自身具备一定温度，但是现有的通常不具备冷却工序，直接取出，为此，本实用新型提供了一种真空镀膜机腔体冷却装置。
技术实现要素：
4.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种真空镀膜机腔体冷却装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种真空镀膜机腔体冷却装置，包括腔体，所述腔体内表面的顶部固定连接有工件盘，所述腔体内表面的左右两侧均设有冷却机构，且冷却机构包括两个对称分布的半导体制冷片，两个所述半导体制冷片之间设有马达，且马达输出轴靠近工件盘的一端固定连接有转动扇，所述腔体内表面顶部的左右两侧均固定连接有弧形过滤板。
6.优选的，所述马达远离工件盘的一端与腔体的内壁固定连接。
7.优选的，两个所述弧形过滤板呈对称分布，且弧形过滤板的另一侧与腔体的内壁固定连接。
8.有益效果
9.本实用新型提供了一种真空镀膜机腔体冷却装置。与现有技术相比具备以下有益效果：
10.该真空镀膜机腔体冷却装置，在基片镀膜完成后，半导体制冷片开设制冷，并且由马达转动带动转动扇转动，将冷气吹至工件盘方向，配合弧形过滤板的设置，冷气流经过弧形过滤板的缓冲使得冷气流更加和缓均匀，实现对工件盘上的基片进行冷却。
附图说明
11.图1为本实用新型的主视图。
12.图中：1、腔体；2、工件盘；3、冷却机构；31、半导体制冷片；32、马达；33、转动扇；34、弧形过滤板。
具体实施方式
13.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行
清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
14.请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种真空镀膜机腔体冷却装置，包括腔体1，腔体1内表面的顶部固定连接有工件盘2，腔体1内表面的左右两侧均设有冷却机构3，且冷却机构3包括两个对称分布的半导体制冷片31，两个半导体制冷片31之间设有马达32，马达32远离工件盘2的一端与腔体1的内壁固定连接，且马达32输出轴靠近工件盘2的一端固定连接有转动扇33，腔体1内表面顶部的左右两侧均固定连接有弧形过滤板34，两个弧形过滤板34呈对称分布，且弧形过滤板34的另一侧与腔体1的内壁固定连接；
15.在基片镀膜完成后，半导体制冷片31开设制冷，并且由马达32转动带动转动扇33转动，将冷气吹至工件盘2方向，配合弧形过滤板34的设置，冷气流经过弧形过滤板34的缓冲使得冷气流更加和缓均匀，实现对工件盘2上的基片进行冷却。
16.同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
17.需要说明的是，在本文中，“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变，则相对位置关系可能发生改变，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
18.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
技术特征：
1.一种真空镀膜机腔体冷却装置，包括腔体(1)，所述腔体(1)内表面的顶部固定连接有工件盘(2)，其特征在于：所述腔体(1)内表面的左右两侧均设有冷却机构(3)，且冷却机构(3)包括两个对称分布的半导体制冷片(31)，两个所述半导体制冷片(31)之间设有马达(32)，且马达(32)输出轴靠近工件盘(2)的一端固定连接有转动扇(33)，所述腔体(1)内表面顶部的左右两侧均固定连接有弧形过滤板(34)。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机腔体冷却装置，其特征在于：所述马达(32)远离工件盘(2)的一端与腔体(1)的内壁固定连接。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机腔体冷却装置，其特征在于：两个所述弧形过滤板(34)呈对称分布，且弧形过滤板(34)的另一侧与腔体(1)的内壁固定连接。
技术总结
本实用新型公开了一种真空镀膜机腔体冷却装置，包括腔体，腔体内表面的顶部固定连接有工件盘，腔体内表面的左右两侧均设有冷却机构，且冷却机构包括两个对称分布的半导体制冷片，两个半导体制冷片之间设有马达，且马达输出轴靠近工件盘的一端固定连接有转动扇，腔体内表面顶部的左右两侧均固定连接有弧形过滤板，该真空镀膜机腔体冷却装置，在基片镀膜完成后，半导体制冷片开设制冷，并且由马达转动带动转动扇转动，将冷气吹至工件盘方向，配合弧形过滤板的设置，冷气流经过弧形过滤板的缓冲使得冷气流更加和缓均匀，实现对工件盘上的基片进行冷却。基片进行冷却。基片进行冷却。
技术研发人员：孙瑞雪 张一帆
受保护的技术使用者：聚能纳米科技（苏州）有限公司
技术研发日：2022.03.17
技术公布日：2022/6/27
再多了解一些
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