一种真空均质乳化装置的制作方法

1.本实用新型涉及真空均质乳化装置技术领域，具体为一种真空均质乳化装置。


背景技术：

2.随着社会经济的快速发展，乳化均质是日用化妆品产中经常要运用的一项技术；是使悬浮液(或乳化液)体系中的分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀性的作用。
3.但是，现有的真空均质乳化装置的出料口与阀门有一定距离，会堆积料物，无法被搅拌桨搅到，影响料物浓稠度，且球形的真空均质乳化装置中间底部设置有均质头，使出料口只能设在侧边，导致放完料真空均质乳化装置底部堆积料物；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种真空均质乳化装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种真空均质乳化装置，以解决上述背景技术中提出的真空均质乳化装置的出料口与阀门有一定距离，会堆积料物，无法被搅拌桨搅到，影响料物浓稠度，且球形的真空均质乳化装置中间底部设置有均质头，使出料口只能设在侧边，导致放完料真空均质乳化装置底部堆积料物等问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空均质乳化装置，包括缸体，所述缸体的底端设有连接块，所述连接块的底端中间设有连接杆，所述连接杆的底端安装有第一电机，所述连接块的一侧固定安装有第二电机，所述连接杆的一侧设有出料口，所述缸体的底端贯穿设有底口，所述底口贯穿至连接杆的一侧出料口，所述出料口位于连接杆的一端设有导向板，所述第一电机的顶端中间设有支撑杆，所述第二电机的输出端设有第一锥齿轮，所述第一锥齿轮的顶端设有转盘，所述转盘的底面设有第二锥齿轮，所述第二锥齿轮与第一锥齿轮相配合，所述转盘的顶面设有弧形滑槽，所述转盘的顶端设有闸门，所述闸门为六个，六个所述闸门之间组合呈圆盘，每个所述闸门的底面都设有弧形滑块，所述弧形滑块安装于弧形滑槽内，所述闸门的顶面设有限位块，所述连接块的顶端内壁均设有六个滑槽，所述限位块安装于滑槽内。
6.优选的，所述缸体的内部设有搅拌桨。
7.优选的，每个所述闸门靠近支撑杆的一端设有锥块，所述支撑杆位于锥块的一侧设有锥槽，所述锥槽沿着支撑杆的外壁呈环形。
8.优选的，所述锥块的材质橡胶。
9.优选的，所述支撑杆贯穿至缸体的底端。
10.优选的，所述支撑杆的顶端设有均质头。
11.优选的，所述支撑杆的中间内部设有传动杆。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
13.1、本实用新型通过缸体的底端设有连接块，通过闸门设置于连接块的顶端内壁，
使闸门贴近于缸体底端的底口，减小了闸门与底口的距离，从而搅拌桨能够搅拌到缸体内的每个角落；
14.2、本实用新型通过底口设置于缸体的底端中间，使放完料真空均质乳化装置底部不会堆积料物，通过六个闸门之间组合呈圆盘，每个闸门靠近支撑杆的一端设有锥块，且支撑杆位于锥块的一侧设有锥槽，通过第二电机转动第一锥齿轮带动转盘，使闸门的锥块嵌入锥槽内，从而不影响整体的密封性。
附图说明
15.图1为本实用新型整体的结构示意图；
16.图2为本实用新型整体的结构侧视图；
17.图3为本实用新型闸门的结构示意图；
18.图4为本实用新型闸门的局部结构示意图；
19.图5为本实用新型转盘的结构示意图；
20.图6为本实用新型连接块的局部结构示意图。
21.图中：1、缸体；2、第一电机；3、连接杆；4、均质头；5、搅拌桨；6、出料口；7、第二电机；8、第一锥齿轮；9、转盘；10、第二锥齿轮；11、闸门；12、连接块；13、传动杆；14、支撑杆；15、弧形滑块；16、限位块； 17、弧形滑槽；18、滑槽；19、导向板；20、底口；21、锥块；22、锥槽。
具体实施方式
22.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
23.本实用新型所提到的均质头(型号为j1500)、第一电机(型号为ye2
‑ꢀ
0.75)和第二电机(型号为sl86s2)均可从市场采购或私人定制获得。
24.请参阅图1至图6，本实用新型提供的一种实施例：一种真空均质乳化装置，包括缸体1，缸体1的底端设有连接块12，连接块12的底端中间设有连接杆3，连接杆3的底端安装有第一电机2，连接块12的一侧固定安装有第二电机7，连接杆3的一侧设有出料口6，缸体1的底端贯穿设有底口20，底口20贯穿至连接杆3的一侧出料口6，出料口6位于连接杆3的一端设有导向板 19，第一电机2的顶端中间设有支撑杆14，第二电机7的输出端设有第一锥齿轮8，第一锥齿轮8的顶端设有转盘9，转盘9的底面设有第二锥齿轮10，第二锥齿轮10与第一锥齿轮8相配合，转盘9的顶面设有弧形滑槽17，转盘9 的顶端设有闸门11，闸门11为六个，六个闸门11之间组合呈圆盘，每个闸门 11的底面都设有弧形滑块15，弧形滑块15安装于弧形滑槽17内，闸门11的顶面设有限位块16，连接块的顶端内壁均设有六个滑槽18，限位块16安装于滑槽18内。
25.进一步，缸体1的内部设有搅拌桨5。
26.通过采用上述技术方案，可以搅拌缸体1内的料物。
27.进一步，每个闸门11靠近支撑杆14的一端设有锥块21，支撑杆14位于锥块21的一侧设有锥槽22，锥槽22沿着支撑杆14的外壁呈环形。
28.通过采用上述技术方案，当锥块21嵌入锥槽22内时起密封作用。
29.进一步，锥块21的材质橡胶。
30.通过采用上述技术方案，减轻锥块21对锥槽22的挤压力。
31.进一步，支撑杆14贯穿至缸体1的底端。
32.进一步，支撑杆14的顶端设有均质头4。
33.进一步，支撑杆14的中间内部设有传动杆13。
34.工作原理：使用时，缸体1的底端设有连接块12，通过闸门11设置于连接块12的顶端内壁，使闸门11贴近于缸体1底端的底口20，减小了闸门11 与底口20的距离，从而搅拌桨5能够搅拌到缸体1内的每个角落，通过底口 20设置于缸体1的底端中间，使放完料真空均质乳化装置底部不会堆积料物，通过六个闸门11之间组合呈圆盘，每个闸门11靠近支撑杆14的一端设有锥块21，且支撑杆14位于锥块21的一侧设有锥槽22，通过第二电机7转动第一锥齿轮8带动转盘9，使闸门11的锥块21嵌入锥槽22内，从而不影响整体的密封性。
35.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。


技术特征：
1.一种真空均质乳化装置，包括缸体(1)，其特征在于：所述缸体(1)的底端设有连接块(12)，所述连接块(12)的底端中间设有连接杆(3)，所述连接杆(3)的底端安装有第一电机(2)，所述连接块(12)的一侧固定安装有第二电机(7)，所述连接杆(3)的一侧设有出料口(6)，所述缸体(1)的底端贯穿设有底口(20)，所述底口(20)贯穿至连接杆(3)的一侧出料口(6)，所述出料口(6)位于连接杆(3)的一端设有导向板(19)，所述第一电机(2)的顶端中间设有支撑杆(14)，所述第二电机(7)的输出端设有第一锥齿轮(8)，所述第一锥齿轮(8)的顶端设有转盘(9)，所述转盘(9)的底面设有第二锥齿轮(10)，所述第二锥齿轮(10)与第一锥齿轮(8)相配合，所述转盘(9)的顶面设有弧形滑槽(17)，所述转盘(9)的顶端设有闸门(11)，所述闸门(11)为六个，六个所述闸门(11)之间组合呈圆盘，每个所述闸门(11)的底面都设有弧形滑块(15)，所述弧形滑块(15)安装于弧形滑槽(17)内，所述闸门(11)的顶面设有限位块(16)，所述连接块的顶端内壁均设有六个滑槽(18)，所述限位块(16)安装于滑槽(18)内。2.根据权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述缸体(1)的内部设有搅拌桨(5)。3.根据权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：每个所述闸门(11)靠近支撑杆(14)的一端设有锥块(21)，所述支撑杆(14)位于锥块(21)的一侧设有锥槽(22)，所述锥槽(22)沿着支撑杆(14)的外壁呈环形。4.根据权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述支撑杆(14)贯穿至缸体(1)的底端。5.根据权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述支撑杆(14)的顶端设有均质头(4)。6.根据权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述支撑杆(14)的中间内部设有传动杆(13)。

技术总结
本实用新型公开了一种真空均质乳化装置，包括缸体，缸体的底端设有连接块，连接块的底端中间设有连接杆，连接杆的底端安装有第一电机，连接块的一侧固定安装有第二电机，连接杆的一侧设有出料口，缸体的底端贯穿设有底口，底口贯穿至连接杆的一侧出料口，出料口位于连接杆的一端设有导向板，第一电机的顶端中间设有支撑杆，第二电机的输出端设有第一锥齿轮，第一锥齿轮的顶端设有转盘，转盘的底面设有第二锥齿轮，第二锥齿轮与第一锥齿轮相配合。本实用新型通过闸门设置于缸体的底口，且闸门的锥块嵌入锥槽，使真空均质乳化装置工作时能够搅拌到缸体内的每个角落，且不影响密封性，放完料缸体底部也不会堆积料物。完料缸体底部也不会堆积料物。完料缸体底部也不会堆积料物。


技术研发人员：肖勤林
受保护的技术使用者：广州化兴科创仪器设备有限公司
技术研发日：2021.12.03
技术公布日：2022/6/17