显示模组及显示装置的制作方法

1.本发明涉及电子设备技术领域，尤其涉及一种显示模组及显示装置。


背景技术：

2.随着科学技术的不断发展，越来越多显示装置被广泛的应用于人们的日常生活以及工作当中，为人们的日常生活以及工作带来了巨大的便利，成为当今人们不可或缺的重要工具。
3.显示装置的主要部件是显示模组，其中，显示模组具有多个子像素，通过子像素进行图像显示。现有的显示模组中，存在不同区域亮度不均匀的问题。


技术实现要素：

4.本技术提供的显示模组及显示装置，旨在解决现有的显示模组中，存在不同区域亮度不均匀的问题。
5.为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是：提供一种显示模组。该显示模组具有第一显示区和第二显示区，所述显示模组包括：基板；像素定义层，形成有第一像素开口与第二像素开口，所述第一像素开口、第二像素开口分别位于所述第一显示区、第二显示区，所述第一像素开口大于所述第二像素开口，所述第一像素开口与所述第二像素开口内还分别设置有第一发光单元与第二发光单元；第一调光层，环绕所述第一像素开口设置，所述第一调光层形成有间隔设置的若干第一凸起和/或第一凹槽。
6.其中，所述第一调光层包括沿周向依次交替设置的所述第一凸起和所述第一凹槽，且所述第一凸起沿所述第一调光层的周向方向的尺寸与所述第一凹槽沿所述第一调光层的周向方向的尺寸的比值为2.5-6。
7.其中，所述第一凸起沿所述第一调光层的周向方向的尺寸不小于4微米；和/或，所述第一凹槽沿所述第一调光层的周向方向的尺寸不小于1.5微米。
8.其中，所述第一调光层设置呈连续环状；或，所述第一调光层设置为沿相应的所述第一像素开口的周向依次间隔排布的支撑柱，所述支撑柱构成所述第一凸起，相邻所述支撑柱之间构成所述第一凹槽。
9.其中，还包括：第二调光层，环绕于所述第二像素开口设置，所述第二调光层形成有间隔设置的若干第二凸起和/或第二凹槽。
10.其中，包括沿周向依次交替设置的所述第一凸起和所述第一凹槽，所述第二调光层包括沿周向依次交替设置的所述第二凸起和所述第二凹槽；所述第一凸起的高度高于所述第二凸起高度，所述第一凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度。
11.其中，相邻两个所述第一凸起之间的间距小于相邻两个所述第二凸起之间的间距；相邻两个所述第一凹槽之间的间距大于相邻两个所述第二凹槽之间的间距。
12.其中，所述第一调光层与相应的所述第一像素开口的距离小于所述第二调光层与相应的所述第二像素开口的距离。
13.其中，所述第一调光层与相应的所述第一像素开口的距离不小于5微米；和/或，所述第二调光层与相应的所述第二像素开口的距离不小于5微米。
14.为解决上述技术问题，本技术采用的另一个技术方案是：提供一种显示装置。该显示装置包括显示模组和电子元件；其中，所述显示模组为上述所涉及显示模组。
15.本技术实施例的有益效果，相比于现有技术：本技术实施例提供的显示模组及显示设备，该显示模组通过使第一调光层形成有间隔设置的若干第一凸起和/或第一凹槽，以通过若干第一凸起和/或第一凹槽增加自第一像素开口出射的光在第一调光层处的杂散光，以调节不同方向的光通量，从而调节自第一像素开口以大于预设角度出射的光的强弱，从而使得第一显示区和第二显示区中以大于预设角度出射的光强度差异小于阈值，进而使第一显示区和第二显示区的亮度均匀性有效提高。
附图说明
16.为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：
17.图1为本技术一实施例提供的显示模组的结构示意图；
18.图2为第一调光层环绕第一像素开口设置的俯视图；
19.图3为自第一像素开口出射的光的示意图；
20.图4为本技术一实施例提供的第一调光层中第一凸起和第一凹槽的交替分布示意图；
21.图5为本技术另一实施例提供的第一调光层中第一凸起和第一凹槽的交替分布示意图；
22.图6为本技术又一实施例提供的第一调光层中第一凸起和第一凹槽的交替分布示意图；
23.图7为第二调光层环绕第二像素开口设置的俯视图；
24.图8为自第二像素开口出射的光的示意图。
25.附图标记说明
26.基板11；像素定义层12；第一像素开口121；第二像素开口122；第一发光单元13a；第二发光单元13b；第一调光层14；第一凸起141；第一凹槽142；第二调光层15；第二凸起151；第二凹槽152；支撑柱16；第一显示区a1；第二显示区a2。
具体实施方式
27.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
28.本技术中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第
三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
29.在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本技术的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
30.目前，因屏下摄像头技术中，要提升摄像头区域(副屏区)的透过率，改善摄像头区域的衍射，将副屏区开口调小，形状调成圆形，从而导致主副屏像素开口差异大。具体的，主屏显示区的开口较大，副屏显示区的开口较小，这样导致在不同视角下看到主副屏亮度有明显差异，比如在大视角(大于80
°
)下，主副屏亮度差异更明显。
31.本技术实施例提供一种显示模组，能够对主副屏显示区的亮度进行调节，从而使得主副屏亮度差异在阈值范围内，进而有效保证主副屏显示区在不同视角下的亮度的一致性。
32.下面结合附图和实施例对本技术进行详细的说明。
33.请参阅图1，图1为本技术一实施例提供的显示模组的结构示意图；在本实施例中，提供一种显示模组，该显示模组具有第一显示区a1和第二显示区a2。第一显示区a1可对应显示装置的主屏显示区，第二显示区a2可对应显示装置的副屏显示区。该显示模组包括基板11、像素定义层12、若干第一发光单元13a、若干第二发光单元13b以及第一调光层14。
34.其中，基板11可以为薄膜晶体管基板。薄膜晶体管基板包括衬底和设于衬底上的若干薄膜晶体管(thin film transistor，tft)。其中，薄膜晶体管的外围，也就是非显示区内还设置有薄膜晶体管外围走线。其中衬底可以由具有柔性的任意合适的绝缘材料形成，例如，可以由聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、聚对苯二甲酸乙-醇酯(pet)、聚萘-甲酸乙二醇酯(pen)、多芳基化合物(par)或玻璃纤维增强塑料(frp)等聚合物材料形成。衬底可以是透明的、半透明的或不透明的。薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极、有源层，在有源层和栅极之间可设置栅极绝缘层，在栅极和源极、漏极之间可设置层间绝缘层，在源极和漏极远离栅极一侧可设置钝化层，钝化层远离源极和漏极一侧可设置平坦化层，其中，平坦化层可以为压克力、聚酰亚胺或苯并环j烯等有机层。
35.像素定义层12可以采用蒸镀或沉积等方式由聚酰亚胺(pi)、聚酰胺、苯并环j烯(bcb)、压克力树脂或酚醛树脂等有机材料形成于基板11的一侧。在具体实施例中，像素定义层12形成有若干第一像素开口121和若干第二像素开口122。若干第一像素开口121和若干第二像素开口122分别位于第一显示区a1、第二显示区a2。其中，第一像素开口121大于第二像素开口122；且第一像素开口121可为方形或其它矩形，第二像素开口122可为圆形。具体的，该像素定义层12的具体结构与功能与现有显示模组中的像素定义层的具体结构与功
能相同或相似，且可实现相同或相似的技术效果，具体可参见现有技术，在此不再赘述。
36.若干第一发光单元13a分别对应第一显示区a1的若干第一像素开口121设置，用于发光；若干第二发光单元13b分别对应第二显示区a2的若干第二像素开口122设置，用于发光。其中，一个像素开口对应设置一个发光单元。第一发光单元13a和第二发光单元13b具体包括设置于基板11表面的阳极，以及依次设置于阳极背离基板11表面的发光层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层以及阴极。该第一发光单元13a和第二发光单元13b的具体结构与现有显示模组用于发光的发光单元或像素单元的具体结构与功能相同或相似，且可实现相同或相似的技术效果，具体可参见现有技术，在此不再赘述。
37.本领域技术人员可以理解的是，对于发光强度相同的第一发光单元13a和第二发光单元13b，对应的像素开口越大，则对应显示区出射的光的光通量越大；对应的像素开口越小，则对应显示区出射的光的光通量越小。因此，在第一像素开口121大于第二像素开口122时，与第一像素开口121对应设置的第一发光单元13a出射的光的光通量大于与第二像素开口122对应设置的第二发光单元13b出射的光的光通量，导致第一显示区a1和第二显示区a2在不同视角下的亮度的一致性较差。
38.为了减小自第一像素开口121出射的光的光通量与自第二像素开口122出射的光的光通量的差异，保证第一显示区a1和第二显示区a2以大于预设角度出射的光强度差异小于阈值，即保证第一显示区a1和第二显示区a2在不同视角下的亮度的均一性。请参阅图1至图3，其中，图2为第一调光层14环绕第一像素开口121设置的俯视图；图3为自第一像素开口121出射的光的示意图；本技术实施例进一步环绕第一像素开口121设置有一第一调光层14，以通过该第一调光层14反射或折射掉第一发光单元13a发射的部分光，从而减弱自第一像素开口121出射的光的强度，以使自第一显示区a1和第二显示区a2中以大于预设角度出射的光强度差异小于阈值；同时，能够利用第一调光层14调整自第一像素开口121出射的光的方向一致性。其中，预设角度指视角，预设角度可不小于80
°
。阈值小于5％。
39.其中，如图2所示，第一调光层14具体呈闭环状，即第一调光层14环绕第一像素开口121的外围周向一圈设置，且第一调光层14沿其延伸的周向形成有间隔设置的若干第一凸起141和/或第一凹槽142，即第一调光层14的表面呈凹凸状。若干第一凸起141和/或第一凹槽142用于调节自第一像素开口121以大于预设角度出射的光的强弱，以使得第一显示区a1和第二显示区a2中以大于预设角度出射的光强度差异小于阈值。
40.在一具体实施例中，参见图4至图6，图4为本技术一实施例提供的第一调光层中第一凸起和第一凹槽的交替分布示意图；图5为本技术另一实施例提供的第一调光层中第一凸起和第一凹槽的交替分布示意图；图6为本技术又一实施例提供的第一调光层中第一凸起和第一凹槽的交替分布示意图。第一调光层14包括沿周向依次交替设置的若干第一凸起141和若干第一凹槽142。其中，通过在光路膜层上设置多个第一凸起141和第一凹槽142能够增加自第一像素开口121出射的光在第一调光层14处的杂散光，从而调节不同方向的光通量，以减弱自第一像素开口121出射的光的强度，缩小第一显示区a1和第二显示区a2中以大于预设角度出射的光强度差异。
41.在一实施例中，如图4所示，若干第一凸起141呈间隔式分布，相邻两个第一凸起141界定出一个第一凹槽142；可以理解的是，在该实施例中，第一凸起141的高度h1即为第一凹槽142的深度d1。在一具体实施例中，第一调光层14设置为沿相应的第一像素开口121
的周向依次间隔排布的若干支撑柱16，支撑柱16构成第一凸起141，相邻支撑柱16之间构成第一凹槽142。其中，若干支撑柱16设置于像素定义层12背离基板11的一侧表面，用于支撑掩膜板。这样不仅能够通过支撑柱16避免在蒸镀形成第一发光单元13a和/或第二发光单元13b的过程中，掩膜板划伤像素定义层12，且能够对自第一像素开口121出射的光和/或第二像素出射的光的强弱进行调节，同时无需新增mask工艺，不会增加工艺制程复杂度；同时，也不会增加成本。当然，所述第二调光层15也可设置为若干支撑柱16；除此，还可将第一调光层14和/或第二调光层15设置于支撑柱16的表面；此时，第一调光层14和/或第二调光层15呈间隔式分布。
42.在另一实施例中，如图5所示，第一调光层14设置呈连续环状。具体的，若干第一凸起141相互连接，两个第一凸起141的连接处界定出的内凹结构形成第一凹槽142。当然，在其它实施例中，如图6所示，第一调光层14和/或第二调光层15包括调光层主体，调光层主体具有相背的第一表面和第二表面；调光层主体的第一表面朝向第二表面内凹以形成第一凹槽142；第一凸起141设置于调光层主体的第一表面，并与第一凹槽142间隔设置。当然，如图6所示，第一凹槽142两侧的台阶状结构均可作为第一凸起141使用；台阶状的第一凸起141的连接处界定出的整个内凹结构为第一凹槽142，或者仅台阶状的第一凸起141的底部结构限定出的内凹结构为第一凹槽142。
43.具体的，第一凸起141沿第一调光层14的周向方向的尺寸a1与第一凹槽142沿第一调光层14的周向方向的尺寸b1的比值为2.5-6。这样能够有效保证第一调光层14对调节自第一像素开口121以大于预设角度出射的光的强弱的反射和/或折射效果。其中，第一凸起141沿第一调光层14的周向方向的尺寸a1具体不小于4微米；第一凹槽142沿第一调光层14的周向方向的尺寸b1具体不小于1.5微米。
44.在一实施例中，参阅图1、图7和图8，其中，图7为第二调光层15环绕第二像素开口122设置的俯视图；图8为自第二像素开口122出射的光的示意图；该显示模组还包括环绕于第二像素开口122设置的第二调光层15，第二调光层15用于调节自第二像素开口122以大于预设角度出射的光的强弱，以使得第一显示区a1和第二显示区a2中以大于预设角度出射的光强度差异小于阈值。在具体实施例中，第一调光层14和/或第二调光层15的折射率具体可根据实际需求进行设置。
45.在具体实施例中，如图7所示，第二调光层15也可呈闭环状，且对比图3和图8，可使第一调光层14与第一像素开口121的距离c1小于第二调光层15与第二像素开口122的距离c2；即使第一调光层14更靠近第一像素开口121设置；这样第一调光层14阻挡第一发光单元13a的光束较第二调光层15阻挡第二发光单元13a的光束较多，从而使得第一显示区a1以大于预设角度出射的光的光通量的减少程度大于第二显示区a2以大于预设角度出射的光的光通量的减少程度，进而能够缩小第一显示区a1和第二显示区a2的光强度的差异，有效提高了两个显示区的光强度的均匀性。
46.具体的，第一调光层14与第一像素开口121的距离c1可不小于5微米；第二调光层15与第二像素开口122的距离c2可不小于5微米。
47.在具体实施例中，如图7所示，第二调光层15上在周向也形成间隔设置的若干第二凸起151和第二凹槽152，第二凸起151和第二凹槽152可沿周向依次交替设置，用于增加自第二像素开口122出射的光在第二调光层15处的杂散光，以调节不同方向的光通量，从而调
节自第二像素开口122以大于预设角度出射的光的强弱。其中，第二凸起151和第二凹槽152的具体结构与功能以及二者之间的大小比例、分布等关系与第一凸起141和第一凹槽141的具体结构与功能以及二者之间的大小比例、分布等关系相同或相似，且可实现相同或相似的技术效果，具体可参见上文，在此不再赘述。
48.具体的，对比图3和图8，第一凸起141的高度h1高于第二凸起151的高度h2，或第一凹槽142的深度d1大于第二凹槽152的深度；或相邻两个第一凸起141之间的间距(即b1)小于相邻两个第二凸起151之间的间距(即b2)；或相邻两个第一凹槽142之间的间距(即a1)大于相邻两个第二凹槽152之间的间距(即a2)；以有效保证第一调光层14对第一发光单元13a发射的光的反射或折射率大于第二调光层15对第二发光单元13b发射的光的反射或折射率，从而对自第一像素开口121和自第二像素开口122出射的光的强度进行调节，以尽可能地使第一显示区a1和第二显示区a2的显示亮度趋于相同。
49.在具体实施例中，为了避免第一调光层14对第一发光单元13a的透过率造成影响，和/或避免第二调光层15对第二发光单元13b的透过率造成影响，可将第一调光层14和/或第二调光层15设置在显示模组的非透光膜层。另外，第一调光层14和/或第二调光层15可采用有机胶制备，凹陷处设计狭缝，在制作过程中，有机胶固化前，有机胶具有流淌性，狭缝处的和非狭缝处的有机胶的高度有差异，有机胶烘烤后，形成第一调光层14和/或第二调光层15的凹凸结构。可以理解的是，本技术的第一调光层14和/或第二调光层15的材质可为有机胶；第一调光层14和/或第二调光层15具体可为光敏有机膜层。
50.当然，在显示模组还包括现有显示模组的其它结构，具体可参见现有技术，且可实现相同或相似的技术效果，在此不再赘述。
51.上述显示模组，通过设置第一调光层14和/或第二调光层15，使自不同形状、不同大小的像素开口出射的光经过第一调光层14和/或第二调光层15调制层后，光路方向发生一致性变化。同时在第一调光层14和/或第二调光层15上设置凹凸结构，针对不同像素开口，通过调节凹凸结构的尺寸、与像素开口的位置，以匹配不同开口率情况下大视角的光通量，从而在大视角(大于80
°
)情况下，对应大小不一的第一显示开口和第二像素开口122的第一显示区a1和第二显示区a2的亮度更加接近。另外，通过将第一调光层14和/或第二调光层15设置在非透光膜层的上方，避免了第一调光层14和/或第二调光层15对光透过率的影响，从而进一步保证的两个显示区的光的亮度的一致性。
52.本实施例提供的显示模组，该显示模组通过环绕第一像素开口121设置第一调光层14，并使第一调光层14包括沿第一像素开口121的周向交替设置的若干第一凸起141和/或第一凹槽142，以通过若干第一凸起141和/或第一凹槽142增加自第一像素开口121出射的光在第一调光层14处的杂散光，以调节不同方向的光通量，从而调节自第一像素开口121以大于预设角度出射的光的强弱，从而使得第一显示区a1和第二显示区a2中以大于预设角度出射的光强度差异小于阈值，进而使第一显示区a1和第二显示区a2的亮度均匀性有效提高。
53.在本实施例中，还提供一种显示装置，该显示装置可为手机、电脑、电视等。该显示装置包括电子元件和上述实施例所提供的显示模组。电子元件可为二极管、电阻、电感等。
54.以上仅为本技术的实施方式，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术
领域，均同理包括在本技术的专利保护范围内。