曝光机的制作方法

1.本发明涉及半导体集成电路制造技术，尤其涉及一种曝光机。


背景技术：

2.曝光机是指通过uva波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。
3.相关技术中，曝光机上设置有凹陷部，凹陷部的顶部具有顶部敞口，凹陷部的前侧具有前侧敞口，凹陷部的内部设置可活动的放置台，曝光机外的掩膜版可以从顶部敞口或者前侧敞口置于放置台上，进而进入到曝光机的内部。
4.然而，环境中的颗粒物可以从顶部敞口进入到放置台上，进而随放置台上的掩膜版进入到曝光机内，污染掩膜版，降低晶圆曝光的产品良率。


技术实现要素：

5.鉴于上述问题，本发明提供一种曝光机，以解决掩膜版污染，进而解决晶圆曝光的产品良率低的问题。
6.为了实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：
7.本发明实施例提供一种曝光机，其包括机台、遮挡装置以及驱动装置；机台设置有凹陷部，凹陷部具有顶部敞口，凹陷部内设置有基座和放置台，放置台可升降的设置在基座上，放置台用于承载掩膜版载具，掩膜版载具内装载有掩膜版，掩膜版载具能够从顶部敞口置于放置台上；机台上还设置有驱动装置和可活动的遮挡装置，驱动装置与遮挡装置连接，遮挡装置处于初始位置时，遮挡装置遮挡顶部敞口，当掩膜版载具需要从顶部敞口置于放置台上时，驱动装置打开遮挡装置，并暴露出顶部敞口，以使掩膜版载具能够从顶部敞口置于放置台上。
8.与现有技术相比，本发明提供的曝光机具有如下优点：
9.本发明实施例的曝光机，机台的凹陷部内设置基座和放置台，放置台可升降的设置在基座上，机台上还设置驱动装置和可活动的遮挡装置，遮挡装置在初始位置时，遮挡凹陷部的顶部敞口，当掩膜版载具需要从顶部敞口置于放置台上时，驱动装置打开遮挡装置，暴露出顶部敞口，如此，不仅可以在掩膜版载具需要从顶部敞口置于放置台上时，使得驱动装置打开遮挡装置，顶部敞口暴露，掩膜版载具可以顺利放置在放置台上，而且在掩膜版载具不需要从顶部敞口置于放置台上时，可以使得遮挡装置关闭顶部敞口，有效防止颗粒物从顶部敞口进入到凹陷部内的放置台上，使得掩膜版上几乎没有颗粒物，晶圆曝光后的产品良率提升。
10.在一些实施方式中，曝光机还包括传动装置，传动装置包括相啮合的齿轮和齿条；遮挡装置包括挡板，挡板与齿条紧固连接；驱动装置包括电机，电机的输出轴上设置齿轮。
11.在一些实施方式中，传动装置包括相啮合的第一齿轮和第一齿条，以及相啮合的第二齿轮和第二齿条；遮挡装置包括可相向或相背移动的第一挡板和第二挡板，第一挡板
的边缘设置第一齿条，第二挡板的边缘设置第二齿条；驱动装置包括第一电机和第二电机，第一电机的输出轴设置第一齿轮，第二电机的输出轴设置第二齿轮。
12.在一些实施方式中，第一挡板设置有第一通孔和第二通孔，第一通孔位于第一挡板靠近第二挡板的边缘，第二通孔位于第一挡板远离第二挡板的边缘；第二挡板设置有第三通孔和第四通孔，第三通孔位于第二挡板靠近第一挡板的边缘，第四通孔位于第二挡板远离第一挡板的边缘；顶部敞口的第一边缘设置有第一光电传感器和第二光电传感器，顶部敞口的第二边缘设置有第三光电传感器和第四光电传感器；当第一光电传感器发出的光从第一通孔射出时，且当第三光电传感器发出的光从第三通孔射出时，第一光电传感器和第三光电传感器检测到驱动装置已经完全打开了顶部敞口的第一挡板和第二挡板；当第二光电传感器发出的光从第二通孔射出时，且当第四光电传感器发出的光从第四通孔射出时，第二光电传感器和第四光电传感器检测到驱动装置已经完全关闭了顶部敞口的第一挡板和第二挡板。
13.在一些实施方式中，第一挡板设置有第一反光区域和第二反光区域，第一反光区域位于第一挡板靠近第二挡板的边缘，第二反光区域位于第一挡板远离第二挡板的边缘；第二挡板设置有第三反光区域和第四反光区域，第三反光区域位于第二挡板靠近第一挡板的边缘，第四反光区域位于第二挡板远离第一挡板的边缘；顶部敞口的第一边缘设置有第一光电传感器和第二光电传感器，顶部敞口的第二边缘设置有第三光电传感器和第四光电传感器；当第一光电传感器发出的光被第一反光区域反射时，且当第三光电传感器发出的光被第三反光区域反射时，第一光电传感器和第三光电传感器检测到驱动装置已经完全打开了顶部敞口的第一挡板和第二挡板；当第二光电传感器发出的光被第二反光区域反射时，且当第四光电传感器发出的光被第四反光区域反射时，第二光电传感器和第四光电传感器检测到驱动装置已经完全关闭顶部敞口的第一挡板和第二挡板。
14.在一些实施方式中，曝光机还包括运转装置；运转装置包括运转轨道和运转车，运转车设置在运转轨道上，且运转车能够沿运转轨道往复运动，运转轨道设置在机台的上方，运转车还能够抓取和释放掩膜版载具。
15.在一些实施方式中，凹陷部还具有前侧敞口；曝光机还包括两个门板，两个门板分别枢装在机台的前侧敞口的两个相对边缘，以打开或封闭前侧敞口。
16.在一些实施方式中，门板或者前侧敞口的底部边缘设置有插孔，插孔中设置有使门板保持封闭前侧敞口的插销。
17.在一些实施方式中，每个门板上设置有接近开关，接近开关具有第一状态和第二状态，在第一状态下，接近开关能够使得门板保持封闭前侧敞口，在第二状态下，接近开关能够使得门板被打开。
18.在一些实施方式中，曝光机还包括控制单元，控制单元与运转装置、驱动装置、放置台信号连接；曝光机具有自动模式，在自动模式下：当运转车运动到靠近顶部敞口的第一位置时，控制单元控制驱动装置完全打开顶部敞口的遮挡装置，且控制放置台上升，以及控制运转车将携带的掩膜版载具置于放置台上。
19.在一些实施方式中，控制单元还与接近开关信号连接；在自动模式下：当运转车运动到靠近顶部敞口的第一位置时，且当接近开关处于第一状态时，控制单元控制驱动装置完全打开顶部敞口的遮挡装置，且控制放置台上升，以及控制运转车将携带的掩膜版载具
置于放置台上。
20.在一些实施方式中，曝光机还包括与控制单元信号连接的自动模式指示灯；在自动模式下：当接近开关处于第一状态时，且当第一光电传感器和第三光电传感器检测到驱动装置完全打开顶部敞口的遮挡装置时，控制单元控制自动模式指示灯发光。
21.在一些实施方式中，曝光机还包括与控制单元信号连接的报警装置，报警装置用于发出报警信号；在自动模式下：当接近开关处于第二状态时，控制单元控制报警装置发出报警信号。
22.在一些实施方式中，曝光机具有手动模式，在手动模式下：控制单元控制驱动装置关闭顶部敞口的遮挡装置，且控制接近开关处于第二状态，以及控制放置台下降，以使掩膜版载具能够从前侧敞口置于放置台上。
23.在一些实施方式中，曝光机还包括与控制单元信号连接的手动模式指示灯；在手动模式下：当第二光电传感器和第四光电传感器检测到驱动装置完全关闭顶部敞口的遮挡装置时，且当接近开关处于第二状态时，控制单元控制手动模式指示灯发光。
24.除了上面所描述的本发明实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外，本发明提供的曝光机所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将在具体实施方式中作出进一步详细的说明。
附图说明
25.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
26.图1为本实施例的曝光机去除遮挡装置和门板后的结构示意图；
27.图2为本实施例的曝光机的剖视图一；
28.图3为本实施例的曝光机的剖视图二；
29.图4为本实施例中伺服电机的示意图；
30.图5为图4中的编码圆盘的剖视图；
31.图6为本实施例的曝光机的剖视图三；
32.图7为本实施例的曝光机的示意图；
33.图8为本实施例的曝光机在自动模式下放置掩膜版的流程图；
34.图9为本实施例的曝光机在手动模式下放置掩膜版的流程图；
35.图10为本实施例的曝光机在自动模式下控制遮挡装置和接近开关的控制方法流程图；
36.图11为本实施例的曝光机在手动模式下控制遮挡装置和接近开关的控制方法流程图；
37.图12为本实施例的曝光机内晶圆上颗粒物数量和现有技术的曝光机内晶圆上颗粒物数量的示意图。
38.附图标记说明：
39.100：机台；
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101：凹陷部；
40.102：顶部敞口；
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103：基座；
41.104：放置台；
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105：第一光电传感器；
42.106：第二光电传感器；
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107：第三光电传感器；
43.108：第四光电传感器；
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109：前侧敞口；
44.110：门板；
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111：转动轴；
45.112：插销；
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113：接近开关；
46.200：遮挡装置；
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201：第一挡板；
47.202：第二挡板；
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203：第一反光区域；
48.204：第二反光区域；
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205：第三反光区域；
49.206：第四反光区域；
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300：驱动装置；
50.301：输入轴；
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302：编码圆盘；
51.303：黑色条纹；
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304：光源；
52.305：受光元件；
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306：第一电机；
53.307：第二电机；
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400：掩膜版载具；
54.500：传动装置；
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501：第一齿轮；
55.502：第一齿条；
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503：第二齿轮；
56.504：第二齿条；
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600：运转装置；
57.601：运转轨道；
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602：运转车；
58.700：控制单元；
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80a：自动模式指示灯；
59.80b：手动模式指示灯；
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900：报警装置。
具体实施方式
60.相关技术中，曝光机上设置有凹陷部，凹陷部的顶部具有顶部敞口，凹陷部的前侧具有前侧敞口，凹陷部的内部设置可活动的放置台，曝光机外的掩膜版可以从顶部敞口或者前侧敞口置于放置台上，进而进入到曝光机的内部。
61.然而，环境中的颗粒物可以从顶部敞口进入到放置台上，进而污染放置台上的掩膜版，使得晶圆曝光后的产品良率降低。为此，本发明实施例提供一种曝光机，该曝光机包括机台、遮挡装置以及驱动装置，机台设置有凹陷部，凹陷部具有顶部敞口，凹陷部内设置基座和放置在基座上的放置台，机台上还设置驱动装置和可活动的遮挡装置，驱动装置和遮挡装置传动连接，遮挡装置在初始位置时，遮挡装置遮挡顶部敞口，以防止颗粒物从顶部敞口进入到放置台上，当掩膜版需要从顶部敞口置于放置台上时，驱动装置打开遮挡装置，并暴露出顶部敞口，此时，掩膜版可以顺利的从顶部敞口放置在放置台上，且放置台上的掩膜版上几乎无颗粒物，晶圆曝光后的产品良率高。
62.为了使本发明实施例的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本发明保护的范围。本说明书中各实施例或实施方式采用递进的方式描述，每个实施例重点说
明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分相互参见即可。
63.请参阅图1，本实施例提供一种曝光机，其包括机台100，机台100设置有凹陷部101，凹陷部101具有顶部敞口102，凹陷部101内设置有基座103和放置台104，放置台104可升降的设置在基座103上，放置台104用于承载掩膜版载具400，掩膜版载具400内装载有掩膜版，掩膜版载具400能够从顶部敞口102置于放置台104上。
64.请参阅图2、图3和图4，机台100上还设置有驱动装置300和可活动的遮挡装置200，遮挡装置200可以采用透明的树脂制备，树脂制备的遮挡装置200的厚度可以为1mm，树脂制备的遮挡装置200具有重量轻、抗冲击力强的优点，一般的树脂的密度是0.83-1.5g/cm3，而光学玻璃的密度是2.27-5.95g/cm3，同样尺寸的遮挡装置200，采用树脂制备的遮挡装置200的重量比采用玻璃制备的遮挡装置200的重量更强，而且，树脂的抗冲击能力是玻璃的好几倍，树脂的抗冲击力能够达到8-10kg/cm2，采用树脂制备的遮挡装置200相比采用玻璃制备的遮挡装置200不易破碎，更安全耐用。此外，透明的树脂可以方便观测凹陷部101内部的工作情况。
65.驱动装置300与遮挡装置200连接，遮挡装置200处于初始位置时，遮挡装置200遮挡顶部敞口102，当掩膜版载具400需要从顶部敞口102置于放置台104上时，驱动装置300打开遮挡装置200，并暴露出顶部敞口102，以使掩膜版载具400能够从顶部敞口102置于放置台104上。
66.本发明实施例的曝光机，机台100的凹陷部101内设置基座103和放置台104，放置台104可升降的设置在基座103上，机台100上还设置驱动装置300和可活动的遮挡装置200，遮挡装置200在初始位置时，遮挡凹陷部101的顶部敞口102，当掩膜版载具400需要从顶部敞口102置于放置台104上时，驱动装置300打开遮挡装置200，暴露出顶部敞口102，如此，不仅可以在掩膜版载具400需要从顶部敞口102置于放置台104上时，使得驱动装置300打开遮挡装置200，顶部敞口102暴露，掩膜版载具400可以顺利放置在放置台104上，而且在掩膜版载具400不需要从顶部敞口102置于放置台104上时，可以使得遮挡装置200关闭顶部敞口102，有效防止颗粒物从顶部敞口102进入到凹陷部101内的放置台104上，使得掩膜版上几乎没有颗粒物，晶圆曝光后的产品良率提升。
67.请继续参阅图2、图3和图4，曝光机还包括传动装置500，传动装置500包括相啮合的齿轮和齿条，遮挡装置200包括挡板，挡板与齿条紧固连接，驱动装置300包括电机，电机的输出轴上设置齿轮。
68.电机可以为伺服电机，伺服电机接收到一个脉冲的信号量，就会旋转一个脉冲对应的角度，从而使得齿条移动相应的位移，伺服电机本身还具备发出脉冲的功能，所以伺服电机每旋转一个角度，都会发出对应数量的脉冲，这样，和伺服电机接受的脉冲形成了呼应，或者叫闭环，如此一来，与伺服电机信号连接的控制单元(下文会提到)就会知道伺服电机发出了多少脉冲，同时知道伺服电机接收了多少脉冲，这样，就能够很精确的控制伺服电机的转动，例如可以达到0.001mm的精度。
69.请参阅图4和图5，伺服电机的输入轴301上装有玻璃制的编码圆盘302，编码圆盘302上印刷有能够遮住光的黑色条纹303，编码圆盘302两侧分别设置有光源304和受光元件305，受光元件305和光源304之间还设置有一个分度尺，编码圆盘302转动时，光源304发出的光遇到玻璃透明的地方就会透过，遇到黑色条纹303就会被遮住，受光元件305将光的有
无转变为电信号，就成为伺服电机发出的脉冲，圆盘上黑色条纹303的密度等于伺服电机的分辨率，根据光源304发出的光遇到的黑色条纹303的数量，可以掌握编码圆盘302的转动量，当然，黑色条纹303包括表示转动量的条纹、表示转动方向的条纹，以及表示每转基准的条纹，根据这三种条纹，即可掌握编码圆盘302的位置、转动量、转动方向，从而可以掌握伺服电机的位置、转动量和转动方向。
70.本实施例的曝光机中，传动装置500包括相啮合的齿轮和齿条，驱动装置300包括电机，电机的输出轴上设置齿轮，与齿轮啮合的齿条与遮挡装置200中的挡板连接，如此，电机可以通过齿轮和齿条驱动挡板运动，进而打开挡板、并暴露出顶部敞口102，或者关闭顶部敞口102。
71.请参阅图2和图3，传动装置500包括相啮合的第一齿轮501和第一齿条502，以及相啮合的第二齿轮503和第二齿条504；遮挡装置200包括可相向或相背移动的第一挡板201和第二挡板202，第一挡板201的边缘设置第一齿条502，第二挡板202的边缘设置第二齿条504；驱动装置300包括第一电机306和第二电机307，第一电机306的输出轴设置第一齿轮501，第二电机307的输出轴设置第二齿轮503。
72.第一挡板201上设置的第一齿条502的数量为两个，其中一个第一齿条502设置在第一挡板201靠近机台100前面的一边，另外一个第一齿条502设置在第一挡板201靠近机台100后面的一边，两个第一齿条502的延伸方向一致，且两个第一齿条502均沿第一挡板201朝向第二挡板202或者背离第二挡板202移动的方向，第一挡板201朝向第二挡板202或者背离第二挡板202移动的方向如图3所示出的x方向。对应的，传动装置500包括两个第一齿轮501，每个第一齿轮501和一个第一齿条502相啮合，其中一个第一齿轮501可以设置在第一电机306的输出轴上，另外一个第一齿轮501可以设置在与第一电机306的输出轴相连的传动轴上。
73.第二挡板202上设置的第二齿条504的数量为两个，其中一个第二齿条504设置在第二挡板202靠近机台100前面的一边，另外一个第一齿条502设置在第二挡板202靠近机台100后面的一边，两个第二齿条504的延伸方向一致，且两个第二齿条504均沿第二挡板202朝向第一挡板201或者背离第一挡板201移动的方向，第二挡板202朝向第一挡板201或者背离第一挡板201移动的方向如图3所示出的x方向。对应的，传动装置500包括两个第二齿轮503，每个第二齿轮503和一个第二齿条504相啮合，其中一个第二齿轮503可以设置在第二电机307的输出轴上，另外一个第二齿轮503可以设置在与第二电机307的输出轴相连的传动轴上。
74.本实施例的曝光机中，传动装置500包括相啮合的第一齿轮501和第一齿条502，以及相啮合的第二齿轮503和第二齿条504，遮挡装置200包括可相向和相背移动的第一挡板201和第二挡板202，且第一挡板201的边缘设置第一齿条502，第一齿条502和第一电机306的输出轴上的第一齿轮501啮合，第二挡板202的边缘设置第二齿条504，第二齿条504和第二电机307的输出轴上的第二齿轮503啮合，如此，可以实现第一挡板201和第二挡板202相向移动，顶部敞口102处于关闭状态，此时，可以防止颗粒物从顶部敞口102进入到放置台104上，进而有效防止颗粒物污染掩膜版，使得晶圆曝光后的良品率高，同时，可以实现第一挡板201和第二挡板202相背离移动，顶部敞口102处于打开状态，此时，掩膜版可以从顶部敞口102进入到放置台104上，进而进入到曝光机的内部。
75.请参阅图2和图3，第一挡板201设置有第一反光区域203和第二反光区域204，第一反光区域203位于第一挡板201靠近第二挡板202的边缘，且第一反光区域203可以设置在第一挡板201靠近机台100前面的边缘，第二反光区域204位于第一挡板201远离第二挡板202的边缘，且第二反光区域204可以设置在第一挡板201靠近机台100后面的边缘，第二挡板202设置有第三反光区域205和第四反光区域206，第三反光区域205位于第二挡板202靠近第一挡板201的边缘，第三反光区域205可以设置在第一挡板201靠近机台100前面的边缘，第四反光区域206位于第二挡板202远离第一挡板201的边缘，第四反光区域206可以设置在第二挡板202靠近机台100后面的边缘。
76.顶部敞口102的第一边缘设置有第一光电传感器105和第二光电传感器106，顶部敞口102的第二边缘设置有第三光电传感器107和第四光电传感器108，顶部敞口102的第一边缘和顶部敞口102的第二边缘相对设置，且顶部敞口102的第一边缘设置在机台100顶部的靠近第二反光区域204的边缘，顶部敞口102的第二边缘设置在机台100顶部的靠近第四反光区域206的边缘。
77.当第一光电传感器105发出的光被第一反光区域203反射时，且当第三光电传感器107发出的光被第三反光区域205反射时，第一光电传感器105和第三光电传感器107检测到驱动装置300已经完全打开了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202；当第二光电传感器106发出的光被第二反光区域204反射时，且当第四光电传感器108发出的光被第四反光区域206反射时，第二光电传感器106和第四光电传感器108检测到驱动装置300已经完全关闭顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202。
78.下面介绍一种光电传感器的工作原理：
79.光电传感器中包括发光二极管和光电三极管，发光二极管的光束轴线和光电三极管的光束轴线在一个平面内，并成一定的夹角，发光二极管的光束轴线和光电三极管的光束轴线交于一点。当被检测物体表面接近交点时，发光二极管的反射光被光电三极管接收，产生电信号。当被检测物体远离交点时，光反射区不在光电三极管的视角内，检测电路没有输出。由于光电传感器能以非接触方式进行检测，所以不会磨损和损伤被检测对象物，而且，光电传感器没有采用接点输出信号，因此使用寿命长。
80.本实施例的曝光机，在第一挡板201的边缘设置靠近第二挡板202的第一反光区域203，在第一挡板201的边缘设置远离第二挡板202的第二反光区域204，在第二挡板202的边缘设置靠近第一挡板201的第三反光区域205，在第二挡板202的边缘设置远离第一挡板201的第四反光区域206，且在顶部敞口102的第一边缘设置第一光电传感器105和第二光电传感器106，在顶部敞口102的第二边缘设置第三光电传感器107和第四光电传感器108，如此，在第一光电传感器105发出的光被第一反光区域203反射，第三光电出传感器发出的光被第三反光区域205反射后，说明第一光电传感器105和第三光电传感器107检测到驱动装置300已经完全打开了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202，在第二光电传感器106发出的光被第二反光区域204反射后，第四光电传感器108发出的光被第四反光区域206反射后，说明第二光电传感器106和第四光电传感器108检测到驱动装置300已经完全关闭了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202。
81.在一些实施方式中，第一挡板201设置有第一通孔和第二通孔，第一通孔位于第一挡板201靠近第二挡板202的边缘，且第一通孔可以设置在第一挡板201靠近机台100前面的
边缘，第二通孔位于第一挡板201远离第二挡板202的边缘，且第二通孔可以设置在第一挡板201靠近机台100后面的边缘；第二挡板202设置有第三通孔和第四通孔，第三通孔位于第二挡板202靠近第一挡板201的边缘，且第三通孔可以设置在第二挡板202靠近机台100前面的边缘，第四通孔位于第二挡板202远离第一挡板201的边缘，且第四通孔可以设置在第二挡板202靠近机台100后面的边缘。
82.顶部敞口102的第一边缘设置有第一光电传感器105和第二光电传感器106，顶部敞口102的第二边缘设置有第三光电传感器107和第四光电传感器108，顶部敞口102的第一边缘和顶部敞口102的第二边缘相对设置，且顶部敞口102的第一边缘设置在机台100顶部的靠近第二通孔的边缘，顶部敞口102的第二边缘设置在机台100顶部的靠近第四通孔的边缘。
83.当第一光电传感器105发出的光从第一通孔射出时，且当第三光电传感器107发出的光从第三通孔射出时，第一光电传感器105和第三光电传感器107检测到驱动装置300已经完全打开了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202；当第二光电传感器106发出的光从第二通孔射出时，且当第四光电传感器108发出的光从第四通孔射出时，第二光电传感器106和第四光电传感器108检测到驱动装置300已经完全关闭了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202。
84.本实施例的曝光机，在第一挡板201的边缘设置靠近第二挡板202的第一通孔，在第一挡板201的边缘设置远离第二挡板202的第二通孔，在第二挡板202的边缘设置靠近第一挡板201的第三通孔，在第二挡板202的边缘设置远离第一挡板201的第四通孔，且在顶部敞口102的第一边缘设置第一光电传感器105和第二光电传感器106，在顶部敞口102的第二边缘设置第三光电传感器107和第四光电传感器108，如此，在第一光电传感器105发出的光从第一通孔射出，第三光电传感器107发出的光从第三通孔射出后，说明第一光电传感器105和第三光电传感器107检测到驱动装置300已经完全打开了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202，在第二光电传感器106发出的光从第二通孔射出，第四光电传感器108发出的光从第四通孔射出后，说明第二光电传感器106和第四光电传感器108检测到驱动装置300已经完全关闭了顶部敞口102的第一挡板201和第二挡板202。
85.请参阅图1，曝光机还包括运转装置600，运转装置600包括运转轨道601和运转车602，运转车602设置在运转轨道601上，且运转车602能够沿运转轨道601往复运动，运转轨道601设置在机台100的上方，运转车602还能够抓取和释放掩膜版载具400。
86.本实施例的曝光机中，运转装置600的运转轨道601设置在机台100的上方，运转轨道601上设置运转车602，运转车602沿运转轨道601往复运动，如此，运转车602抓取掩膜版载具400后，可以沿运转轨道601运动到顶部敞口102的上方，当驱动装置300完全打开遮挡装置200时，运转车602释放掩膜版载具400，将掩膜版载具400放置在放置台104上，之后，运转车602沿运转轨道601回到原始位置，驱动装置300完全关闭遮挡装置200，此时顶部敞口102关闭，颗粒物无法从顶部敞口102进入到凹陷部101，掩膜版污染的概率小，晶圆曝光后的良品率高。
87.请参阅图1和图6，凹陷部101还具有前侧敞口109；曝光机还包括两个门板110，两个门板110分别枢装在机台100的前侧敞口109的两个相对边缘，以打开或封闭前侧敞口109。门板110可以为透明树脂材质，门板110的厚度可以到1mm。门板110可以手动打开。
88.前侧敞口109的形状大致为矩形，前侧敞口109的第一边缘和前侧敞口109的第二边缘设置有转动轴111，其中一个门板110设置在前侧敞口109的第一边缘设置的转动轴111上，另外一个门板110设置在前侧敞口109的第二边缘设置的转动轴111上，其中前侧敞口109的第一边缘和前侧敞口109的第二边缘相对设置。
89.前侧敞口109的第一边缘设置的转动轴111的数量可以为两个，其中一个门板110的上下边缘可转动的设置在前侧敞口109的第一边缘设置的两个转动轴111上。
90.前侧敞口109的第二边缘设置的转动轴111的数量可以为两个，另外一个门板110的上下边缘设置可转动的设置在前侧敞口109的第二边缘设置的两个转动轴111上。
91.本实施例的曝光机，在凹陷部101的前侧敞口109设置两个门板110，且两个门板110枢装在前侧敞口109的两个相对边缘，门板110在初始位置时，门板110关闭前侧敞口109，当掩膜版载具400需要从前侧敞口109放置在放置台104上时，打开门板110，暴露出前侧敞口109，如此，当需要掩膜版载具400从前侧敞口109放置在放置台104上时，打开门板110，可以实现掩膜版载具400从前侧敞敞口放置在放置台104上，当不需要掩膜版载具400从前侧敞口109放置在放置台104上时，关闭门板110，可以有效防止人们误操作，保护人和机台100。
92.门板110或者前侧敞口109的底部边缘设置有插孔，插孔中设置有使门板110保持封闭前侧敞口109的插销，当门板110上设置插孔时，在前侧敞口109的底部边缘设置插销，当前侧敞口109的底部边缘设置插孔时，在门板110上设置插销112，如图6所示。
93.本实施例的曝光机，在门板110或者前侧敞口109的底部边缘设置插孔，且在插孔中设置使门板110保持封闭前侧敞口109的插销112，可以使得门板110将前侧敞口109可靠关闭，进而有效保护人和机台100。
94.请参阅图6，每个门板110上设置有接近开关113，接近开关113具有第一状态和第二状态，在第一状态下，接近开关113能够使得门板110保持封闭前侧敞口109，在第二状态下，接近开关113能够使得门板110被打开。
95.接近开关113是一种传感器，接近开关113可以是磁性接近开关，在第一状态下，门板110和前侧敞口109的边缘之间的距离小于有效磁吸距离，门板110和前侧敞口109的边缘之间通过接近开关113磁吸，且磁性接近开关可以将当前状态传到与磁性接近开关信号连接的控制单元，在第二状态下，门板110和前侧敞口109的边缘之间的距离大于有效磁吸距离，门板110和前侧敞口109的边缘之间无法通过接近开关113磁吸，磁性接近开关也可以将当前的状态，传动与其连接控制单元。当然，接近开关113处于第一状态和第二状态均属于接近开关113处于工作状态，当接近开关113处于不工作状态时，接近开关113对门板110和前侧敞口109的边缘之间的距离处于有效磁吸距离，不做出任何反应，包括门板110和前侧敞口109的边缘之间无法通过接近开关113进行磁吸，也不将当前状态传递到与其连接的控制单元。
96.请参阅图7，曝光机还包括控制单元700，控制单元700与运转装置600、驱动装置300、放置台104信号连接，控制单元700可以通过e84信号与运转装置600同步连接；曝光机具有自动模式，在自动模式下：当运转车602运动到靠近顶部敞口102的第一位置时，控制单元700控制驱动装置300完全打开顶部敞口102的遮挡装置200，且控制放置台104上升，以及控制运转车602将携带的掩膜版载具400置于放置台104上。
97.本实施例的曝光机，曝光机具有自动模式，在自动模式下，当运转车602运动到靠近顶部敞口102的第一位置时，控制单元700控制驱动装置300完全打开顶部敞口102的遮挡装置200，且控制放置台104上升，以及控制运转车602将携带的掩膜版载具400置于放置台104上，如此，遮挡装置200可以根据运转车602的位置自动打开，且与放置台104的升起和运转车602释放掩膜版载具400配合，提升效率。
98.请参阅图7，控制单元700还与接近开关113信号连接；在自动模式下：当运转车602运动到靠近顶部敞口102的第一位置时，且当接近开关113处于第一状态时，控制单元700控制驱动装置300完全打开顶部敞口102的遮挡装置200，且控制放置台104上升，以及控制运转车602将携带的掩膜版载具400置于放置台104上。
99.本实施例的曝光机，在自动模式下：当运转车602运动到靠近顶部敞口102的第一位置时，且当接近开关113处于第一状态时，控制单元700控制驱动装置300完全打开顶部敞口102的遮挡装置200，且控制放置台104上升，以及控制运转车602将携带的掩膜版载具400置于放置台104上，如此，不仅可以在需要掩膜版载具400从顶部敞口102放置在放置台104上时，在合理的时刻自动打开顶部敞口102的遮挡装置200，进而不仅使得掩膜版载具400可以放置在放置台104上，而且可以有效防止颗粒物进入到曝光机的内部，而且，可以在掩膜版载需要从顶部敞口102放置在放置台104上时，将前侧敞口109关闭，有效保护人和机台100。
100.请参阅图7，曝光机还包括与控制单元700信号连接的自动模式指示灯80a；在自动模式下：当接近开关113处于第一状态时，且当第一光电传感器105和第三光电传感器107检测到驱动装置300完全打开顶部敞口102的遮挡装置200时，控制单元700控制自动模式指示灯80a发光。
101.本实施例的曝光机，在自动模式下：当接近开关113处于第一状态时，且当第一光电传感器105和第三光电传感器107检测到驱动装置300完全打开顶部敞口102的遮挡装置200时，控制单元700控制自动模式指示灯80a发光，可以方便人们根据自动模式指示灯80a的显示，直观快速的判断出，此时，曝光机处于自动模式，且前侧敞口109的门板110关闭，顶部敞口102的遮挡装置200被打开。
102.请参阅图7，曝光机还包括与控制单元700信号连接的报警装置900，报警装置900用于发出报警信号；在自动模式下：当接近开关113处于第二状态时，控制单元700控制报警装置900发出报警信号。
103.本实施例的曝光机，在自动模式下：当接近开关113处于第二状态时，控制单元700控制报警装置900发出报警信号，可以有效防止人们误操作打开门板110，进而保护人们和机台100。
104.曝光机具有手动模式，在手动模式下：控制单元700控制驱动装置300关闭顶部敞口102的遮挡装置200，且控制接近开关113处于第二状态，以及控制放置台104下降，以使掩膜版载具400能够从前侧敞口109置于放置台104上。
105.本实施例的曝光机，在手动模式下：控制单元700控制驱动装置300关闭顶部敞口102的遮挡装置200，且控制接近开关113处于第二状态，以及控制放置台104下降，以使掩膜版载具400能够从前侧敞口109置于放置台104上，如此，可以在手动模式下，使得驱动装置300关闭顶部敞口102的遮挡装置200，有效防止颗粒物污染掩膜版，使得晶圆曝光后的良品
率高，同时，可以实现掩膜版从前侧敞口109置于放置台104上。
106.请参阅图7，曝光机还包括与控制单元700信号连接的手动模式指示灯80b；在手动模式下：当第二光电传感器106和第四光电传感器108检测到驱动装置300完全关闭顶部敞口102的遮挡装置200时，且当接近开关113处于第二状态时，控制单元700控制手动模式指示灯80b发光。
107.本实施例的曝光机，在手动模式下：当第二光电传感器106和第四光电传感器108检测到驱动装置300完全关闭顶部敞口102的遮挡装置200时，且当接近开关113处于第二状态时，控制单元700控制手动模式指示灯80b发光，可以方便人们根据手动模式指示灯80b的显示，直观快速的判断出，此时，曝光机处于手动模式，且前侧敞口109的门板110打开，顶部敞口102的遮挡装置200被关闭。
108.请参阅图8，本实施例的曝光机，在自动模式下，将掩膜版放置在放置台104上的流程为：第一、放置台104升起；第二、运转车602将携带的掩膜版载具400从顶部敞口102放置在放置台104上；第三、放置台104下降，放置台104上的掩膜版载具400被打开，进而释放掩膜版；第四、放置台104上升；第五、机台100上的机械手抓取掩膜版；第六、对掩膜版进行颗粒物检测；第七、将掩膜版放入机台100的内部平台。
109.请参阅图9，本实施例的曝光机，在手动模式下，将掩膜版放置在放置台104上的流程为：第一、放置台104下降；第二、将掩膜版载具400从前侧敞口109放置在放置台104上，并在该位置将掩膜版载具400打开，进而释放掩膜版；第三、放置台104升起；第四、机台100上的机械手抓取掩膜版；第五、对掩膜版进行颗粒物检测；第六、将掩膜版放入机台100的内部平台。
110.值得说明的是，本实施例的曝光机，在手动模式下和在自动模式下，放置在放置台104上的均是掩膜版载具400，只是，在手动模式下放置掩膜版载具400的位置，即为打开掩膜版载具400的位置，而自动模式下放置掩膜版载具400的位置与打开掩膜版载具400的位置为不同的位置。在手动模式下，掩膜版载具400放置在放置台104上是由机台100上设置的搬运装置进行搬运的，而非人们通过双手搬运的，这样可以进一步防止污染掩膜版。此外，本实施例的曝光机通常采用自动模式，将掩膜版载具400置于放置台104上，通常在曝光机光机故障后重启、检修等情况下，在手动模式下将掩膜版载具400置于放置台104上。
111.请参阅图10，本实施例的曝光机，在自动模式下，曝光机的控制方法包括如下步骤：
112.s01：判断机台100是否处于自动模式，当机台100处于自动模式时，执行s02；
113.s02：判断顶部敞口102的遮挡装置200是否处于打开状态，当顶部敞口102的遮挡装置200处于打开状态时，执行步骤s03；
114.s03：判断前侧敞口109的门板110是否处于关闭状态，当前侧敞口109的门板110处于关闭状态时，控制自动模式指示灯80a发光且手动模式指示灯80b不发光，当前侧敞口109的门板110处于打开状态时，控制报警装置900报警，当人们关闭前侧敞口109的门板110后，前侧敞口109的门板110处于关闭状态，控制自动模式指示灯80a发光，手动模式指示灯80b不发光。
115.在步骤s02中，当顶部敞口102的遮挡装置处于关闭状态时，控制驱动装置300打开顶部敞口102的遮挡装置200，当顶部敞口102的遮挡装置200完全打开时，控制驱动装置300
停止运行。
116.请参阅图11，本实施例的曝光机，在手动模式下，曝光机的控制方法包括如下步骤：
117.j01：判断机台100是否处于手动模式，当机台100处于手动模式时，执行j02；
118.j02：判断顶部敞口102的遮挡装置200是否处于关闭状态，当顶部敞口102的遮挡装置200处于关闭状态时，执行步骤j03；
119.j03：判断前侧敞口109的门板110是否处于关闭状态，当前侧敞口109的门板110处于关闭状态时，控制接近开关113处于不工作状态，当接近开关113处于不工作状态时，控制手动模式指示灯80b发光，自动模式指示灯80a不发光。
120.在步骤j02中，当顶部敞口102的遮挡装置200处于打开状态时，控制驱动装置300关闭顶部敞口102的遮挡装置200，当顶部敞口102的遮挡装置200完全关闭时，控制驱动装置300停止运行。
121.请参阅图12，图12示出了机台100上部设置遮挡装置200时，晶圆上的颗粒物数量的示意图，图12还示出了机台100上部不设置遮挡装置200时，晶圆上的颗粒物数量的示意图，从图12可以看出，在机台100上设置遮挡装置200后，晶圆上的颗粒物减少，如此，晶圆曝光后的缺陷减小，晶圆的良品率得到提升。
122.本实施例的曝光机，在机台100上设置可活动的遮挡装置200，当遮挡装置200处于原始位置时，遮挡装置200遮挡顶部敞口102，这可以大幅减小曝光后的晶圆出现缺陷的概率，使得曝光后的晶圆的良品率提升。
123.除了上面所描述的本发明实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外，本发明提供的曝光机所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将在具体实施方式中作出进一步详细的说明。
124.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
125.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。