一种线性可变滤光片及应用其的连续光谱气体传感器的制作方法

技术特征：
1.一种线性可变滤光片，其特征在于，包括衬底、锥形腔体、水平布拉格反射层和倾斜布拉格反射层，所述倾斜布拉格反射层和水平布拉格反射层设置于锥形腔体的上下两侧，所述衬底的一侧与水平布拉格反射层连接。2.根据权利要求1所述的一种线性可变滤光片，其特征在于，所述水平布拉格反射层包括第一二氧化硅层、第一硅层、第二二氧化硅层和第二硅层，所述第一二氧化硅层、第一硅层、第二二氧化硅层和第二硅层通过物理气相沉积或化学气相沉积依次沉积于衬底上。3.根据权利要求2所述的一种线性可变滤光片，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度为100～1000nm，所述第一硅层的厚度为100～1000nm；所述第二二氧化硅层的厚度为100～1000nm，所述第二硅层的厚度为100～1000nm。4.根据权利要求1所述的一种线性可变滤光片，其特征在于，所述锥形腔体为二氧化硅层锥形腔体，其最薄处厚度为500-1000nm，其最厚处厚度为1500-3000nm。5.根据权利要求1所述的一种线性可变滤光片，其特征在于，所述倾斜布拉格反射层包括第三硅层、第三二氧化硅层、第四硅层、第四二氧化硅层和第五硅层，所述第三硅层、第三二氧化硅层、第四硅层、第四二氧化硅层和第五硅层通过物理气相沉积或化学气相沉积依次沉积于锥形腔体上。6.根据权利要求5所述的一种线性可变滤光片，其特征在于，所述第三硅层的厚度为100-1000nm；所述第三二氧化硅层的厚度为100-1000nm，所述第四硅层的厚度为100-1000nm；所述第四二氧化硅层的厚度为100-1000nm，所述第五硅层的厚度为100-1000nm。7.一种连续光谱气体传感器，其特征在于，包括如权利要求1-6所述的线性可变滤光片、红外探测器阵列、封帽、底座和引脚，所述封帽设置于底座的一侧，所述底座的一侧设置有红外探测器阵列，所述引脚设置于底座的另一侧其穿过底座后与红外探测器阵列连接，所述线性可变滤光片设置于封帽上，且与位于红外探测器阵列的正上方。

技术总结
本实用新型公开了一种线性可变滤光片及应用其的连续光谱气体传感器，包括衬底、锥形腔体、水平布拉格反射层和倾斜布拉格反射层，所述水平布拉格反射层和倾斜布拉格反射层设置于锥形腔体的上下两侧，所述衬底的一侧与倾斜布拉格反射层连接。本实用新型通过使用单一滤光片实现线性可变光学滤波，将线性可变滤光片与红外探测器阵列集成，实现单滤光片单NDIR气体传感器监测混合气体，降低基于NDIR技术的混合气体传感器尺寸；由于采用线性可变滤光片，可根据所需检测气体种类，选择合适红外探测单元位置，提高基于NDIR技术的混合气体传感器的气体监测种类；可通过算法技术，选取多个红外探测单元检测结果进行对比，从而提高基于NDIR技术的混合气体传感器的准确性。NDIR技术的混合气体传感器的准确性。NDIR技术的混合气体传感器的准确性。


技术研发人员：武斌 宏宇
受保护的技术使用者：深圳市美思先端电子有限公司
技术研发日：2021.12.31
技术公布日：2022/6/9