一种测量生长期幼苗株高的装置

1.本实用新型涉及株高测量装置技术领域，具体而言，涉及一种测量生长期幼苗株高的装置。


背景技术：

2.株高是指植株根颈部到顶部之间的距离，其中顶部是指主茎顶部。株高是植物形态学调查工作中最基本的指标之一，其定义为从植株基部至主茎顶部即主茎生长点之间的距离。
3.在农作物及其他植物生长时期，测量其植株高度能够有效的评估其生长程度，进而反映植株生长的各个阶段的健康情况，为改善植物生长所需的光照、水分、土壤养分等生长环境及调节肥料、农药等投入品的使用量提供依据和参考。
4.现有的株高测量装置在进行测量时，由于有的植物很高大，幼苗高度不是很高，不适用于幼苗测量，且测量结果不够准确，在测量幼苗时主要利用卷尺或直尺进行测量，但在利用卷尺或直尺进行测量时，由于土壤较为松软且不平整，卷尺或直尺与地面很难保持垂直状态，因此利用现有卷尺测量到的结果不够准确。


技术实现要素：

5.本实用新型要解决的技术问题是：
6.为了解决现有的株高测量装置不适用于幼苗测量，利用卷尺或直尺测量时由于土壤松软且不平整，难于与地面垂直，测量结果不准确的问题。
7.本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案：
8.本实用新型提供了一种测量生长期幼苗株高的装置，包括壳体，所述壳体包括一体成型的卷尺容纳部和卷尺出口部，所述卷尺容纳部内设置有可伸缩的卷尺，所述卷尺出口部设置有卷尺口，所述卷尺口用于卷尺的进出，所述卷尺容纳部的截面为圆形，所述壳体上设置有水平仪和水平仪架体，所述水平仪架体上设置有水平仪，所述壳体两侧端面的相对位置开设水平仪架体滑槽，所述水平仪架体滑槽沿卷尺容纳部的外沿设置，所述水平仪架体夹设在壳体上且可沿水平仪架体滑槽的延伸方向移动，所述壳体一侧端面设置有360
°
的环形刻度。
9.进一步地，所述卷尺容纳部内设置有盘簧和卷尺，所述卷尺一端与盘簧连接且缠绕在盘簧上，所述卷尺另一端延伸至卷尺口外，所述卷尺口上设置有自动读取模块，所述卷尺上设置有标识，所述自动读取模块用于根据卷尺上的标识生成卷尺读数，所述壳体上设置有电子显示屏，所述电子显示屏与自动读取模块连接，用于显示卷尺读数。
10.进一步地，所述水平仪架体滑槽为带有缺口的环形滑槽，所述缺口部分为环形滑槽的1/4。
11.进一步地，所述水平仪架体为开口处朝下设置的c型结构，所述水平仪架体的端部设置有与水平仪架体滑槽相匹配的滑块。
12.进一步地，所述水平仪架体靠近环形刻度一侧设置有指针。
13.进一步地，所述环形刻度包括中心处的圆点以及以圆点为中心均匀划分出的24个刻度，相邻两个刻度之间的夹角为15
°
，所述圆点为卷尺容纳部截面的圆点。
14.进一步地，当壳体平放至水平处且将水平仪移动至壳体的最高处时，所述壳体上与指针相对位置设置有0
°
刻线，以圆点为中心在壳体端面上依次设置有90
°
刻线、180
°
刻线和 270
°
刻线。
15.进一步地，所述卷尺延伸出卷尺口的一端设置有限位块，所述限位块用于原始状态时使卷尺一端位于卷尺口外。
16.进一步地，还包括语音播报装置，所述语音播报装置与自动读取模块连接，用于将卷尺读数进行播报。
17.进一步地，所述壳体上设置有固定卡扣，所述固定卡扣用于对卷尺进行限位。
18.相较于现有技术，本实用新型的有益效果是：
19.本实用新型一种测量生长期幼苗株高的装置，在壳体两侧端面开设水平仪架体滑槽，水平仪可沿水平仪架体滑槽滑动，壳体一侧设置有360
°
的环形刻度，在进行幼苗株高测量时，将卷尺伸出沿幼苗的生长方向进行测量，此时移动水平仪使其保持水平状态，水平仪架体的位置读出环形刻度的度数，根据斜边即幼苗的尺寸和夹角即环形刻度的度数利用三角函数计算出幼苗株高，即幼苗的垂直高度；
20.在对幼苗的尺寸进行测量时，利用水平仪得出卷尺的倾斜角度，避免土壤对测量结果的影响，使测量结果更加准确，适用于小型植株的株高测量；
21.对于生长方向发生倾斜的幼苗来说，既能够测量幼苗的生长高度，又能得到株高的测量数据，更加全面，且卷尺测量更加方便，便于携带。
附图说明
22.图1为本实用新型一种测量生长期幼苗株高的装置的立体图一；
23.图2为本实用新型一种测量生长期幼苗株高的装置的立体图二；
24.图3为本实用新型一种测量生长期幼苗株高的装置的侧视图；
25.图4为本实用新型的原理图。
26.附图标记说明：
27.1-壳体，2-水平仪架体，3-水平仪架体滑槽，4-水平仪，5-电子显示屏，6-按钮，7-固定卡扣，8-卷尺，9-刻度，10-标识，11-限位块，12-环形刻度，13-直角刻度线，14-自动读取模块，15-语音播报装置，16-存储模块，17-通信模块，18-远程终端，2-1-指针。
具体实施方式
28.在本实用新型的描述中，应当说明的是，各实施例中的术语名词例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示方位的词语，只是为了简化描述基于说明书附图的位置关系，并不代表所指的元件和装置等必须按照说明书中特定的方位和限定的操作及方法、构造进行操作，该类方位名词不构成对本实用新型的限制。
29.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细的说明。
30.具体实施方案一：结合图1至图4所示，本实用新型提供一种测量生长期幼苗株高的装置，包括壳体1，所述壳体1包括一体成型的卷尺容纳部和卷尺出口部，所述卷尺容纳部内设置有可伸缩的卷尺8，所述卷尺出口部设置有卷尺口，所述卷尺口用于卷尺8的进出，所述卷尺容纳部的截面为圆形，所述卷尺出口部截面的两侧直角边分别与卷尺容纳部相切且呈直角设置，所述壳体1上设置有水平仪4和水平仪架体2，所述水平仪架体2上中间位置设置有水平仪4，所述壳体1两侧端面的相对位置开设水平仪架体滑槽3，所述水平仪架体滑槽 3沿卷尺容纳部外沿的形状设置，所述水平架体滑槽3的形状与壳体1的形状相似，所述水平仪架体2为开口处朝下设置的c型结构，所述水平仪架体2的两侧端部均设置有与水平仪架体滑槽3相匹配的滑块，所述滑块位于水平仪架体滑槽3内，所述水平仪架体2夹设在壳体1上且可沿水平仪架体滑槽3的延伸方向移动，所述壳体1一侧端面设置有360
°
的环形刻度12。
31.在进行幼苗株高测量时，将卷尺8伸出沿幼苗的生长方向进行测量，此时移动水平仪4 使其保持水平状态，水平仪架体2的位置读出环形刻度12的度数，根据斜边即幼苗的尺寸和夹角即环形刻度12的度数利用三角函数计算出幼苗株高，即幼苗的垂直高度；
32.在对幼苗的尺寸进行测量时，利用水平仪4得出卷尺8的倾斜角度，避免土壤对测量结果的影响，使测量结果更加准确，适用于小型植株的株高测量；
33.对于生长方向发生倾斜的幼苗来说，既能够测量幼苗的生长高度，又能得到株高的测量数据，更加全面，且卷尺8测量更加方便，便于携带。
34.具体实施方案二：结合图1至图4所示，所述卷尺容纳部内设置有盘簧和卷尺8，所述卷尺8一端与盘簧连接且缠绕在盘簧上，卷尺8另一端延伸至卷尺口外，所述卷尺口上设置有自动读取模块14，所述卷尺8上设置有标识10，所述自动读取模块14用于根据卷尺8上的标识10生成卷尺读数，所述壳体1上设置有电子显示屏5，所述电子显示屏5与自动读取模块14连接，用于显示卷尺读数，还包括语音播报装置15，所述语音播报装置15与自动读取模块14连接，用于将卷尺读数进行播报，所述壳体1内还设置有电池，所述电池用于给自动读取模块14、电子显示屏5和语音播报装置15供电。本实施方案的其他组合和连接关系与具体实施方案一相同。
35.优选地，还包括存储模块16和通信模块17，所述自动读取模块14与存储模块16连接，所述存储模块16和通信模块17连接，所述存储模块16用于对卷尺读数进行存储，所述存储模块16与远程终端18通过通信模块17连接，用于将存储模块16的数据传输到远程终端18 中进行后续计算或存储。
36.本实施方式中，所述自动读取模块14根据所述卷尺8上的标识10自动读取测量结果，如，采用cmos识别的方法、磁头磁粉的识别读取方法、在所述卷尺8上打孔并根据孔径、密度或类型进行识别读取、根据所述卷尺8拉出后的剩余卷尺8厚度进行识别读取、通过滚动计算器进行读取、通过所述卷尺8上的电容值进行读取、通过卷尺8对磁场的改变进行读取、通过所述卷尺8的电压、电流或电阻值的不同来进行读取、通过在所述卷尺8上印刷的不同的识别码进行读取等等。
37.具体实施方案三：结合图1至图4所示，所述水平仪架体滑槽3为带有缺口的环形滑槽，所述缺口部分为环形滑槽的1/4。本实施方案的其他组合和连接关系与具体实施方案二相同。
38.具体实施方案四：结合图1至图4所示，所述水平仪架体2靠近环形刻度12一侧设置有指针2-1，所述指针2-1便于读取环形刻度12的角度。本实施方案的其他组合和连接关系与具体实施方案三相同。
39.具体实施方案五：结合图1至图4所示，所述环形刻度12包括中心处的圆点以及以圆点为中心均匀划分出的24个刻度，相邻两个刻度之间的夹角为15
°
，所述圆点为卷尺容纳部截面的圆点，所述环形刻度12外侧设置有直角刻度线13，所述直角刻度线13包括0
°
刻线、有90
°
刻线、180
°
刻线和270
°
刻线；当壳体1平放至水平处且将水平仪4移动至壳体1的最高处时，所述壳体1上与指针2-1相对位置设置有0
°
刻线，以圆点为中心在壳体1端面上依次设置有90
°
刻线、180
°
刻线和270
°
刻线。本实施方案的其他组合和连接关系与具体实施方案四相同。
40.具体实施方案六：结合图1至图4所示，所述卷尺8延伸出卷尺口的一端设置有限位块 11，所述限位块11用于原始状态时使卷尺8一端位于卷尺口外，所述壳体1上设置有固定卡扣7，所述固定卡扣7用于对卷尺8进行限位。本实施方案的其他组合和连接关系与具体实施方案五相同。
41.虽然本实用新型公开披露如上，但本实用新型公开的保护范围并非仅限于此。本实用新型领域技术人员在不脱离本实用新型公开的精神和范围的前提下，可进行各种变更与修改，这些变更与修改均将落入本实用新型的保护范围。