一种提高镁合金表面微弧多孔氧化镁涂层抗腐蚀性的方法

技术特征：
1.一种提高镁合金表面微弧多孔氧化镁涂层抗腐蚀性的方法，其特征在于，所述微弧多孔氧化镁涂层的物相包括氧化镁；所述方法为：将覆盖微弧多孔氧化镁涂层的镁合金浸泡于锰离子溶液中，在镁合金表面得到多孔非晶态羟基氧化锰涂层；优选地，所述锰离子溶液为硝酸锰和/或氯化锰溶液，溶剂为水。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多孔非晶态金属羟基氧化锰涂层在腐蚀中与微弧多孔氧化镁涂层自发反应生成mg/mn层状双氢氧化物以封住微弧多孔氧化镁涂层的微孔，从而提高微弧氧化涂层的抗腐蚀性。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述锰离子溶液的浓度为2～40 g/l。4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述浸泡的温度为20～40℃，所述浸泡的时间为3～9 小时。5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，将去掉表面氧化镁的镁合金片作为基底，使用去离子水配置5～15g/l的甘油磷酸钠和10～15g/l氢氧化钾混合溶液以作为微弧氧化所用的电解液进行微弧氧化，制得所述微弧多孔氧化镁涂层。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述微弧氧化参数为：电压320～360v、电流0.6～1.0a、占空比8～12%、频率800～1200hz。7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述微弧多孔氧化镁涂层的，孔径范围为0.1～1.8μm。8.一种根据权利要求1-7中任一项所述方法在镁合金表面制备的微弧多孔氧化镁抗腐蚀性涂层，其特征在于，所述微弧多孔氧化镁抗腐蚀性涂层包括：微弧多孔氧化镁涂层，以及原位形成在微弧多孔氧化镁涂层上的非晶态羟基氧化锰涂层。9.根据权利要求8所述的微弧多孔氧化镁抗腐蚀性涂层，其特征在于，所述微弧多孔氧化镁抗腐蚀性涂层中锰元素原子质量百分比为4.35%～14.74%。10.根据权利要求8或9所述的微弧多孔氧化镁抗腐蚀性涂层，其特征在于，所述微弧多孔氧化镁抗腐蚀性涂层的总厚度为3μm～7μm。

技术总结
本发明涉及一种提高镁合金表面微弧多孔氧化镁涂层抗腐蚀性的方法。所述微弧多孔氧化镁涂层的物相包括氧化镁；所述方法为：将覆盖微弧多孔氧化镁涂层的镁合金浸泡于锰离子溶液中，在镁合金表面得到多孔非晶态羟基氧化锰涂层；优选地，所述锰离子溶液为硝酸锰和/或氯化锰溶液，溶剂为水。溶剂为水。溶剂为水。


技术研发人员：刘宣勇 张冬冬
受保护的技术使用者：中国科学院上海硅酸盐研究所
技术研发日：2020.12.24
技术公布日：2022/6/24