一种真空等离子清洗设备的制作方法

1.本实用新型属于真空等离子设备技术领域，特别涉及一种真空等离子表面处理设备。


背景技术：

2.真空等离子体清洗工艺，是指在真空腔体里，通过电极，在一定的压力情况下产生高能量的无序等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的的一种等离子体表面处理工艺。
3.等离子表面处理设备是被广泛应用于半导体、印刷包装、硅橡胶制品、玻璃精密、电线电缆、电子数码、汽车制造、医疗生物，纺织工业、复合材料和新能源等几乎所有的工业领域的机械设备。目前已经成为中国最大的真空等离子体处理设备生产技术领域，产品面涉及极为广泛。
4.在现有的弹夹料盒等离子清洗设备技术中，通常通过料盒盛放物料，如：半导体衬底、引线框架、led支架、集成电路板等，每个料盒可放置8-20片不等物料，在料盒上常常设置有通风槽，这些通风槽用于通过等离子气体，以清洗物料的表面。尽管物料的边缘处理效果符合预期，但物料的中间部分的处理效果却难以令人满意。
5.且，普通弹夹料盒轨道都是固定在箱体内部，取放弹夹料盒很不方便，长时间使用后，支撑板与弹夹料盒摩擦，容易产生粉尘颗粒，尤其是在等离子电源处理时，污染处理产品，导致产品残品率较高。


技术实现要素：

6.本实用新型主要解决的技术问题是提供一种真空等离子清洗设备，通过对射频电极装置、滑动式的物料托盘等的结构改进，能够提高被处理产品的表面清洗效果。
7.为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：本实用新型提供了一种真空等离子清洗设备，包括箱体、射频电极装置、料盒、设有若干通孔的射频电极板和滑动式的物料托盘，所述射频电极板竖向均匀间隔设置，任意两相邻所述射频电极板之间设有所述物料托盘，所述物料托盘能够在水平面内滑动；所述料盒放置于所述物料托盘；
8.所述料盒为侧壁镂空的镂空式料盒；
9.所述射频电极装置与所述射频电极板电连接；
10.所述箱体的侧壁设有进气口和抽气口，定义进气口所在的那侧为左，抽气口能够与外接的抽气装置连接。
11.为解决上述技术问题，本实用新型采用的进一步技术方案是：所述箱体的内部设有支架，所述支架包括顶支架和至少一层下支架，每一所述射频电极板的上端皆安装于所述顶支架，且下端皆安装于最下面一层的所述下支架。
12.进一步地说，所述箱体的左侧壁设有进气口，且与其相对的右侧壁设有所述抽气口，所述左侧壁的内侧设有进气均流板，所述进气均流板设有多个供气流通过的进气均流
孔，所述进气口与所述进气均流孔连通。
13.进一步地说，所述右侧壁的内侧设有抽气分流板，所述抽气分流板设有供气流通过的抽气分流孔，所述抽气分流孔与所述抽气口连通。
14.进一步地说，所述物料托盘的上表面且两侧边凸起形成限位挡边，通过所述限位挡边所述料盒能够滑入所述物料托盘。
15.进一步地说，所述下支架设有支撑板，所述物料托盘与所述支撑板滑动连接。
16.进一步地说，所述物料托盘的底面设有挡块，所述支撑板的上表面向下凹陷形成限位导槽，所述挡块能够沿所述限位导槽滑动。
17.进一步地说，所述物料托盘的上表面且后端设有用于限定料盒移动行程的限位块。
18.进一步地说，所述物料托盘的侧壁先向下再向内延伸形成类l型限位槽，所述下支架的侧壁向外延伸形成限位凸起，通过所述类l型限位槽和所述限位凸起的配合，所述物料托盘能够沿所述支撑板滑动。
19.进一步地说，所述射频电极装置包括射频连接条、电极分流板和电极连接件，所述射频连接条与电源连接，同时所述射频连接条与所述电极分流板连接，所述电极分流板通过电极连接件与所述射频电极板连接。
20.本实用新型的有益效果是：
21.本实用新型包括箱体、射频电极装置、料盒、设有若干通孔的射频电极板和滑动式的物料托盘，射频电极板竖向均匀间隔设置，任意两相邻射频电极板之间设有物料托盘，物料托盘能够在水平面内滑动；射频电极板位于料盒的两侧，正对气流通道，且料盒为侧壁镂空的镂空式料盒，即料盒左右镂空口正对气流通道；因此本实用新型能够提高被处理产品的表面清洗效果；
22.再者，本实用新型的料盒与支撑板之间滑动连接，即此种结构采用滚轮滑动式抽拉物料托盘，取放料盒时可以先把物料托盘抽出，使得取放料盒更轻便省力；
23.并且设置有内嵌式限位挡块，可有效的防止物料脱落，有效的解决料盒与物料托盘摩擦所造成的粉尘颗粒；同时在真空放电时不会产生杂质，提高处理产品效果和产品良率；
24.再者，本实用新型的射频电极装置包括射频连接条、电极分流板和电极连接件，且其采用自主研发配件，保证密封性的同时，使每片电极分流电量更均匀，从而达到更好的处理效果，本实用新型具有广阔的市场前景适用范围广泛，可以大范围的用于半导体、摄像头、led支架、指纹模组等制成设备的处理要求。
25.上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
26.图1是本实用新型的外观图之一(从一角度看)；
27.图2是本实用新型的外观图之二(从另一角度看)；
28.图3是本实用新型的结构示意图之一(从一角度看)；
29.图4是本实用新型的结构示意图之二(从另一角度看)；
30.图5是本实用新型的物料托盘的结构示意图(图中a所在的位置表示后侧)；
31.附图中各部分标记如下：
32.箱体1、进气口11、抽气口12、进气均流板13、进气均流孔131、支撑板1311、限位导槽13111、限位凸起1321、抽气分流板14、抽气分流孔141、顶支架15、下支架16；
33.射频电极装置2、射频连接条21、射频电源连接点211、电极馈入点212、电极分流板22、电极连接件23；
34.料盒3、镂空孔31、物料32；
35.射频电极板4；
36.物料托盘5、限位挡边51、挡块52、限位块53、l型限位槽54。
具体实施方式
37.以下通过特定的具体实施例说明本实用新型的具体实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本实用新型的优点及功效。本实用新型也可以其它不同的方式予以实施，即，在不背离本实用新型所揭示的范畴下，能予不同的修饰与改变。
38.实施例：一种真空等离子清洗设备，如图1到图5所示，包括箱体1、射频电极装置2、料盒3、设有若干通孔的射频电极板4和滑动式的物料托盘5，所述射频电极板竖向均匀间隔设置，任意两相邻所述射频电极板之间设有所述物料托盘，所述物料托盘能够在水平面内滑动；所述料盒放置于所述物料托盘；
39.所述料盒为侧壁镂空的镂空式料盒；本实施例中，所述料盒的左侧壁和右侧壁设有长条形镂空孔31，待清洗的物料32滑动沿着料盒的侧壁的滑槽进入料盒；
40.所述射频电极装置与所述射频电极板电连接；
41.所述箱体的侧壁设有进气口11和抽气口12，定义进气口所在的那侧为左，抽气口能够与外接的抽气装置连接。
42.料盒放置在滑动式物料托盘上，并且能够与接地电极相连。料盒为生产时标准配件，能够提高被处理产品的表面清洗效果。
43.本实施例中，所述箱体的内部设有支架，所述支架包括顶支架15和至少一层下支架16，每一所述射频电极板的上端皆安装于所述顶支架，且下端皆安装于最下面一层的所述下支架。
44.所述箱体的左侧壁设有进气口，且与其相对的右侧壁设有所述抽气口，所述左侧壁的内侧设有进气均流板13，所述进气均流板设有多个供气流通过的进气均流孔131，所述进气口与所述进气均流孔连通。
45.所述右侧壁的内侧设有抽气分流板14，所述抽气分流板设有供气流通过的抽气分流孔141，所述抽气分流孔与所述抽气口连通。
46.所述箱体的内部设有衬板，本实施例中，采用的是镜面不锈钢衬板。本实施例中，位于所述箱体的内部的左侧的所述衬板为所述进气均流板；位于所述箱体的内部的右侧的所述衬板为所述抽气分流板。
47.本实施例中，所述料盒为弹夹式料盒，但不限于此。
48.所述物料托盘的上表面且两侧边凸起形成限位挡边51，通过所述限位挡边所述料
盒能够滑入所述物料托盘。
49.所述下支架设有支撑板1311，所述物料托盘与所述支撑板滑动连接。所述支撑板同时又为能够接地的接地电极板。
50.所述支撑板和所述下支架采用固定螺栓紧固连接，固定螺栓采用不锈钢螺柱，安全牢靠，不易损坏，方便维修。
51.所述物料托盘的底面设有挡块52，所述支撑板的上表面向下凹陷形成限位导槽13111，所述挡块能够沿所述限位导槽滑动。
52.所述物料托盘的上表面且后端设有用于限定料盒移动行程的限位块53。
53.所述物料托盘的侧壁先向下再向内延伸形成类l型限位槽54，所述下支架的侧壁向外延伸形成限位凸起1321，通过所述类l型限位槽和所述限位凸起的配合，所述物料托盘能够沿所述支撑板滑动。
54.本实施例中，所述射频电极装置2包括射频连接条21、电极分流板22和电极连接件23，所述射频连接条与电源连接，同时所述射频连接条与所述电极分流板连接，所述电极分流板通过电极连接件与所述射频电极板连接。
55.所述射频电极装置位于箱体的后侧壁处。
56.其中一所述射频连接条设有射频电源连接点211，其它所述射频连接条设有电极馈入点212。
57.本实用新型的工作原理和工作过程为：
58.启动设备，电通过射频电源连接点接入射频连接条进而到达各个电极馈入点，之后通过电极连接件到达各电极分流板进行放电，同时气体通过进气口进入并通过进气均流板进行均流并到达各电极分流板的通孔处被电离放电，并通过料盒的镂空孔到达待清洗产品的表面对产品进行清洗；之后气体经抽气分流孔和抽气口排出；
59.料盒和物料托盘的放置过程：
60.将物料托盘拉出，然后取放料盒，之后在将物料托盘推入即可，方便易操作。
61.以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。